【技术实现步骤摘要】
一种五层干膜抗蚀剂用聚酯薄膜及其制备方法
[0001]本专利技术涉及一种五层干膜抗蚀剂用聚酯薄膜及其制备方法，属于薄膜
技术介绍
[0002]干膜抗蚀剂是微电子行业刻蚀电路板或电镀过程中使用的一种光敏材料，通常由支撑薄膜、感光性树脂材料形成的光致抗蚀层和保护薄膜三层层叠而成，其中，支撑薄膜主要采用聚酯薄膜，使用时，先剥离保护薄膜，使露出的光致抗蚀层紧密粘贴在基底的导电性基材上，然后将印刷有电路的玻璃板或薄膜(称为光掩模)密合在支撑薄膜侧，从该光掩模侧照射光线，光线透过印刷在光掩模上的透明部分后再穿过聚酯薄膜层到达感光树脂材料上，感光树脂发生曝光反应，曝光完成后除去光掩模和支撑薄膜，用适当溶剂将光致抗蚀层中的未曝光部分溶解除掉，再实施刻蚀或电镀处理而形成图形，最后用去除剂剥离去除感光树脂曝光反应生成的固化物，从而实现图形转移，在导电性基材上得到光掩模上印刷的电路。
[0003]近年来，随着电子产品的微型化和功能高度集成化，电路板图案日趋精细复杂，相应电路板制造过程中，保证干膜抗蚀剂曝光过程的高尺寸精度和高分辨...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种五层干膜抗蚀剂用聚酯薄膜，其特征在于：所述五层干膜抗蚀剂用聚酯薄膜，总厚度14~16微米，中间三层为A/B/C三层层状结构组成的聚酯基膜，A/B/C三层厚度比为4~7:36~42:4~7，在A/B/C结构组成中A层和C层的表面再各自涂布一层厚度为3~5微米的功能性涂层；所述A/B/C三层层状结构组成的聚酯基膜，B所用材料为纯PET树脂，A层和C层所用材料为添加二氧化硅的间苯二甲酸改性PET树脂；所述功能性涂层，为水性聚氨酯涂布液经在线涂布工艺得到。2.一种五层干膜抗蚀剂用聚酯薄膜的制备方法，其特征在于：包括水性聚氨酯涂布液的制备，间苯二甲酸改性PET树脂母粒的制备和五层聚酯薄膜的制备。3.根据权利要求2所述的一种五层干膜抗蚀剂用聚酯薄膜的制备方法，其特征在于：所述水性聚氨酯涂布液的制备，涂布液具体配方为：20~30wt%水性聚氨酯树脂5~9wt%水性封闭性异氰酸酯交联剂2~4wt%水性润湿剂0.3~0.7wt%消泡剂10~13wt%改性纳米二氧化硅爽滑剂1.0~1.5wt%抗静电剂其余用去离子水补足；涂布液制备工艺为：将水性润湿剂加入水性聚氨酯树脂中，1500~2500转/分下搅拌15~20分钟后，持续搅拌状态下，依次加入水性封闭性异氰酸酯交联剂，消泡剂，爽滑剂，抗静电剂，去离子水后，2000~3500转/分下搅拌10~20分钟后得到水性聚氨酯涂布液。4.根据权利要求3所述的一种五层干膜抗蚀剂用聚酯薄膜的制备方法，其特征在于：所述改性纳米二氧化硅爽滑剂，制备方法为：10~15wt%盐酸溶液中加入其质量50~60%的硅酸钾，再加入硅酸钾质量3~6%硅烷偶联剂KH560，常温1000~1300转/分下搅拌反应2~3小时，再加入硅酸钾质量75~90%的氯化钾和硅酸钾质量40~55%的无水乙醇，900~1200转/分速率下搅拌混合0.5~1小时，得到的白色乳浊液体于10000~30000转/分条件下高速离心后得到的澄清透明溶液为改性纳米二氧化硅爽滑剂。5.根据权利要求3所述的一种五层干膜抗蚀剂用聚酯薄膜的制备方法，其特征在于：所述水性聚氨酯树脂为环氧改性水性聚氨酯树脂，环氧成分质量含量为9%；所述水性封闭性异氰酸酯交联剂为朗盛Trixene
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BI201、Trixene
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DP9C/213、Trixene
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BI200中的一种；所述水性润湿剂为毕克BYK
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346、BYK
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307和BYK
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333按质量比5:1:1的混合物；所述消泡剂为巴斯夫FoamStar
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ST 2410、Dehydran 1293、FoamStar
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A10三种的一种；所述抗静电剂为十...
【专利技术属性】
技术研发人员：王国明，于涛，叶世强，周慧芝，
申请(专利权)人：富维薄膜山东有限公司，
类型：发明
国别省市：
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