同轴腔体谐振器间耦合结构制造技术

本实用新型专利技术涉及一种同轴腔体谐振器间耦合结构，其在两个分别放置谐振器的相邻同轴腔体之间的隔离壁上开设耦合窗口，一金属柱体设置于耦合窗口内，所述金属柱体的两端分别与一金属线连接，所述二金属线的另外一端分别与所述同轴腔体的盖板与腔底连接固定。由于本实用新型专利技术同轴腔体谐振器间耦合结构通过二金属线与盖板、腔底连接固定金属柱体，可实现提高容性耦合强度，特别是高频和谐振柱相距比较远的时候，效果较明显。（*该技术在2016年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种同轴腔体谐振器间耦合结构，其在两个分别放置谐振器的相邻同轴腔体之间的隔离壁上开设耦合窗口，一金属柱体设置于耦合窗口内，其特征在于：所述金属柱体的两端分别与一金属线连接，所述二金属线的另外一端分别与所述同轴腔体的盖板与腔底连接固定。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：蒋杭辉，
申请(专利权)人：摩比天线技术深圳有限公司，
类型：实用新型
国别省市：94[中国|深圳]