三室磁控溅射镀膜装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开一种三室磁控溅射镀膜装置，三室磁控溅射镀膜装置包括运转机构、传送部、前室以及镀膜室，镀件设于一工件转架上，所述传送部与前室衔接，所述前室与镀膜室衔接，所述传送部、前室和镀膜室形成镀件的镀膜通道，所述前室与镀膜室独立设置真空设备，所述工件转架通过运转机构在镀膜室内转动，所述前室与所述镀膜室之间设置有阻挡装置，所述阻挡装置用于阻挡所述镀膜通道以使所述前室和镀膜室为单独的密封腔室，本实用新型专利技术技术方案可以通过隔断本体将前室和镀膜室进行隔断密封或进行开启连通从而提高了密封性。或进行开启连通从而提高了密封性。或进行开启连通从而提高了密封性。

【技术实现步骤摘要】
三室磁控溅射镀膜装置


[0001]本技术涉及真空镀膜领域，尤其涉及一种三室磁控溅射镀膜装置。

技术介绍

[0002]一般在连续式的真空镀膜设备中，由于各个腔体的功能有所不同，其所需要的真空度亦有所差异，因此腔体与腔体之间需要隔开，避免各腔体在作业时产生相互干扰的情形。由于镀膜过程必须在真空环境下进行，因此该插板阀的阀门板必须紧闭、密合，否则一旦有真空度不佳的现象发生，镀膜过程势必发生瑕疵而造成整批工件良品率不足的缺陷。

技术实现思路

[0003]本技术的主要目的是提供一种三室磁控溅射镀膜装置，旨在解决上述技术问题。
[0004]为实现上述目的，本技术提出的一种三室磁控溅射镀膜装置包括运转机构、传送部、前室以及镀膜室，镀件设于一工件转架上，所述传送部与前室衔接，所述前室与镀膜室衔接，所述传送部、前室和镀膜室形成镀件的镀膜通道，所述前室与镀膜室独立设置真空设备，所述工件转架通过运转机构在镀膜室内转动，所述前室与所述镀膜室之间设置有阻挡装置，所述阻挡装置用于阻挡所述镀膜通道以使所述前室和镀膜室为单独的密封腔室。
[0005本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种三室磁控溅射镀膜装置，其特征在于，所述三室磁控溅射镀膜装置包块运转机构、传送部、前室以及镀膜室，镀件设于一工件转架上，所述传送部与前室衔接，所述前室与镀膜室衔接，所述传送部、前室和镀膜室形成镀件的镀膜通道，所述前室与镀膜室独立设置真空设备，所述工件转架通过运转机构在镀膜室内转动，所述前室与所述镀膜室之间设置有阻挡装置，所述阻挡装置用于阻挡所述镀膜通道以使所述前室和镀膜室为单独的密封腔室。2.根据权利要求1所述的三室磁控溅射镀膜装置，其特征在于，所述运转机构包括公转组件和自转组件，所述工件转架设有多个自转轴，所述工件转架通过公转组件转动，所述自转轴通过自转组件转动。3.根据权利要求2所述的三室磁控溅射镀膜装置，其特征在于，所述传送部设有传送机构，所述传送机构设有第一移动单元和第二移动单元，所述工件转架通过第一移动单元传送至前室，所述工件转架通过第二移动单元传送至前室。4.根据权利要求3所述的三室磁控溅射镀膜装置，其特征在于，所述第一移动单元设有第一驱动组件、滑轨和滑块，所述滑轨滑设于滑轨上；移动时，所述工件转架位于滑块上，所述第一驱动组件驱动工件转架沿滑轨移动。5.根据权利要求4所述的三室磁控溅射镀膜装置，其特征在于，所述第二移动单元设有移动架、...

【专利技术属性】
技术研发人员：孙桂红，黄国兴，祝海生，梁红，陈立，唐莲，唐洪波，
申请(专利权)人：湘潭宏大真空技术股份有限公司，
类型：新型
国别省市：