掩模检查设备和方法技术

本发明专利技术提供一种掩模检查设备和方法。具体地，提供一种用于检查沉积掩模的掩模检查方法和掩模检查设备。掩模检查方法包括：提供包括多个第一开口和多个第二开口的沉积掩模，第一开口中的每一个具有在平面图中不同于第二开口中的每一个的形状的形状；指定第一组和第二组，每一组包括第一开口中的至少一个和第二开口中的至少一个；比较第一组的图像与第二组的图像；以及确定第一组和第二组是否有缺陷，第一组中的第一开口和第二开口的布置与第二组中的第一开口和第二开口的布置相同。中的第一开口和第二开口的布置相同。中的第一开口和第二开口的布置相同。

【技术实现步骤摘要】
掩模检查设备和方法
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请要求于2020年6月29日在韩国知识产权局提交的韩国专利申请第10
‑
2020
‑
0079076号的优先权和权益，其全部内容通过引用合并于此。


[0003]本公开的实施例的各方面涉及一种掩模检查设备和一种掩模检查方法。

技术介绍

[0004]通常，有机发光二极管(OLED)显示器由于其优异的亮度和视角特性，并且与液晶显示装置不同，其不需要任何单独的光源，而作为下一代平板显示装置受到关注。在消除了任何单独光源的必要性的情况下，可以制造出具有重量轻且薄的设计的OLED显示器。OLED显示器的特征还在于低功耗、高亮度和高反应速率等。
[0005]OLED显示器包括多个有机发光二极管，每个有机发光二极管由阳极、有机发光层和阴极组成。在制造有机发光二极管的工艺中，将沉积掩模设置在基板上，并通过形成在沉积掩模中的开口将有机材料提供到基板上，以形成有机发光层。随着技术的进步，显示装置具有越来越多的有机发光二极管，以满足高分辨率要求。
[0006]有机发光二极管的数量增加意味着用于制造有机发光层的沉积掩模的开口的数量增加。这种沉积掩模由包括金属的材料形成，并且由于制造问题，可能并非多个开口中的所有开口都具有图案中所期望的精确形状。这可能导致沉积图案中的缺陷。为了避免这种缺陷，预先检查掩模。

