【技术实现步骤摘要】
掩模检查设备和使用掩模检查设备的掩模检查方法
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请要求2020年5月11日提交的韩国专利申请第10
‑
2020
‑
0056141号的优先权及权益，为了所有目的通过引用将该韩国专利申请合并于此，如同在本文中充分地阐述一样。
[0003]本专利技术的示例性实施方式总体涉及掩模检查设备，并且更具体地，涉及用于检查具有多个开口的掩模的掩模检查设备以及使用该掩模检查设备检查掩模的方法。
技术介绍
[0004]通常，有机发光显示装置包括通过真空沉积法形成的有机层和/或电极。各种掩模被用于为制造有机发光显示装置而执行的沉积工艺。开口狭缝形成在每个掩模中，并且有机发光显示装置的可靠性取决于开口狭缝的状态。
[0005]在该
技术介绍
部中公开的上述信息仅用于理解本专利技术构思的背景，并且因此可能包含不构成现有技术的信息。
技术实现思路
[0006]申请人认识到，有必要开发一种检查用于诸如制造有机发光显示装置的沉积工艺的掩模中...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种掩模检查方法，包括步骤：获取掩模的图像，所述掩模包括具有多个第一开口的第一区域以及具有多个第二开口的第二区域；将所述图像划分成与所述第一区域相对应的第一局部图像以及与所述第二区域相对应的第二局部图像；基于所述第一局部图像检查所述掩模的所述第一区域；以及基于所述第二局部图像检查所述掩模的所述第二区域。2.根据权利要求1所述的掩模检查方法，其中：检查所述第一区域的所述步骤包括：将所述第一局部图像中的多个第一图案彼此进行比较的步骤，所述第一图案与所述第一开口相对应；并且检查所述第二区域的所述步骤包括：将所述第二局部图像中的多个第二图案彼此进行比较的步骤，所述第二图案与所述第二开口相对应。3.根据权利要求2所述的掩模检查方法，其中：将所述多个第一图案彼此进行比较的所述步骤包括：将第一目标图案与第一相邻图案中的每个进行比较的步骤，所述第一目标图案是所述多个第一图案中的一个第一图案，所述第一相邻图案是所述多个第一图案中的邻近所述第一目标图案的其他第一图案；并且将所述多个第二图案彼此进行比较的所述步骤包括：将第二目标图案与第二相邻图案中的每个进行比较的步骤，所述第二目标图案是所述多个第二图案中的一个第二图案，所述第二相邻图案是所述多个第二图案中的邻近所述第二目标图案的其他第二图案。4.根据权利要求3所述的掩模检查方法，其中：将所述第一目标图案与所述第一相邻图案中的每个进行比较的所述步骤被执行为：将所述第一目标图案的形状与所述第一相邻图案中的每个的形状进行比较，并在所述第一目标图案的所述形状与所述第一相邻图案中的每个的所述形状相同时确定所述第一区域是正常的；并且将所述第二目标图案与所述第二相邻图案中的每个进行比较的所述步骤被执行为：将所述第二目标图案的形状与所述第二相邻图案中的每个的形状进行比较，并在所述第二目标图案的所述形状与所述第二相邻图案中的每个的所述形状相同时确定所述第二区域是正常的。5.根据权利要求3所述的掩模检查方法，其中：将所述第一目标图案与所述第一相邻图案中的每个进行比较的所述步骤被执行为：将所述第一目标图案的尺寸与所述第一相邻图案中的每个的尺寸进行比较，并在所述第一目标图案的所述尺寸与所述第一相邻图案中的每个的所述尺寸相同时确定所述第一区域是正常的；并且将所述第二目标图案与所述第二相邻图案中的每个进行比较的所述步骤被执行为：将所述第二目标图案的尺寸与所述第二相邻图案中的每个的尺寸进行比较，并在所述第二目标图案的所述尺寸与所述第二相邻图案中的每个的所述尺寸相同时确定所述第二区域是正常的。6.根据权利要求2所述的掩模检查方法，其中，将所述图像划分成所述第一局部图像和所述第二局部图像的所述步骤包括：设置所述第一局部图像与所述第二局部图像之间的边
界的步骤。7.根据权利要求6所述的掩模检查方法，其中，设置所述第一局部图像与所述第二局部图像之间的所述边界的所述步骤被执行为：将其中所述图像中的图案之间的节距从所述多个第一图案之间的第一节距改变为所述多个第二图案之间的第二节距的区域设置为所述边界，所述第二节距与所述第一节距不同。8.根据权利要求7所述的掩模检查方法，其中，所述多个第一图案中的每个具有第一形状，并且所述多个第二图案中的每个具有与所述第一形状相同的第二形状。9.根据权利要求7所述的掩模检查方法，其中，所述多个第一图案中的每个具有第一尺寸，并且所述多个第二图案中的每个具有与所述第一尺寸相同的第二尺寸。10.根据权利要...
【专利技术属性】
技术研发人员：金俸奭，金兑炫，黄相敦，权美慧，宋一河，禹志旼，
申请(专利权)人：慧因思有限公司，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。