【技术实现步骤摘要】
一种集成晶圆加工用划片装置
[0001]本技术涉及晶圆加工
,具体涉及一种集成晶圆加工用划片装置。
技术介绍
[0002]晶圆是半导体电路中的重要部件,在晶圆进行制造时,需要对晶片切割形成一个个晶圆,即为晶圆的划片过程,晶片切割过程中产生的热量会对晶圆产生影响,因此需要采用冷却液进行冷却。
[0003]现有技术下,在对晶片进行切割并喷洒冷却液时,冷却液直接洒落在加工槽中,没有及时排出,冷却液积累在加工槽中会对晶圆的加工造成影响,并且加工完成后由于冷却液积累在加工槽中导致晶片表面湿滑,也不方便取出晶片。
技术实现思路
[0004]本技术要解决的技术问题是在对晶片进行切割并喷洒冷却液时,冷却液直接洒落在加工槽中,没有及时排出,冷却液积累在加工槽中会对晶圆的加工造成影响,并且加工完成后由于冷却液积累在加工槽中导致晶片表面湿滑,也不方便取出晶片,为此提供一种集成晶圆加工用划片装置。
[0005]本技术解决技术问题采用的技术方案是:一种集成晶圆加工用划片装置,其包括:加工台,所述加工台的上端安装有晶圆 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种集成晶圆加工用划片装置,包括:加工台(1),其特征在于,所述加工台(1)的上端安装有晶圆切割组件及冷却组件,所述加工台(1)的上端开设有通口(2),所述加工台(1)的通口(2)口壁上固定连接有放置环(3),所述加工台(1)的内部且位于通口(2)的下方开设有内腔(4),所述内腔(4)的内部设置有收集盘(5),所述收集盘(5)转动连接于内腔(4)内,所述收集盘(5)的侧面与内腔(4)贴合,所述收集盘(5)的底端开设有开口(9),所述开口(9)内设置有推板(11),所述推板(11)的长度小于放置环(3)的内长。2.如权利要求1所述的一种集成晶圆加工用划片装置,其特征在于,所述内腔(4)的内壁一侧中部嵌合安装有电机(...
【专利技术属性】
技术研发人员:肖笛,肖广源,罗红军,
申请(专利权)人:上海华友金裕微电子有限公司,
类型:新型
国别省市:
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