基板处理装置制造方法及图纸

本公开提供了一种基板处理装置。该基板处理装置包括支承基板的支承单元和激光单元，该激光单元向由支承单元支承的基板照射激光光束，该激光单元包括照射构件、透镜和反射构件，该照射构件照射激光光束，该透镜设置在由照射构件照射的激光光束的行进路径上、从而是可旋转的，该反射构件具有用于改变穿过透镜的激光光束的行进路径的倾斜表面。光束的行进路径的倾斜表面。光束的行进路径的倾斜表面。

【技术实现步骤摘要】
基板处理装置
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请要求于2020年08月24日提交韩国知识局的、申请号为10
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2020
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0106456的韩国专利申请的优先权和权益，其全部内容通过引用结合在本申请中。


[0003]本文描述的本专利技术构思的实施方案涉及一种基板处理装置。

技术介绍

[0004]通常，在制造平板显示器设备或半导体的过程中，在处理玻璃基板或晶圆的过程中执行诸如光致抗蚀剂涂覆工艺、显影工艺、刻蚀工艺和灰化工艺的各种工艺。这些工艺包括使用化学品或去离子水的湿法清洁工艺和用于干燥留在基板的表面上的化学品或去离子水的干燥工艺，以便移除附着于基板的各种污染物。
[0005]近年来，基板处理装置通过向基板供应处理液体以及加热供应至基板的处理液体或加热基板来缩短工艺时间。在韩国专利申请公开号2019
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0037497中公开了上述基板处理装置的实施例。根据上述专利，控制激光照射单元以向基板照射激光光束并移动将激光照射到基板的点。也就是说，上面的专利的基板处本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基板处理装置，所述基板处理装置包括：支承单元，所述支承单元配置为支承基板；以及激光单元，所述激光单元配置为向由所述支承单元支承的所述基板照射激光光束，其中，所述激光单元包括：照射构件，所述照射构件配置为照射所述激光光束；透镜，所述透镜设置在由所述照射构件照射的所述激光光束的行进路径上、从而是可旋转的；以及反射构件，所述反射构件具有倾斜表面，所述倾斜表面用于改变穿过所述透镜的所述激光光束的所述行进路径。2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，设置一对透镜。3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其中，所述反射构件耦接至所述一对透镜的任一个。4.根据权利要求3所述的基板处理装置，其中，所述反射构件具有圆锥形状，所述圆锥形状的上端被截断。5.根据权利要求4所述的基板处理装置，其中，所述一对透镜和所述反射构件在相同的方向上、围绕相同旋转轴线旋转。6.根据权利要求2所述的基板处理装置，其中，每个所述柱面透镜具有以下形状：所述柱面透镜的一个表面为平坦的平面表面、并且所述柱面透镜的相反表面为弯曲表面。7.根据权利要求1至6中任一项所述的基板处理装置，所述基板处理装置还包括：控制器，其中，所述控制器控制所述激光单元以向上和向下移动所述反射构件、从而改变向所述基板照射的所述激光光束的照射位置。8.根据权利要求1至6中任一项所述的基板处理装置，其中，所述照射构件照射处于p
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偏振状态的激光光束。9.根据权利要求8所述的基板处理装置，其中，所述反射构件的所述倾斜表面是倾斜的，使得照射至所述基板的、处于所述p
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偏振状态的所述激光光束的入射角为布鲁斯特角。10.根据权利要求8所述的基板处理装置，所述基板处理装置还包括：控制器，其中，所述控制器控制所述激光单元以向上和向下移动所述反射构件，使得照射至所述基板的所述激光光束的入射角为布鲁斯特角。11.一种基板处理装置，所述基板处理装置包括：支承单元，所述支承单元支承基板；处理液体喷嘴，所述处理液体喷嘴配置为向由所述支承单元支承的所述基板供应处理液体；以及激光单元，所述激光单元配置为向由所述支承单元支承的所述基板的上表面照射激光光束；以及其中，所述激光单元包括：照射构件，所述照射构件配置为照射所述激光光束；柱面透镜，所述柱面透镜配置为旋转所述激光光束；以及
反射构件，所述反射构件配置为在面向由所述支承单元支承的所述基板的所述上表面的方向上、反射穿...

【专利技术属性】
技术研发人员：郑智训，金源根，郑映大，金泰信，李智暎，
申请(专利权)人：细美事有限公司，
类型：发明
国别省市：