一种胶嘴座承载装置和涂胶显影设备制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种胶嘴座承载装置，包括：承载体，胶嘴座设置于所述承载体上；所述承载体包括喷嘴放置孔和喷嘴冲洗孔，所述胶嘴座的喷嘴置于所述喷嘴放置孔内部，所述喷嘴放置孔与所述喷嘴冲洗孔在所述喷嘴所在位置处相通；所述喷嘴冲洗孔直径小于所述喷嘴放置孔的半径，并与所述喷嘴放置孔相切设置，使冲洗液在所述喷嘴放置孔中形成涡流，以清洗所述喷嘴。通过喷嘴放置孔与喷嘴冲洗孔两者以相切的方式设置，使冲洗液从喷嘴冲洗孔进入喷嘴放置孔后形成涡流，对喷嘴放置孔内的喷嘴进行冲洗，进而去除喷嘴处的结块，改善光刻胶吐出量的稳定性，提高工艺的稳定性。本发明专利技术还提供了一种涂胶显影设备。涂胶显影设备。涂胶显影设备。

【技术实现步骤摘要】
一种胶嘴座承载装置和涂胶显影设备


[0001]本专利技术涉及半导体
，尤其涉及一种胶嘴座承载装置和涂胶显影设备。

技术介绍

[0002]涂胶显影机是半导体生产过程中不可或缺的设备之一，涂胶显影机主要包括涂胶单元、显影单元和热盘等。其中，涂胶单元负责在晶片表面均匀地涂覆光刻胶层，对光刻胶的吐出量有着很高的要求。胶嘴座承载装置及胶嘴座作为光刻胶的直接接触者，对光刻胶的吐出量有着直接影响。在胶嘴处于光刻工艺的等待阶段时，胶嘴放置在承载装置中，而光刻胶的溶剂因为具有挥发性，易使喷嘴处出现结块堵塞，造成吐出量的变化。
[0003]现有技术是依赖化学品的挥发保湿胶嘴，其防止光刻胶结块的效果不佳。另一现有技术是将直接浸泡在保湿液中实现保湿，胶嘴内的光刻胶不可避免地被稀释一部分，从而对涂覆性能产生影响。
[0004]因此，有必要开发一种新型胶嘴座承载装置和涂胶显影设备，以避免现有技术存在的上述问题。

技术实现思路

[0005]本专利技术的目的在于提供一种胶嘴座承载装置和涂胶显影设备，能够避免光刻胶在喷嘴处的结块造成光刻胶吐本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种胶嘴座承载装置，其特征在于，包括：承载体，胶嘴座设置于所述承载体上；所述承载体包括喷嘴放置孔和喷嘴冲洗孔，所述胶嘴座的喷嘴置于所述喷嘴放置孔内部，所述喷嘴放置孔与所述喷嘴冲洗孔在所述喷嘴所在位置处相通；冲洗管道，所述冲洗管道连通所述喷嘴冲洗孔，以提供冲洗液；所述喷嘴冲洗孔直径小于所述喷嘴放置孔的半径，并与所述喷嘴放置孔相切设置，使冲洗液在所述喷嘴放置孔中形成涡流，以清洗所述喷嘴。2.根据权利要求1所述的胶嘴座承载装置，其特征在于，所述喷嘴放置孔与所述喷嘴冲洗孔相互垂直。3.根据权利要求1所述的胶嘴座承载装置，其特征在于，所述喷嘴放置孔为阶梯孔，其孔段直径随喷嘴直径减小而减小。4.根据权利要求1所述的胶嘴座承载装置，其特征在于，所述承载体还包括排废圆形槽和排废冲洗孔，所述排废圆形槽设置于所述喷嘴放置孔的液流下游，以接收所述喷嘴放置孔内流出的废液，所述排废冲洗孔连通于所述排废圆形槽的底部，其直径小于所述排废圆形槽的半径，并与所述排废圆形槽相切设置，使冲...

【专利技术属性】
技术研发人员：张龙彪，吴海洋，栾忠平，柴大利，
申请(专利权)人：沈阳芯源微电子设备股份有限公司，
类型：发明
国别省市：