脱气装置、基板处理装置和用于将处理溶液脱气的方法制造方法及图纸

技术编号:32617366 阅读:31 留言:0更新日期:2022-03-12 17:46
公开了一种脱气装置、基板处理装置和用于将处理溶液脱气的方法。该脱气装置包括:溶解气体抽取喷嘴,该溶解气体抽取喷嘴从包括溶解气体的处理溶液中以气泡的形式抽取所述溶解气体;第一罐,该第一罐从处理溶液中在穿过溶解气体抽取喷嘴的情况下将抽取的所述气泡分离;和第二罐,该第二罐具有稳定化空间,在稳定化空间中,从第一罐储存处理溶液并稳定处理溶液,从该处理溶液中已经分离气泡。溶解气体抽取喷嘴配置为使得出口的直径小于中间通道的直径,以便处理溶液中的溶解气体通过空化现象以气泡的形式被抽取。以气泡的形式被抽取。以气泡的形式被抽取。

【技术实现步骤摘要】
脱气装置、基板处理装置和用于将处理溶液脱气的方法
[0001]相关技术的交叉引用
[0002]本申请要求于2020年9月10日提交韩国知识产权局的、申请号为 10

2020

0116370的韩国专利申请的优先权和权益,其全部内容通过引用结合在本申请中。


[0003]本文描述的本专利技术构思的实施方案涉及一种在用处理溶液处理基板的装置中去除处理溶液中的气泡的脱气装置、基板处理装置和用于将处理溶液脱气的方法。

技术介绍

[0004]在半导体制造工艺中,光刻工艺是在晶圆上形成所需图案的工艺。光刻工艺在旋转器本地设施(spinner local facility)中执行,该旋转器本地设施通常连接到曝光设施并连续执行沉积工艺、曝光工艺和显影工艺。旋转器本地设施依序或选择性地执行六甲基二硅氮烷(HMDS)工艺、沉积工艺、烘烤工艺和显影工艺。
[0005]图11是示出了执行常规沉积工艺的处理装置中的处理溶液供应装置的视图。
[0006]如图11所示,在现有的处理溶液供应装置中,在连接泵2本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种脱气装置,其安装在处理溶液供应管线上,所述脱气装置包括:溶解气体抽取喷嘴,所述溶解气体抽取喷嘴配置为从包括溶解气体的处理溶液中以气泡的形式抽取所述溶解气体;和第一罐,所述第一罐配置为从所述处理溶液中在穿过所述溶解气体抽取喷嘴的情况下将抽取的所述气泡分离。2.根据权利要求1所述的脱气装置,其中,所述溶解气体抽取喷嘴配置为使得连接所述溶解气体抽取喷嘴的入口和出口的中间通道的直径大于所述入口的直径和所述出口的直径。3.根据权利要求1所述的脱气装置,其中,所述溶解气体抽取喷嘴包括:主体,所述主体具有中间通道,所述处理溶液通过所述中间通道在所述中间通道的内部流动;在所述中间通道的一侧上的入口,所述处理溶液通过所述入口被引入;在所述中间通道的相对侧上的出口,所述处理溶液通过所述出口被排放,并且其中,所述出口的横截面小于所述中间通道的横截面,使得所述处理溶液中的所述溶解气体通过空化现象以所述气泡的形式被抽取。4.根据权利要求1所述的脱气装置,其中,所述第一罐包括:第一供应口,所述第一供应口设置在所述第一罐的上端处,并且将所述处理溶液和所述气泡通过所述第一供应口引入;第一箱体,所述第一箱体具有连接到所述第一供应口的上空间;第二箱体,所述第二箱体配置成围绕所述第一箱体并具有外空间,在所述外空间中,将从所述上空间引入的所述处理溶液和所述气泡在所述第一箱体和所述第二箱体之间分离;和第一排出口,所述第一排出口位于所述外空间的上端处,并且将从所述处理液中分离的所述气泡通过所述第一排出口从所述外空间排出。5.根据权利要求4所述的脱气装置,其中,所述第一箱体包括:第一流动通道,所述处理溶液和所述气泡通过所述第一流动通道从所述上空间流动到所述外空间;下空间,所述下空间在所述上空间的下方通过水平分隔墙分隔开,并且在所述下空间中,从所述外空间储存所述处理溶液,从所述处理溶液中已经去除所述气泡;和第二流动通道,所述处理溶液通过所述第二流动通道在所述外空间与所述下空间之间流动,所述第二流动通道位于分隔所述下空间和所述外空间的竖直分隔墙的下端处。6.根据权利要求4所述的脱气装置,其中,所述第一罐还包括:第一排放口,将所述处理溶液通过所述第一排放口从下空间排放,并且所述第二箱体还包括:挡板,所述挡板在水平方向上安装在所述外空间中,使得通过第一流动通道引入至所述外空间中的所述处理溶液不会被引入至所述第一排出口中。7.根据权利要求1所述的脱气装置,其还包括:第二罐,所述第二罐具有稳定化空间,在所述稳定化空间中,从所述第一罐储存并稳定所述处理溶液,从所述处理溶液中已经分离所述气泡。8.根据权利要求7所述的脱气装置,其中,所述第二罐包括:
第二供应口,所述第二供应口设置在所述第二罐的下端处,并且通过所述第二供应口从所述第一罐引入所述处理溶液,从所述处理溶液中已经分离所述气泡;第二排出口,所述第二排出口设置在所述第二罐的上端处,并且将从稳定在所述稳定化空间中的所述处理溶液中分离的气泡通过所述第二排出口排出;和第二排放口,所述第二排放口设置在所述第二罐的下端处,并且将储存在所述稳定化空间中的所述处理溶液通过所述第二排放口排放。9.一种脱气装置,其安装在处理溶液供应管线上,所述脱气装置包括:溶解气体抽取喷嘴,所述溶解气体抽取喷嘴配置为从包括溶解气体的处理溶液中以气泡的形式抽取所述溶解气体;第一罐,所述第一罐配置为从所述处理溶液中在穿过所述溶解气体抽取喷嘴的情况下将抽取的所述气泡分离;和第二罐,所述第二罐具有稳定化空间,在所述稳定化空间中,从所述第一罐储存并稳定所述处理溶液,从所述处理溶液中已经分离所述气泡,其中,所述溶解气体抽取喷嘴配置为使得出口的直径小于中间通道的直径,以使得所述处理溶液中的所述溶解气体通过空化现象以所述气泡的形式被抽取。10.根据权利要求9所述的脱气装置,其中,所述第一罐包括:第一供应口,所述第一供应口设置在所述第一罐的上端处,并且将所述处理溶液和所述气泡通过所述第一供应口引入;第一箱体,所述第一箱体具有:上空间,所述上空间连接到所述第一供应口;和下空间,在所述下空间中,从外空间储存所述处理溶液,从所述处理溶液中已经去除所述气泡;第二箱体,所述第二箱体配置为围绕所述第一箱体,并具有所述外空间,在所述外空间中,将从所述上空间引入的所述处理溶液和所述气泡在所述第一箱体和所述第二箱体之间分离;第一排出口,所述第一排出口位于所述外空间的上端处,并且将从所述处理溶液分离的所述气泡通过所述第一排出口从所述外空间中排出;和第一排放口,所述第一排放口设置在所述外空间的下端处,并且将储存在所述下空间中的所述处理溶液通过所述第一排放口排放,并且其中,所述第一箱体包括:第一流动通道,所述处理...

【专利技术属性】
技术研发人员:金大城
申请(专利权)人:细美事有限公司
类型:发明
国别省市:

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