【技术实现步骤摘要】
对准标记评估方法及对准标记评估系统
[0001]本专利技术实施例涉及半导体领域,特别涉及一种对准标记评估方法及对准标记评估系统。
技术介绍
[0002]在进行曝光工艺时,需要选择合适的光源以及合适的对准标记,对准标记信号的质量决定了晶圆是否可以正常曝光以及曝光精准度和曝光稳定性。在进行新产品开发时,需要在可选的对准标记中选择最优的对准标记,从而提高同一批次不同晶圆之间以及不同晶圆批次之间的曝光稳定性。
技术实现思路
[0003]本专利技术实施例提供一种对准标记评估方法及对准标记评估系统,有利于提高对准标记的评估效率。
[0004]为解决上述问题,本专利技术实施例提供一种对准标记评估方法,包括:将具有待评估对准标记的晶圆的制程配方编码设定为评估编码;获取所述晶圆的当前的制程配方编码;若检测到所述当前的制程配方编码为所述评估编码,则将待执行步骤切换为对准标记评估步骤;执行所述对准标记评估步骤,以对所述待评估对准标记进行评估。
[0005]另外,设定所述评估编码包括:将包含有多个晶圆的晶圆批次的制程 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种对准标记评估方法,其特征在于,包括:将具有待评估对准标记的晶圆的制程配方编码设定为评估编码;获取所述晶圆的当前的制程配方编码;若检测到所述当前的制程配方编码为所述评估编码,则将待执行步骤切换为对准标记评估步骤;执行所述对准标记评估步骤,以对所述待评估对准标记进行评估。2.根据权利要求1所述的对准标记评估方法,其特征在于,设定所述评估编码包括:将包含有多个晶圆的晶圆批次的制程配方编码设定为所述评估编码,所述晶圆批次具有所述待评估对准标记;获取所述当前的制程配方编码包括:获取所述晶圆批次的当前的制程配方编码。3.根据权利要求1所述的对准标记评估方法,其特征在于,所述晶圆具有多个所述待评估对准标记;所述对所述待评估对准标记进行评估,包括:对每一所述待评估对准标记进行评估。4.根据权利要求1所述的对准标记评估方法,其特征在于,在执行所述对准标记评估步骤之前,还包括:将掩膜编码设定为虚拟掩膜编码,以跳过光掩膜版载入步骤;其中,所述掩膜编码用于指定待载入的光掩膜版,所述虚拟掩膜编码未指定光掩膜版。5.根据权利要求4所述的对准标记评估方法,其特征在于,还包括:将所述晶圆的第一掩膜编码设定为所述虚拟掩膜编码;所述将掩膜编码设定为虚拟掩膜编码,包括:读取所述第一掩膜编码,以将用于指定光掩膜版的第二掩膜编码设定为所述虚拟掩膜编码。6.根据权利要求1所述的对准标记评估方法,其特征在于,还包括:建立连通晶圆位置和机台位置的动态路径,所述机台用于获取所述当前的制程配方编码以及用于执行所述对准标记评估步骤;在建立所述动态路径之后,控制晶圆沿所述动态路径传送。7.根据权利要求6所述的对准标记评估方法,其特征在于,在进行评估之后,...
【专利技术属性】
技术研发人员:胡立元,
申请(专利权)人:长鑫存储技术有限公司,
类型:发明
国别省市:
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