技术实现思路

[0007]根据本公开的实施例的各方面，提供了能够一次检查具有不同形状的开口的掩模的任何缺陷的掩模检查设备和方法。
[0008]然而，本公开的各方面不限于本文阐述的那些方面。通过参考下面提供的本公开的详细描述，本公开的以上和其它方面对于本公开所属领域的普通技术人员将变得更加显而易见。
[0009]根据一个或多个实施例，一种掩模检查方法包括：提供包括多个第一开口和多个第二开口的沉积掩模，第一开口中的每一个具有在平面图中不同于第二开口中的每一个的形状的形状；指定第一组和第二组，每一组包括第一开口中的至少一个和第二开口中的至少一个；比较第一组的图像与第二组的图像；以及基于比较第一组的图像与第二组的图像的结果，确定第一组和第二组是否有缺陷，其中，第一组中的第一开口和第二开口的布置与第二组中的第一开口和第二开口的布置相同。
[0010]根据一个或多个实施例，一种掩模检查方法包括：提供包括多个第一开口和多个第二开口的沉积掩模，第一开口中的每一个具有在平面图中不同于第二开口中的每一个的形状的形状；准备包括多个第一开口中的第一开口和多个第二开口中的第二开口的参考图
像；指定多个组，每一组包括多个第一开口中的第一开口和多个第二开口中的第二开口；比较多个组中的组的图像与参考图像；以及基于比较该组的图像与参考图像的结果确定该组是否有缺陷，其中，该组中的第一开口和第二开口的布置与参考图像中的第一开口和第二开口的布置相同。
[0011]根据一个或多个实施例，一种用于检查沉积掩模的掩模检查设备，沉积掩模包括多个第一开口和多个第二开口，第二开口中的每一个具有在平面图中不同于第一开口中的每一个的形状的形状，该掩模检查设备包括：被配置为支撑沉积掩模的支撑台；视觉单元，与支撑台间隔开并且被配置为捕获沉积掩模的图像；以及控制器，被配置为基于由视觉单元捕获的图像来确定第一开口和第二开口是否有缺陷，其中，控制器指定第一组和第二组，每一组包括第一开口中的至少一个和第二开口中的至少一个，并且控制器比较通过对第一组进行成像而获得的第一图像与通过对第二组进行成像而获得的第二图像。
[0012]根据实施例的掩模检查设备和方法能够一次检查具有不同形状的开口的掩模的任何缺陷。
[0013]然而，本公开的方面和效果不限于上述方面和效果，并且各种其他方面和效果包括在本说明书中。
附图说明
[0014]通过参考附图更详细地描述本公开的一些示例实施例，本公开的以上和其他方面及特征将变得更加显而易见，附图中：
[0015]图1是示意地示出根据实施例的掩模检查设备的侧视图；
[0016]图2是掩模的局部区域的放大平面图；
[0017]图3是沿图2的线III
‑
III
′
截取的截面图；
[0018]图4是示意性地示出使用图2和图3的沉积掩模的沉积工艺的图；
[0019]图5是示意性地示出利用沉积掩模制造的有机发光显示装置的截面图；
[0020]图6是示出根据实施例的掩模检查方法的流程图；
[0021]图7是示意性地示出根据实施例的掩模检查方法的平面图；
[0022]图8是示意性地示出根据另一实施例的掩模检查方法的平面图；
[0023]图9是示出根据另一实施例的显示装置的像素布置的示意性布局图；
[0024]图10是示意性地示出根据另一实施例的掩模检查方法的平面图；
[0025]图11是示出根据另一实施例的显示装置的像素布置的示意性布局图；
[0026]图12是示意性地示出根据另一实施例的掩模检查设备的侧视图；并且
[0027]图13是示出根据另一实施例的掩模检查方法的流程图。
具体实施方式
[0028]现在将在本文中参考其中示出本专利技术的一些示例实施例的附图来更充分地描述本专利技术。然而，本专利技术可以以不同的形式来体现，而不应被解释为限于本文阐述的实施例。相反，提供这些实施例是使得本公开是全面和完整的，并且这些实施例将本专利技术的范围充分地传达给本领域技术人员。
[0029]应理解，当层被称为在另一层或基板“上”时，它可以直接在另一层或基板上，或者
也可以存在一个或多个中间层。在整个说明书中，相同的附图标记表示相同的部件。在附图中，为了清楚起见，可能夸大了层和区域的厚度。
[0030]尽管本文中可以使用术语“第一”、“第二”等来描述各种元件，但是这些元件不应受这些术语的限制。这些术语可以用于将一个元件与另一个元件区分开。因此，下面讨论的第一元件可以被称为第二元件，而不背离一个或多个实施例的教导。将元件描述为“第一”元件可以不要求或暗示第二元件或其他元件的存在。本文中还可以使用术语“第一”、“第二”等来区分不同类别或不同组的元件。为简明起见，术语“第一”、“第二”等可以分别表示“第一类型(或第一组)”、“第二类型(或第二组)”等。
[0031]应理解，当元件或层被称为位于另一元件或层“上”、“连接到”、“耦接到”或“邻近于”另一元件或层时，该元件或层可直接位于另一元件或层上、直接连接到、耦接到或邻近于另一元件或层，或者可存在一个或多个中间元件或层。相反，当元件或层被称为“直接位于”另一元件或层“上”、“直接连接到”、“直接耦接到”或“紧邻于”另一元件或层时，不存在中间元件或层。如本文所使用的，术语“基本上”、“大约”和类似术语被用作近似术语而不是程度术语，并且旨在说明本领域普通技术人员将认识到的测量值或计算值的固有偏差。
[0032本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种掩模检查方法，包括：提供包括多个第一开口和多个第二开口的沉积掩模，所述多个第一开口中的每一个具有在平面图中不同于所述多个第二开口中的每一个的形状的形状；指定第一组和第二组，每一组包括所述多个第一开口中的至少一个和所述多个第二开口中的至少一个；比较所述第一组的图像与所述第二组的图像；以及基于比较所述第一组的所述图像与所述第二组的所述图像的结果，确定所述第一组和所述第二组是否有缺陷，其中，所述第一组中的所述第一开口和所述第二开口的布置与所述第二组中的所述第一开口和所述第二开口的布置相同。2.根据权利要求1所述的掩模检查方法，其中，所述第一组的所述图像与所述第二组的所述图像的所述比较包括：比较所述第一组的面积与所述第二组的面积。3.根据权利要求2所述的掩模检查方法，进一步包括：在所述第一组的所述图像与所述第二组的所述图像的所述比较之前，通过使用视觉单元对所述第一组和所述第二组进行成像，以获取所述第一组的所述图像和所述第二组的所述图像，所述视觉单元包括电荷耦合器件传感器，所述电荷耦合器件传感器包括多个像素。4.根据权利要求3所述的掩模检查方法，其中，所述第一组的所述面积与所述第二组的所述面积的所述比较包括：将所述电荷耦合器件传感器的所述多个像素中的布置在所述第一组内的一部分像素的数量与所述电荷耦合器件传感器的所述多个像素中的布置在所述第二组内的另一部分像素的数量进行比较。5.根据权利要求1所述的掩模检查方法，其中，所述第一组的所述图像与所述第二组的所述图像的所述比较包括：比较所述第一组的形状与所述第二组的形状。6.根据权利要求5所述的掩模检查方法，进一步包括：通过使用视觉单元对所述第一组和所述第二组进行成像，所述视觉单元包括电荷耦合器件传感器，所述电荷耦合器件传感器包括多个像素，其中，所述第一组的所述形状与所述第二组的所述形状的所述比较包括：将所述电荷耦合器件传感器的所述多个像素中的布置在所述第一组内的一部分像素的形状与所述电荷耦合器件传感器的所述多个像素中的布置在所述第二组内的另一部分像素的形状进行比较。7.根据权利要求6所述的掩模检查方法，其中，所述第一组的所述图像与所述第二组的所述图像的所述比较进一步包括：在水平方向上旋转所述第一组的所述图像和所述第二组的所述图像中的任何一个。8.根据权利要求5所述的掩模检查方法，其中，所述第一组的所述图像与所述第二组的所述图像的所述比较进一步包括：利用检查员的裸眼进行比较。9.一种掩模检查方法，包括：提供包括多个第一开口和多个第二开口的沉积掩模，所述多个第一开口中的每一个具有在平面图中不同于所述多个第二开口中的每一个的形状的形状；准备包括所述多个第一开口中的第一开口和所述多个第二开口中的第二开口的参考图像；
指定多个组，每一组包括所述多个第一开口中的第一开口和所述多个第二开口中的第二开口；比较所述多个组中的组的图像与所述参考图像；以...

【专利技术属性】
技术研发人员：白大源，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：