废气处理装置的控制方法及废气处理装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及半导体技术领域，尤其涉及一种废气处理装置的控制方法及废气处理装置，废气处理装置的控制方法包括：获取通入反应腔的废气类型；根据废气类型获取设定温度；根据设定温度调节反应腔的加热温度。本发明专利技术根据不同类型废气处理所需要的反应温度不同，传送不同的信号至废气处理装置，控制反应腔的加热温度的高低，即控制为反应腔提供加热温度的燃料CH4，CDA，O2等能源用量，实现能源利用的最大化，减少能源浪费，以此实现对能源用量进行控制保证节能。节能。节能。

【技术实现步骤摘要】
废气处理装置的控制方法及废气处理装置


[0001]本专利技术涉及半导体
，尤其涉及一种废气处理装置的控制方法及废气处理装置。

技术介绍

[0002]在半导体制造、液晶面板制造中废气处理装置是很重要的一个附属设备，设备运行时会消耗大量的能源，例如，CH4，CDA，O2等能源，由于根据不同工艺制程所需要的反应温度不同，现有的废气处理装置无法根据实际所需的反应温度控制能源用量，难以实现能源利用的最大化。容易造成能源浪费。

技术实现思路

[0003]本专利技术提供一种废气处理装置的控制方法及废气处理装置，用以解决现有技术中废气处理装置无法根据实际所需的反应温度控制能源用量，难以实现能源利用的最大化。容易造成能源浪费的缺陷，实现能源利用的最大化，减少能源浪费，对能源用量进行控制保证节能的效果。
[0004]本专利技术提供一种废气处理装置的控制方法，包括：
[0005]获取通入反应腔的废气类型；
[0006]根据废气类型获取设定温度；
[0007]根据设定温度调节反应腔的加热温度。
[0008]根据本专利技术提供的一种废气处理装置的控制方法，所述根据设定温度调节反应腔的加热温度的步骤包括：
[0009]获取反应腔的加热温度；
[0010]根据加热温度与设定温度，调节进入反应腔的燃烧气体的流量。
[0011]根据本专利技术提供的一种废气处理装置的控制方法，所述根据加热温度与设定温度，调节进入反应腔的燃烧气体的流量的步骤包括：
[0012]确定加热温度等于设定温度；
[0013]保持进入反应腔的燃烧气体的流量。
[0014]根据本专利技术提供的一种废气处理装置的控制方法，所述根据加热温度与设定温度，调节进入反应腔的燃烧气体的流量的步骤包括：
[0015]确定加热温度不等于设定温度；
[0016]调节进入反应腔的燃烧气体的流量。
[0017]根据本专利技术提供的一种废气处理装置的控制方法，所述调节进入反应腔的燃烧气体的流量的步骤包括：
[0018]调节进入反应腔的燃料气体的流量。
[0019]根据本专利技术提供的一种废气处理装置的控制方法，所述调节进入反应腔的燃烧气体的流量的步骤包括：
[0020]调节进入反应腔的助燃气体的流量。
[0021]本专利技术还提供一种废气处理装置，应用于如上所述的废气处理装置的控制方法，包括反应腔、进气组件和控制器，所述控制器与所述进气组件连接，所述进气组件与所述反应腔连通。
[0022]根据本专利技术提供的一种废气处理装置，所述进气组件包括燃料气体供给系统和助燃气体供给系统。
[0023]根据本专利技术提供的一种废气处理装置，还包括测温组件，测温组件设置于所述反应腔内并与所述控制器连接。
[0024]本专利技术提供的废气处理装置的控制方法，半导体制造装置将通入废气处理装置的反应腔内的废气类型发送至控制器，控制器获取废气类型后处理获得设定温度，设定温度为处理相对应类型废气时反应腔所要达到的温度，控制器根据获得的设定温度向废气处理装置发送指令，从而控制反应腔的加热温度。
[0025]不同的工艺制程会产生不同类型的废气，本专利技术根据不同类型废气处理所需要的反应温度不同，传送不同的信号至废气处理装置，控制反应腔的加热温度的高低，即控制为反应腔提供加热温度的燃料CH4，CDA，O2等能源用量，实现能源利用的最大化，减少能源浪费，以此实现对能源用量进行控制保证节能。
[0026]除了上面所描述的本专利技术解决的技术问题、构成的技术方案的技术特征以及有这些技术方案的技术特征所带来的优点之外，本专利技术的其他技术特征及这些技术特征带来的优点，将结合附图作出进一步说明，或通过本专利技术的实践了解到。
附图说明
[0027]为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0028]图1是本专利技术提供的废气处理装置的结构示意图；
[0029]图2是本专利技术提供的废气处理装置的控制方法的流程示意图；
[0030]附图标记：
[0031]100、反应腔；
[0032]200、进气组件；210、燃料气体供给系统；220、助燃气体供给系统；
[0033]300、控制器；400、测温组件；500、半导体制造装置。
具体实施方式
[0034]下面结合附图和实施例对本专利技术的实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本专利技术，但不能用来限制本专利技术的范围。
[0035]在本专利技术实施例的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利技术实施例和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此
不能理解为对本专利技术实施例的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
[0036]在本专利技术实施例的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本专利技术实施例中的具体含义。
[0037]在本专利技术实施例中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触，或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
[0038]此外，在本专利技术实施例的描述中，除非另有说明，“多个”、“多根”、“多组”的含义是两个或两个以上，“若干个”、“若干根”、“若干组”的含义是一个或一个以上。
[0039]在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本专利技术实施例的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不必须针对的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。此外，在不相互矛盾的情况下，本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同实施例或示例以及不同实施例或示例的特征进行结合本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种废气处理装置的控制方法，其特征在于：包括：获取通入反应腔的废气类型；根据废气类型获取设定温度；根据设定温度调节反应腔的加热温度。2.根据权利要求1所述的废气处理装置的控制方法，其特征在于：所述根据设定温度调节反应腔的加热温度的步骤包括：获取反应腔的加热温度；根据加热温度与设定温度，调节进入反应腔的燃烧气体的流量。3.根据权利要求2所述的废气处理装置的控制方法，其特征在于：所述根据加热温度与设定温度，调节进入反应腔的燃烧气体的流量的步骤包括：确定加热温度等于设定温度；保持进入反应腔的燃烧气体的流量。4.根据权利要求2所述的废气处理装置的控制方法，其特征在于：所述根据加热温度与设定温度，调节进入反应腔的燃烧气体的流量的步骤包括：确定加热温度不等于设定温度；调节进入反应腔的燃烧气体的流...

【专利技术属性】
技术研发人员：张坤，杨春水，杨春涛，宁腾飞，
申请(专利权)人：北京京仪自动化装备技术股份有限公司，
类型：发明
国别省市：