一种改善光学元件面形的薄膜制备方法技术资料下载

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本发明涉及一种改善光学元件面形的薄膜制备方法。通过具有张应力的高折射率膜层对现有薄膜应力进行匹配，减弱薄膜应力对光学元件面形的不利影响，从而改善光学元件面形。此方法显著改善了光学元件面形，并且可以减少工序，降低成本。降低成本。降低成本。该专利属于福建福晶科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过福建福晶科技股份有限公司授权不得商用。

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