【技术实现步骤摘要】
一种降低碎片率的薄硅片HJT电池制备方法
[0001]本专利技术涉及太阳能电池制造
,更具体的说是涉及一种降低碎片率的薄硅片HJT电池制备方法。
技术介绍
[0002]硅基异质结太阳能电池因其转化效率高、稳定性好以及简单的低温工艺而受到广泛关注,但是硅基异质结太阳能电池成本较高,大规模应用仍然受到经济上的限制。目前,降低硅基异质结太阳能电池成本的方式主要包括:(1)采用薄硅片代替厚硅片直接降低原材料的消耗量,进而降低成本;(2)加速银浆和靶材的国有化,有效降低了耗材成本;(3)提升设备单位时间内的产能,降低单瓦设备投资。
[0003]但是,传统PERC电池因为背部的铝背场和硅片的温度系数不同,在高温制程(>900℃)中P型硅片容易隐裂、翘边,所以降低硅片厚度的空间十分有限。而HJT电池的制程温度低(<200℃)、热应力小,有望实现薄型化;但是对于N型硅基衬底而言,短路电流随硅片厚度的减小而减小,由于HJT优异的钝化性能,其开路电压随随硅片厚度的减小而增加,从而使电池效率随硅片厚度的减 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种降低碎片率的薄硅片HJT电池制备方法,其特征在于,包括如下步骤:(1)将硅片采用碱性溶液进行各向异性腐蚀,在硅片正背面形成对称的金字塔结构绒面,得到结构化硅片;(2)在所述结构化硅片的正面和背面进行沉积,形成厚度对称非晶硅薄膜层;(3)在所述非晶硅薄膜层的正面和背面进行沉积,形成厚度对称掺杂非晶硅薄膜层;(4)在所述掺杂非晶硅薄膜层的正面和背面进行沉积,形成导电薄膜层;(5)在所述导电薄膜层的正面和背面覆盖金属电极,然后固化。2.根据权利要求1所述降低碎片率的薄硅片HJT电池制备方法,其特征在于,步骤(1)中所述硅片包括N型准方的单晶硅片;所述硅片的厚度为50
‑
200μm、电阻率为0
‑
9Ω
·
cm
‑1;所述碱性溶液采用质量浓度为40
‑
50%的KOH溶液或NaOH溶液;所述金字塔结构的底部对角线长度为1
‑
9μm。3.根据权利要求1所述降低碎片率的薄硅片HJT电池制备方法,其特征在于,步骤(2)中所述沉积的气体为SiH4,温度200
‑
250℃,气体流量700
‑
400sccm,沉积速率为0.5
‑
3A
·
s
‑1,时间为5
‑
30s;所述非晶硅薄膜层的厚度为3
‑
10nm。4.根据权利要求1所述降低碎片率的薄硅片HJT电池制备方法,其特征在于,步骤(3)中所述沉积的气...
【专利技术属性】
技术研发人员:李莎,黄金,杨立友,王继磊,鲍少娟,杨文亮,张娟,杨骥,贾慧君,
申请(专利权)人:晋能清洁能源科技股份公司,
类型:发明
国别省市:
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