一种改善光学元件面形的薄膜制备方法技术

本发明专利技术涉及一种改善光学元件面形的薄膜制备方法。通过具有张应力的高折射率膜层对现有薄膜应力进行匹配，减弱薄膜应力对光学元件面形的不利影响，从而改善光学元件面形。此方法显著改善了光学元件面形，并且可以减少工序，降低成本。降低成本。降低成本。

【技术实现步骤摘要】
一种改善光学元件面形的薄膜制备方法


[0001]本实专利技术属于光学元件加工处理领域，具体是指一种改善光学元件面形的薄膜制备方法。

技术介绍

[0002]在光学系统中最为核心的光学镜面，其面形质量的好坏直接影响光学系统的整体性能。在高能激光系统中，对单晶硅反射镜的面形要求也越来越高。我们一般用干涉仪量测的峰谷值（PV）来评价光学元件的面形。PV越小，表示光学元件面形精度越高。光学元件表面镀制薄膜的过程中，由于薄膜应力作用，光学元件会发生形变，从而对面形产生不利影响。目前的解决方法一般是非镜面镀膜进行应力平衡，从而在不影响光谱前提下改善光学元件面形。但这种方法会增加工序和成本，并且不适用于非镜面有光谱要求的光学元件，因此需要新方法来改善光学元件面形。从薄膜应力出发，减少薄膜应力对光学元件面形影响是一个很好的方向。

技术实现思路

[0003]本专利技术的目的在于提供一种改善光学元件面形的薄膜制备方法，从而降低薄膜应力对光学元件面形的不利影响。
[0004]本专利技术改善光学元件面形的薄膜制备方法，依次包括如下步骤：（1）基片本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种改善光学元件面形的薄膜制备方法，依次包括如下步骤：（1）基片处理：将基片清洗或擦拭干净；（2）镀制：利用离子束辅助沉积方式，在一定温度及低真空下，将设计的高折射率膜层（H1、H2）和低折射率膜层（L）镀制到基片。2.根据权利要求1所述的方法，其特征...

【专利技术属性】
技术研发人员：钟强，马新建，吴先云，廖洪平，陈伟，陈秋华，
申请(专利权)人：福建福晶科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：