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带表面层的物品制造技术

技术编号:32507948 阅读:57 留言:0更新日期:2022-03-02 10:40
提供:表面层的指纹污迹去除性、耐摩擦性以及与保护薄膜的密合性优异的带表面层的物品。一种带表面层的物品,其特征在于,具有基材及设置于基材的表面的表面层,表面层包含在碳数2以上的氟烷基的碳

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】带表面层的物品


[0001]本专利技术涉及在基材的表面设置有包含氟原子的表面层的带表面层的物品。

技术介绍

[0002]具有全氟聚醚链和水解性甲硅烷基的含氟醚化合物能够在基材的表面形成显示出高润滑性、拒水拒油性等的表面层,可适宜地用于表面处理剂。包含含氟醚化合物的表面处理剂可用作:要求长期维持即使用手指反复摩擦表面层、拒水拒油性也不易降低的性能(耐摩擦性)和通过擦拭而能够容易地去除附着于表面层的指纹的性能(指纹污迹去除性)的用途、例如构成触摸面板的手指触摸面的构件、眼镜片、可穿戴式终端的显示器的表面处理剂。
[0003]作为在基材的表面能够形成耐摩擦性和指纹污迹去除性优异的表面层的含氟醚化合物,提出了具有全氟聚醚链和多个水解性甲硅烷基的含氟醚化合物(专利文献1、2)。
[0004]现有技术文献
[0005]专利文献
[0006]专利文献1:国际公开第2017/038832号
[0007]专利文献2:国际公开第2017/187775号

技术实现思路

[0008]专利技术要解决的问题
[0009]使用表面处理剂在基材的表面形成表面层后,直到在接下来的工序中使用带表面层的物品的期间,为了保护表面层,有时在表面层的表面贴合能剥离的保护薄膜。
[0010]本专利技术人等对使用包含含氟醚化合物的表面处理剂对基材的整个主表面进行表面处理而得到的带表面层的物品进行了评价,结果证实了表面层与与保护薄膜的密合性不充分。例如,在保存、运输带表面层的物品时,担心保护薄膜从表面层剥离、或灰尘有可能进入保护薄膜与表面层之间形成的间隙中。
[0011]本专利技术的目的在于提供表面层的指纹污迹去除性、耐摩擦性以及与保护薄膜的密合性优异的带表面层的物品。
[0012]用于解决问题的方案
[0013]本专利技术提供具有下述[1]~[12]的构成的带表面层的物品。
[0014][1]一种带表面层的物品,其特征在于,
[0015]具有基材及设置于前述基材的表面的表面层,
[0016]前述表面层包含在碳数2以上的氟烷基的碳

碳原子之间具有

O

的基团,
[0017]利用下述方法求出的前述表面层中的归一化F强度为0.38~0.53。
[0018](归一化F强度的求法)
[0019]准备包含4.96质量%的氟原子的玻璃(Bureau of Analysed Samples Ltd.公司制、IGS G4 Fluoride Opal Glass)作为标准样品。通过荧光X射线分析装置,分别测定表面
层中的氟原子强度和标准样品中的氟原子强度。将表面层中的氟原子强度除以标准样品中的氟强度而得到的值作为归一化F强度。
[0020][2]根据[1]的带表面层的物品,其中,在前述碳数2以上的氟烷基的碳

碳原子之间具有

O

的基团的分子量为1500~4000。
[0021][3]根据[1]或[2]的带表面层的物品,其中,前述表面层是由含氟醚化合物、或者含氟醚组合物形成的表面层,所述含氟醚化合物包含在碳数2以上的氟烷基的碳

碳原子之间具有

O

的基团及反应性甲硅烷基,所述含氟醚组合物包含所述含氟醚化合物。
[0022][4]根据[3]的带表面层的物品,其中,前述含氟醚化合物为下式(1)所示的化合物。
[0023][R
f

]a
Q[

T]b
ꢀꢀ
(1)
[0024]其中,
[0025]R
f
为在碳数2以上的氟烷基的碳

碳原子之间具有

O

的基团(其中,Q侧末端的碳原子上键合有至少1个氟原子。),具有2个以上R
f
时,2个以上的R
f
任选相同或不同,
[0026]Q为a+b价的连接基团,
[0027]T为

Si(R)3‑
c
(L)
c
,具有2个以上T时,2个以上的T任选相同或不同,
[0028]R为烷基,
[0029]L为水解性基团或羟基,T中的2个以上的L任选相同或不同,
[0030]a为1以上的整数,
[0031]b为1以上的整数,
[0032]c为2或3。
[0033][5]根据[4]的带表面层的物品,其中,前述b为2~20的整数。
[0034][6]根据[4]或[5]的带表面层的物品,其中,前述a为1~6的整数。
[0035][7]根据[4]~[6]中任一项的带表面层的物品,其中,前述R
f
为下式(g1)所示的基团。
[0036]R
f1

(OR
f2
)
m
‑ꢀꢀ
(g1)
[0037]其中,
[0038]R
f1
为碳数1~6的氟烷基,
[0039]R
f2
为碳数1~6的氟亚烷基(其中,与Q键合的R
f2
的Q侧末端的碳原子上键合有至少1个氟原子。),
[0040]m为1以上的整数,m为2以上时,(OR
f2
)
m
任选由2种以上的OR
f2
构成。
[0041][8]根据[7]的带表面层的物品,其中,前述R
f1
为全氟烷基。
[0042][9]根据[7]或[8]的带表面层的物品,其中,前述m为4~40的整数,全部R
f2
中的全氟亚烷基的比例为60~100摩尔%。
[0043][10]根据[4]~[9]中任一项的带表面层的物品,其中,前述Q为如下基团:式(g2

