高SERS强度的Ag/SiO2共溅射单层膜制备方法技术

本发明专利技术公开了高SERS强度的Ag/SiO2共溅射单层膜制备方法，包括以下步骤：(1)硅片亲水处理；(2)制备Ag/SiO2共溅射单层膜；(3)利用氢氟酸对Ag/SiO2共溅射单层膜进行腐蚀，得高SERS强度Ag/SiO2共溅射单层膜。本发明专利技术设计并制备得到了一种可实现比单层金属膜SERS增强效果更高的金属

【技术实现步骤摘要】
高SERS强度的Ag/SiO2共溅射单层膜制备方法


[0001]本专利技术涉及纳米材料制备
，尤其是涉及高SERS强度的Ag/SiO2共溅射单层膜制备方法。

技术介绍

[0002]利用磁控溅射、化学反应等技术可以实现不同程度上改善单层金属膜SERS强度较低的缺陷，制备简单可控，成本较低，可搭载在其他结构上，转移性较好。
[0003]磁控溅射是物理气相沉积(Physical Vapor Deposition，PVD)的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点。它的工作原理是指电子在电场E的作用下，在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞，使其电离产生出Ar正离子和新的电子；新电子飞向基片，Ar离子在电场作用下加速飞向阴极靶，并以高能量轰击靶表面，使靶材发生溅射。
[0004]表面增强拉曼散射(SERS)技术克服了传统拉曼光谱与生俱来的信号微弱的缺点，可以使得拉曼强度增大几个数量级。其增强因子可以高达1014～1015倍，足以探测到单个分子的拉曼信号，这些都是传统本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.高SERS强度的Ag/SiO2共溅射单层膜制备方法，其特征在于，包括以下步骤：(1)硅片亲水处理：将清洗后的硅片置于烧杯中，加入氨水、过氧化氢和去离子水的混合溶液中，煮至沸腾后保持煮沸，冷却后，倒出混合溶液，硅片用去离子水、无水乙醇反复超声；(2)制备Ag/SiO2共溅射单层膜：将银靶和二氧化硅靶分别倾斜40
°
，同时向硅片溅射，在硅片表面生成Ag/SiO2共溅射单层膜；(3)利用氢氟酸对Ag/SiO2共溅射单层膜进行腐蚀，得高SERS强度Ag/SiO2共溅射单层膜。2.根据权利要求1所述的高SERS强度的Ag/SiO2共溅射单层膜制备方法，其特征在于，步骤(1)中，所述清洗后的硅片通过以下步骤制得：用去离子水和无水乙醇分别浸泡干净硅片，超声处理。3.根据权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵晓宇，梁龙杰，温嘉红，张永军，钟家松，张鉴，孔哲，王雅新，
申请(专利权)人：杭州电子科技大学，
类型：发明
国别省市：