【技术实现步骤摘要】
预估镀膜速率获取系统
[0001]本申请涉及镀膜
,具体涉及一种预估镀膜速率获取系统。
技术介绍
[0002]现有所谓测量镀膜速率的主要手段是依靠晶振仪,即在真空室内,镀膜基盘附近设立测量点,安装晶振片。在镀膜过程中,晶振片与产片同时被镀膜,晶振片被镀上膜后,振动频率会同步衰减,根据这个衰减速度推断镀膜速率。
[0003]然而,这种通过晶振片测量镀膜速率的方案,完全依赖光控或晶控的测量结果作为依据,但是受设备存在的干扰因素影响,测量结果是存在偏差的。测量点是在陪镀位置,它是固定的而不是随着产品一起运动,因此产品所在的运动机构带来的如震动,速度偏差等不能直接反馈到测量结果里,因而导致测量结果和实际是存在偏差的差异。另外,由于测量设备本身存在的误差,也会影响测量结果。即,现有的测量方案中,存在以下技术问题:(1)测量过程中,会出现异常峰值,增加分析工作量;(2)设备硬件与环境存在干扰因素,会导致测量数据波动;(3)测量设备存在精确度误差,不考虑进去会导致测量结果存在偏差。
技术实现思路
[0004] ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种预估镀膜速率获取系统,其特征在于,包括:通信连接的数据测量装置、日志数据库和服务器,所述服务器包括处理器和存储器,所述存储器中存储有计算机程序,所述日志数据库的第i条记录包括(i,w1
i
,w2
i
,Y
i
),w1
i
为第i个采样周期对应的实测镀膜速率修正系数,w2
i
为第i个采样周期对应的预估镀膜速率修正系数,Y
i
为第i个采样周期对应的预估镀膜速率i的取值为1到n
‑
1,n为采样周期的数量;所述数据测量装置用于按照预设采样周期获取实测镀膜速率并发送给所述处理器;其中,在接收到采样周期n测量的实测镀膜速率X
n
时,所述处理器执行计算机程序以实现如下步骤:S100,从日志数据库中获取w1
n
‑1、w2
n
‑1和Y
n
‑1;S200,基于X
n
和获取的w1
n
‑1、w2
n
‑1和Y
n
‑1确定Y
n
;S300,将获取的Y
n
存储到日志数据库中;S400,设置n=n+1。2.根据权利要求1所述的预估镀膜速率获取系统,其特征在于,还包括配置文件,所述配置文件中存储有预设的数据测量装置的测量误差Q;所述日志数据库中的第i条记录还包括P
i
,P
i
为第i个采样周期对应的实测镀膜速率修正误差,与Q相关。3.根据权利要求2所述的预估镀膜速率获取系统,其特征在于,在S200之后还...
【专利技术属性】
技术研发人员:鲁程龙,高福利,井英立,
申请(专利权)人:布勒莱宝光学设备北京有限公司,
类型:发明
国别省市:
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