1)所示的基团(其中,a=d1+d3和b=d2+d4。)、式(g2

2)所示的基团(其中,a=e1和b=e2。)、式(g2

3)所示的基团(其中,a=1和b=2。)、式(g2

4)所示的基团(其中,a=h1和b=h2。)、式(g2

5)所示的基团(其中,a=i1和b=i2。)、或式(g2

6)所示的基团(其中,a=1和b=1。)。
[0044][0045](

A

Q
12

)
e1
C(R2)4‑
e1

e2
(

Q
22

)
e2
(g2

2)
[0046]本文档来自技高网
...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种带表面层的物品,其特征在于,具有基材及设置于所述基材的表面的表面层,所述表面层包含在碳数2以上的氟烷基的碳

碳原子之间具有

O

的基团,利用下述方法求出的所述表面层中的归一化F强度为0.38~0.53,归一化F强度的求法如下:准备包含4.96质量%的氟原子的玻璃作为标准样品,通过荧光X射线分析装置,分别测定表面层中的氟原子强度和标准样品中的氟原子强度,将表面层中的氟原子强度除以标准样品中的氟强度而得到的值作为归一化F强度,所述包含4.96质量%的氟原子的玻璃为Bureau of Analysed Samples Ltd.公司制的IGS G4 Fluoride Opal Glass。2.根据权利要求1所述的带表面层的物品,其中,在所述碳数2以上的氟烷基的碳

碳原子之间具有

O

的基团的分子量为1500~4000。3.根据权利要求1或2所述的带表面层的物品,其中,所述表面层是由含氟醚化合物、或者含氟醚组合物形成的表面层,所述含氟醚化合物包含在碳数2以上的氟烷基的碳

碳原子之间具有

O

的基团及反应性甲硅烷基,所述含氟醚组合物包含所述含氟醚化合物。4.根据权利要求3所述的带表面层的物品,其中,所述含氟醚化合物为下式(1)所示的化合物,[R
f

]
a
Q[

T]
b
ꢀꢀ
(1)其中,R
f
为在碳数2以上的氟烷基的碳

碳原子之间具有

O

的基团,其中,Q侧末端的碳原子上键合有至少1个氟原子,具有2个以上R
f
时,2个以上的R
f
任选相同或不同,Q为a+b价的连接基团,T为

Si(R)3‑
c
(L)
c
,具有2个以上T时,2个以上的T任选相同或不同,R为烷基,L为水解性基团或羟基,T中的2个以上的L任选相同或不同,a为1以上的整数,b为1以上的整数,c为2或3。5.根据权利要求4所述的带表面层的物品,其中,所述b为2~20的整数。6.根据权利要求4或5所述的带表面层的物品,其中,所述a为1~6的整数。7.根据权利要求4~6中任一项所述的带表面层的物品,其中,所述R
f
为下式(g1)所示的基团,R
f1

(OR
f2
)
m
‑ꢀꢀ
(g1)其中,R
f1
为碳数1~6的氟烷基,R
f2
为碳数1~6的氟亚烷基,其中,与Q键合的R
f2
的Q侧末端的碳原子上键合有至少1个氟原子,m为1以上的整数,m为2以上时,(OR
f2
)
m
任选由2种以上的OR
f2
构成。8.根据权利要求7所述的带表面层的物品,其中,所述R
f1
为全氟烷基。9.根据权利要求7或8所述的带表面层的物品,其中,所述m为4~40的整数,全部R
f2
中的
全氟亚烷基的比例为60~100摩尔%。10.权利要求4~9中任一项所述的带表面层的物品,其中,所述Q为式(g2

1)所示的基团、式(g2

2)所示的基团、式(g2

3)所示的基团、式(g2

4)所示的基团、式(g2

5)所示的基团或式(g2

6)所示的基团,式(g2

1)中,a=d1+d3和b=d2+d4,式(g2

2)中,a=e1和b=e2,式(g2

3)中,a=1和b=2,式(g2

4)中,a=h1和b=h2,式(g2

5)中,a=i1和b=i2,式(g2

6)中,a=1和b=1,(

A

Q
12

)
e1
C(R2)4‑
e1

e2
(

Q
22

)
e2
ꢀꢀ
(g2

2)

A

Q
13

N(

Q
23

)2ꢀꢀ
(g2

3)(

A

Q
14

)
h1
Z(

Q
24

)
h2
ꢀꢀ
(g2

4)(

A

Q
15

)
i1
Si(R3)4‑
i1

i2
(

Q
25

)
i2
ꢀꢀ
(g2

5)

A

Q
26
‑ꢀꢀ
(g2

6)其中,式(g2

1)~式(g2

6)中,A侧与R
f
连接,Q
22
、Q
23
、Q
24
、Q
25
或Q
26
侧与T连接,A为单键、

C(O)NR6‑


C(O)



O



SO2NR6‑
,Q
11
为单键、

O

、亚烷基、或者在碳数2...

【专利技术属性】
技术研发人员:富依勇佑星野泰辉安乐英一郎石关健二秋山良司
申请(专利权)人:AGC株式会社
类型:发明
国别省市:

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