一种导电薄膜的制备方法、电流汇集传输材料及能量储存装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种导电薄膜的制备方法，涉及金属膜制造技术领域；该方法包括以下的步骤：采用真空镀膜设备对薄膜基材的表面进行镀膜，在薄膜基材的一个外表面形成50

【技术实现步骤摘要】
一种导电薄膜的制备方法、电流汇集传输材料及能量储存装置


[0001]本专利技术涉及导电金属薄膜制造
，更具体的说，本专利技术涉及一种导电薄膜的制备方法、电流汇集传输材料以及能量储存装置。

技术介绍

[0002]真空镀膜主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发、磁控溅射、MBE分子束外延、PLD激光溅射沉积等很多种。主要分成蒸发和溅射两种，蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程形成薄膜。对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且最终沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜。
[0003]采用蒸发镀膜结合水镀镀膜的工艺路线，在生产柔性导电薄膜卷材时具有以下突出的技术问题：
[0004]一、串泡问题：柔性导电薄膜卷材产品采用的基膜为拉伸制程工艺，在制程过程中容易发生局部变形，在进行蒸发镀膜工艺时，由于蒸发镀膜工艺的温度较高，会使得基膜的形变恶化，产生在走膜方向一连串的变形，称为本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种导电薄膜的制备方法，其特征在于，该方法包括以下的步骤：S1、采用真空镀膜设备对薄膜基材的表面进行镀膜，在薄膜基材的一个外表面形成50-200nm的第一金属镀层；S2、通过水镀装置，在第一金属镀层的外表面形成600-900nm的第二金属镀层；S3、通过淋膜机装置，对两卷镀有第二金属镀层的薄膜进行放卷，通过所述淋膜机装置的挤出式放料系统在两层第二金属镀层之间挤塑形成厚度为2-4μm的夹心层，形成三明治结构的薄膜；S4、对步骤S3中复合好的薄膜进行物理剥离，去除三明治结构的最外层表面的薄膜基材，最终形成导电薄膜的成品膜。2.根据权利要求1所述的一种导电薄膜的制备方法，其特征在于：步骤S1中，所述真空镀膜设备包括但不限于真空蒸发镀膜设备或者磁控溅射镀膜设备。3.根据权利要求1所述的一种导电薄膜的制备方法，其特征在于：步骤S1中，所述薄膜基材包括但不限于PP膜、PE膜或PET膜。4.根据权利要求1或3所述的一种导电薄膜的制备方法，其特征在于：所述薄膜基材的厚度为8-20μm；所述导电薄膜的成品膜的厚度为4-6μm。5.根据权利要求1所述的一种导电薄膜的制备方法，其特征在于：步...

【专利技术属性】
技术研发人员：贾孟，
申请(专利权)人：昆山鑫美源电子科技有限公司，
类型：发明
国别省市：