一种集成晶圆加工用划片装置制造方法及图纸

技术编号:32489005 阅读:40 留言:0更新日期:2022-03-02 09:55
本实用新型专利技术公开了一种集成晶圆加工用划片装置,包括:加工台,加工台的上端安装有晶圆切割组件及冷却组件,加工台的上端开设有通口,加工台的通口口壁上固定连接有放置环,加工台的内部且位于通口的下方开设有内腔,内腔的内部设置有收集盘,收集盘转动连接于内腔内,收集盘的侧面与内腔贴合,本实用新型专利技术具有以下优点:通过设置收集盘,冷却液被收集在收集盘的收集槽中,避免冷却液积累在晶片表面对加工造成影响,当收集盘的收集槽一侧转动至相对通孔时,冷却液可从通孔排出,通过设置推板,收集盘内的推板可推出晶片,方便拿取晶片,避免了晶片表面的冷却液湿滑导致不便拿取的问题。题。题。

【技术实现步骤摘要】
一种集成晶圆加工用划片装置


[0001]本技术涉及晶圆加工
,具体涉及一种集成晶圆加工用划片装置。

技术介绍

[0002]晶圆是半导体电路中的重要部件,在晶圆进行制造时,需要对晶片切割形成一个个晶圆,即为晶圆的划片过程,晶片切割过程中产生的热量会对晶圆产生影响,因此需要采用冷却液进行冷却。
[0003]现有技术下,在对晶片进行切割并喷洒冷却液时,冷却液直接洒落在加工槽中,没有及时排出,冷却液积累在加工槽中会对晶圆的加工造成影响,并且加工完成后由于冷却液积累在加工槽中导致晶片表面湿滑,也不方便取出晶片。

技术实现思路

[0004]本技术要解决的技术问题是在对晶片进行切割并喷洒冷却液时,冷却液直接洒落在加工槽中,没有及时排出,冷却液积累在加工槽中会对晶圆的加工造成影响,并且加工完成后由于冷却液积累在加工槽中导致晶片表面湿滑,也不方便取出晶片,为此提供一种集成晶圆加工用划片装置。
[0005]本技术解决技术问题采用的技术方案是:一种集成晶圆加工用划片装置,其包括:加工台,所述加工台的上端安装有晶圆切割组件及冷却组件,本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种集成晶圆加工用划片装置,包括:加工台(1),其特征在于,所述加工台(1)的上端安装有晶圆切割组件及冷却组件,所述加工台(1)的上端开设有通口(2),所述加工台(1)的通口(2)口壁上固定连接有放置环(3),所述加工台(1)的内部且位于通口(2)的下方开设有内腔(4),所述内腔(4)的内部设置有收集盘(5),所述收集盘(5)转动连接于内腔(4)内,所述收集盘(5)的侧面与内腔(4)贴合,所述收集盘(5)的底端开设有开口(9),所述开口(9)内设置有推板(11),所述推板(11)的长度小于放置环(3)的内长。2.如权利要求1所述的一种集成晶圆加工用划片装置,其特征在于,所述内腔(4)的内壁一侧中部嵌合安装有电机(...

【专利技术属性】
技术研发人员:肖笛肖广源罗红军
申请(专利权)人:上海华友金裕微电子有限公司
类型:新型
国别省市:

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