【技术实现步骤摘要】
一种臭氧混合设备和臭氧混合系统
[0001]本技术涉及臭氧混合
具体地,本技术涉及一种臭氧混合设备和臭氧混合系统。
技术介绍
[0002]近年来,臭氧已经被广泛应用于污水处理、衬底表面处理、太阳能电池硅片清洗等领域中。硅片是半导体器件和集成电路的基底材料,随着大规模集成电路的不断发展,对于硅片的清洗的要求也越来越高。相较于常规的化学清洗方法,臭氧清洗一方面可以节省化学试剂,从而降低生产成本,另一方面,也可以减少含氮酸性污染物的排放,从而减轻废液的处理压力。利用臭氧溶液对硅片进行清洗时,该臭氧溶液中的臭氧的浓度是影响硅片清洗效果的重要因素。鉴于此,为了保证对硅片进行清洗时的效果,需要制备较高浓度的臭氧溶液。目前,为了制备较高浓度的臭氧溶液,通常所采样的方法是利用强电离放电技术把氧气电离、电解成高浓度的氧活性粒子,然后通过与水反应生成具有高浓度臭氧的臭氧溶液。因此,目前在制备高浓度的臭氧溶液时所采用的设备复杂且成本较高。制备臭氧溶液过程中也需要对浓度、流量、放电功率等进行严格控制,制备过程比较繁琐。
技术实现思路
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【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种臭氧混合设备,其特征在于,包括:初级混合装置,其用于接入臭氧气体和液体,并且对所述臭氧气体和所述液体进行初次混合,以形成臭氧溶液;次级混合装置,其与所述初级混合装置相连接,并且用于对所述臭氧溶液进行二次混合;以及温度调节装置,其至少布置于所述次级混合装置的外侧,以对所述次级混合装置的温度进行调节,使之维持在适于臭氧溶解的温度或温度范围。2.根据权利要求1所述的设备,其特征在于,所述初级混合装置包括:进气口,其用于接收来自于外部的臭氧气体输入;进液口,其用于接收来自于外部的液体输入;混液腔,其用于将所述臭氧气体和所述液体进行混合,以得到所述臭氧溶液;出液口,其与所述初级混合装置相连接并且用于向所述次级混合装置输出所述臭氧溶液。3.根据权利要求1所述的设备,其特征在于,所述次级混合装置包括旋流组件、混合组件和限流组件中的一种或多种;所述旋流组件布置于所述次级混合装置的进液口处,用于对臭氧气体与液体的混合液进行分流以促进臭氧气体溶解;所述混合组件布置于所述旋流组件和所述次级混合装置的出液口之间,用于增加臭氧气体与溶液混合时的接触面积;以及所述限流组件布置于所述旋流组件和所述次级混合装置的出液口之间,用于调节臭氧气体与液体混合时的压力。4.根据权利要求3所述的设备,其特征在于,所述旋流组件包括至少两个按设定角度交叉设置的旋流片;所述混合组件包括多层孔板;以及所述限流组件包括具有限流通孔的固定...
【专利技术属性】
技术研发人员:韩培丁,
申请(专利权)人:上海谦阳科技有限公司,
类型:新型
国别省市:
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