预估镀膜速率获取系统技术方案

技术编号:32460864 阅读:23 留言:0更新日期:2022-02-26 08:49
本发明专利技术提供一种预估镀膜速率获取系统,包括:通信连接的数据测量装置、日志数据库和服务器,所述服务器包括处理器和存储器,所述日志数据库的第i条记录包括(i,w1

【技术实现步骤摘要】
预估镀膜速率获取系统


[0001]本申请涉及镀膜
,具体涉及一种预估镀膜速率获取系统。

技术介绍

[0002]现有所谓测量镀膜速率的主要手段是依靠晶振仪,即在真空室内,镀膜基盘附近设立测量点,安装晶振片。在镀膜过程中,晶振片与产片同时被镀膜,晶振片被镀上膜后,振动频率会同步衰减,根据这个衰减速度推断镀膜速率。
[0003]然而,这种通过晶振片测量镀膜速率的方案,完全依赖光控或晶控的测量结果作为依据,但是受设备存在的干扰因素影响,测量结果是存在偏差的。测量点是在陪镀位置,它是固定的而不是随着产品一起运动,因此产品所在的运动机构带来的如震动,速度偏差等不能直接反馈到测量结果里,因而导致测量结果和实际是存在偏差的差异。另外,由于测量设备本身存在的误差,也会影响测量结果。即,现有的测量方案中,存在以下技术问题:(1)测量过程中,会出现异常峰值,增加分析工作量;(2)设备硬件与环境存在干扰因素,会导致测量数据波动;(3)测量设备存在精确度误差,不考虑进去会导致测量结果存在偏差。

技术实现思路

[0004]针对上述技术问题,本专利技术实施例提供一种预估镀膜速率获取系统,能够在不增加额外的物料成本的前提下,提高生产过程中的镀膜测量准确度。
[0005]本申请采用的技术方案为:
[0006]本专利技术实施例提供一种预估镀膜速率获取系统,包括:通信连接的数据测量装置、日志数据库和服务器,所述服务器包括处理器和存储器,所述存储器中存储有计算机程序,所述日志数据库的第i条记录包括(i,w1r/>i
,w2
i
,Y
i
), w1
i
为第i个采样周期对应的实测镀膜速率修正系数,w2
i
为第i个采样周期对应的预估镀膜速率修正系数,Y
i
为第i个采样周期对应的预估镀膜速率i的取值为1到n

1,n为采样周期的数量;所述数据测量装置用于按照预设采样周期获取实测镀膜速率并发送给所述处理器;
[0007]其中,在接收到采样周期n测量的实测镀膜速率X
n
时,所述处理器执行计算机程序以实现如下步骤:
[0008]S100,从日志数据库中获取w1
n
‑1、w2
n
‑1和Y
n
‑1;
[0009]S200,基于X
n
和获取的w1
n
‑1、w2
n
‑1和Y
n
‑1确定Y
n

[0010]S300,将获取的Y
n
存储到日志数据库中;
[0011]S400,设置n=n+1。
[0012]本专利技术实施例中,通过本次采样周期的实测镀膜速率和上一次预估镀膜速率以及相应的实测镀膜速率修正系数和预估镀膜速率修正系数,能够消除外界干扰和测量装置本身测量误差所导致的实测镀膜速率的不准确,从而能够获得尽可能准确的反应实际镀膜速率的预估镀膜速率。
附图说明
[0013]为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0014]图1为本专利技术实施例提供的预估镀膜速率获取系统的结构示意图;
[0015]图2为本专利技术实施例的实测镀膜速率修正系数和实测镀膜速率修正误差的迭代曲线图;
[0016]图3为在存在外界干扰的情况下,实测镀膜速率和采用本专利技术实施例的获取系统得到的预估镀膜速率的曲线图。
具体实施方式
[0017]下面将结合本申请实施例中的附图,对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例,本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本申请保护的范围。
[0018]图1为本专利技术实施例提供的预估镀膜速率获取系统的结构示意图;图2为本专利技术实施例的实测镀膜速率修正系数和实测镀膜速率修正误差的迭代曲线图;图3为在存在外界干扰的情况下,实测镀膜速率和采用本专利技术实施例的获取系统得到的预估镀膜速率的曲线图。
[0019]如图1所示,本专利技术实施例提供一种预估镀膜速率获取系统,包括:通信连接的数据测量装置1、日志数据库2和服务器3。
[0020]在本专利技术实施例中,数据测量装置1可设置在真空镀膜室内的固定位置处,并且不随产片旋转而旋转,用于对真空镀膜过程中的产片的镀膜速率进行测量,可为现有装置例如晶振仪。数据测量装置1用于按照预设采样周期获取实测镀膜速率并发送给服务器3。预设采样周期可根据实际需要进行设置,可为用户自定义设置,例如,可为0.001s,这样,使得相邻两个采样周期之间的间隔变得很短,能够更好的对镀膜速率进行监测,以便能够控制均匀镀膜。
[0021]在本专利技术实施例中,所述日志数据库2的第i条记录可包括(i,w1
i
,w2
i
, Y
i
),w1
i
为第i个采样周期对应的实测镀膜速率修正系数,w2
i
为第i个采样周期对应的预估镀膜速率修正系数,Y
i
为第i个采样周期对应的预估镀膜速率i 的取值为1到n

