【技术实现步骤摘要】
一种可抗PID的硅片表面镀膜的臭氧喷淋系统
[0001]本技术涉及磁铁加工装置
，尤其涉及一种可抗PID 的硅片表面镀膜的臭氧喷淋系统。
技术介绍
[0002]目前可以明确的是PID现象和电池片表面的反射层有关，提高反射层的折射率可以有效地降低PID现象的发生。含Si多的减反层比含N多的减反层更可以抵抗PID现象。当减反层的折射率大于2.2后， PID现象不再被观察到。而当折射率小于2.08后，组件很难通过PID 测试。目前有不少的光伏电池厂在做针对电池和PID的关系的测试中也发现了类似的现象，所以改变折射率成为抗PID的手段之一。目前为多晶电池厂供应制造臭氧设备的厂家多且杂；多晶电池臭氧抗PID 必须需要的，但是现有的刻蚀臭氧电柜设计简陋，没有兼顾安全考虑，刻蚀臭氧电柜的喷淋箱罩一体化设置，设计不合理，不便于维修。
技术实现思路
[0003]本技术的目的是为了解决上述技术中存在的问题，而提出的一种可抗PID的硅片表面镀膜的臭氧喷淋系统。
[0004]为了实现上述目的，本技术采用了如下技术方案：
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种可抗PID的硅片表面镀膜的臭氧喷淋系统，包括支撑钢架(1)和臭氧电柜(2)，所述支撑钢架(1)的上方固定安装有臭氧电柜(2)，其特征在于，所述臭氧电柜(2)内壁的上方固定安装有蜂鸣器(3)，所述臭氧电柜(2)内部的左侧固定安装有臭氧发生器(4)，所述臭氧发生器(4)右侧的排气端固定安装有排气管(5)，所述排气管(5)的中部固定安装有电磁阀(501)，所述臭氧电柜(2)的内部下方固定安装有温度传感器(6)，所述臭氧电柜(2)内部的右下方固定安装有空气开关(7)，所述臭氧电柜(2)的正表面右侧固定安装有固定控制面板(8)，所述支撑钢架(1)的底端通过支架固定安装有臭氧喷淋箱(9)，所述臭氧喷淋箱(9)的底端竖向开孔设置有通孔(901)，所述臭氧电柜(2)内壁的右上方和右下方均固定安装有风机(10)。2.根据权利要求1所述的可抗PID的硅片表面镀膜的臭氧喷淋系统，其特征在于，所述臭氧发生器...
【专利技术属性】
技术研发人员：卢艳兵，简学勇，胡浩仑，范立峰，李建敏，
申请(专利权)人：赛维LDK太阳能高科技新余有限公司，
类型：新型
国别省市：
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