1,n为采样周期的数量,n可根据实际需要进行设置,例如,在一个示意性实施例中,n=1,说明日志数据库中只存储一条记录,本领域的技术人员可以知晓,每计算新的采样周期的数据后,会迭代之前的记录。又例如,n可为预设值例如20,以便能够查阅之前的记录,这说明日志数据库中存储有20条记录,本领域的技术人员可以知晓,在日志数据库中的记录大于20 条时,会迭代最开始的记录,依次类推,反复迭代更新。为简化计算,可设置初始值Y0=0,初始值P0=1,但并不局限于此,还可以设置为其它利于简化的值。
[0022]所述服务器3可包括处理器和存储器,所述存储器中存储有计算机程序和配置文件。初始值Y0和初始值P0可存储在配置文件中。
[0023]其中,在接收到采样周期n测量的实测镀膜速率X
n
时,所述处理器执行计算机程序以实现如下步骤:
[0024]S100,从日志数据库中获取w1
n
‑1、w2
n
‑1和Y
n
‑1;
[0025]S200,基于X
n
和获取的w1
n
‑1、w2
n
‑1和Y
n
‑1确定Y
n

[0026]S300,将获取的Y
n
存储到日志数据库中;
[0027]S400,设置n=n+1。
[0028]通过上述步骤S100~S本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种预估镀膜速率获取系统,其特征在于,包括:通信连接的数据测量装置、日志数据库和服务器,所述服务器包括处理器和存储器,所述存储器中存储有计算机程序,所述日志数据库的第i条记录包括(i,w1
i
,w2
i
,Y
i
),w1
i
为第i个采样周期对应的实测镀膜速率修正系数,w2
i
为第i个采样周期对应的预估镀膜速率修正系数,Y
i
为第i个采样周期对应的预估镀膜速率i的取值为1到n

1,n为采样周期的数量;所述数据测量装置用于按照预设采样周期获取实测镀膜速率并发送给所述处理器;其中,在接收到采样周期n测量的实测镀膜速率X
n
时,所述处理器执行计算机程序以实现如下步骤:S100,从日志数据库中获取w1
n
‑1、w2
n
‑1和Y
n
‑1;S200,基于X
n
和获取的w1
n
‑1、w2
n
‑1和Y
n
‑1确定Y
n
;S300,将获取的Y
n
存储到日志数据库中;S400,设置n=n+1。2.根据权利要求1所述的预估镀膜速率获取系统,其特征在于,还包括配置文件,所述配置文件中存储有预设的数据测量装置的测量误差Q;所述日志数据库中的第i条记录还包括P
i
,P
i
为第i个采样周期对应的实测镀膜速率修正误差,与Q相关。3.根据权利要求2所述的预估镀膜速率获取系统,其特征在于,在S200之后还...

【专利技术属性】
技术研发人员:鲁程龙高福利井英立
申请(专利权)人:布勒莱宝光学设备北京有限公司
类型:发明
国别省市:

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