光刻装置和利用清洁气体的移动来减少污染的器件制造方法制造方法及图纸

一种光刻装置包括支撑基底的基底台和使基底相对基底台移动的基底搬运器。基底搬运器适合于在曝光之前和之后将基底装载到基底台上和从基底台上卸载基底。此外，清洁气体供给系统向布置有基底的至少一个位置提供清洁气体。清洁气体供给系统可移动地安装。利用所述光刻装置的器件制造方法可以用于制造平板显示器和集成电路器件中的至少一个。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种光刻装置和制造器件的方法。
技术介绍
光刻装置是将期望的图案施加到基底或基底的一部分上的一种装置。光刻装置可以用于例如制造平板显示器、集成电路(IC)和包括微细结构的其他器件。在常规的光刻装置中，构图部件或者可以称为掩模或中间掩模版，它可以用于产生相应于平板显示器(或其他器件)的一个单独层上的电路图案。该图案例如可以通过成像在涂敷于基底上的辐射敏感材料层(抗蚀剂)而传递到(一部分)基底(例如玻璃板)上。代替电路图案，构图部件可以用于产生其他图案，例如滤色器图案或点矩阵。代替掩模，构图部件包括具有单独可控元件阵列的构图阵列。与基于掩模的系统相比，在这种系统中可以更加快速和低成本地改变图案。平板显示器基底可以是矩形形状。设计成曝光这种类型的基底的光刻装置可以提供曝光区，该曝光区覆盖了矩形基底的全宽度，或者覆盖了部分宽度(例如一半宽度)。可以在曝光区下方扫描基底，同时在投影光束下同步扫描掩模或中间掩模版。通过这种方式，将图案传递到基底上。如果曝光区覆盖了基底的全宽度，那么可以使用单次扫描完成曝光。如果曝光区覆盖了例如基底的一半宽度，就可以在第一次扫描之后横向移动基底，然后通常是执行另一扫描来曝光基底的其他部分。一般地，单一的基底将包含被相继曝光的相邻靶部的网络。在扫描处理期间基底布置在基底曝光台或平台上。未曝光基底即那些还没有经过曝光的基底存储在存储装置或系统中。机械手将未曝光基底装载到曝光台上，并在此随后对它们进行曝光。曝光后，已曝光的基底由机械手送回到存储库中。光刻装置包括将清洁气体分布到光刻装置中的清洁气体供给源。因为装置内的污染会导致成像误差，所以可以提供清洁气体以便保持装置内清洁的环境。在这些光刻装置中由清洁气体供给单元提供向下流动的清洁气体，所述清洁气体供给单元布置在光刻装置中。在某些应用中，例如在平板显示器的制造中使用的基底相对较大。例如，它们的面积超过了1m2。已经发现由于相对较大的成像面积，微粒污染就成为一个问题。特别是对于未曝光基底成为一个问题。如上所述，清洁气体就是针对上面的问题。已经发现由于基底台的布置以及其和机械手的相互作用，清洁气体在曝光前不会有效地到达未曝光基底。这可能导致成像误差。此外，在其中基底和基底台相对大的应用中，另一个结果是基底台在装置的有限空间内的移动在装载和卸载基底中会用作一个泵，该泵可以将污染微粒“泵送”到未曝光基底上。此外，移动的机械手会产生伴流影响，以及在未曝光基底上方产生在压力下的区域，这也有可能产生污染的危险。因此，需要的是一种减小光刻装置中污染危险的系统和方法。例如，期望的是减小未曝光基底的污染危险。
技术实现思路
在本专利技术的一个实施例中，提供一种光刻装置，其包括支撑基底的基底台和使基底相对基底台移动的基底搬运器。基底搬运器适合于在曝光之前和之后将基底装载到基底台上和从基底台上卸载基底。此外，清洁气体供给系统向布置有基底的至少一个位置提供清洁气体。清洁气体供给系统可移动地安装。根据本专利技术的另一个实施例，提供一种光刻装置，包括将清洁气体供给到光刻装置中未曝光基底上的清洁气体供给系统。所述清洁气体供给系统布置在移动支撑件上，并向布置有未曝光基底的至少一个位置提供清洁气体。根据本专利技术的又一个实施例，提供一种器件制造方法，包括以下步骤。将带图案的辐射光束投影到基底上。调节辐射光束。调制辐射光束的截面。在基底台上支撑基底。将已调制的辐射光束投影到基底的靶部上。使基底相对基底台移动，包括在曝光之前和之后将基底装载到基底台以及从基底台上卸载基底。向布置有基底的至少一个位置提供清洁气体，其中清洁气体由可移动安装的清洁气体系统提供。下面参考附图详细描述本专利技术的其他实施例、特征和优点以及本专利技术各个实施例的结构和操作。附图说明在此结合附图并构成说明书的一部分，这些附图和描述一起说明了本专利技术的一个或多个实施例，它们还可用于解释本专利技术的原理，以及使本领域技术人员能够理解和使用本专利技术。图1和2示出了根据本专利技术的各个实施例的光刻装置。图3示出了使用如图2所示的本专利技术的一个实施例将图案传递到基底的方式。图4示出了根据本专利技术的一个实施例的光引擎的布置。图5、6a-6g、7、8和9示出了根据本专利技术的各个实施例用于光刻装置的清洁气体供给系统的侧视图。图10示出了根据本专利技术的一个实施例的清洁气体系统的细节。现在将参考附图描述本专利技术。在图中，相似的参考数字表示相似或功能类似的元件。附加地，参考数字中最左边的数字可以确定其中参考数字第一次出现的附图。具体实施例方式尽管论述了具体的结构和布置，但是应该理解这仅仅是为了说明的目的。本领域技术人员应该认识到在不脱离本专利技术的精神和范围的条件下，可以使用其他结构和布置。对本领域技术人员来说显而易见的是还可以在各种其他应用中利用本专利技术。图1示意性地表示了根据本专利技术的一个实施例的光刻装置。该装置包括照明系统IL、构图部件PD、基底台WT和投影系统PS。照明系统(照明器)IL配置成调节辐射光束B(例如UV辐射)。构图部件PD(例如例如中间掩模版或掩模或单独可控元件阵列)调制投影光束。一般地，单独可控元件阵列的位置将相对投影系统PS固定。但是，它可以代替地与定位装置连接，该定位装置配置成根据某些参数精确定位单独可控元件阵列。基底台WT构造成支撑基底(例如涂敷抗蚀剂的基底)W，并与配置成根据某些参数精确定位基底的定位装置PW连接；投影系统(例如折射投影透镜系统)PS配置成将由单独可控元件阵列调制的辐射光束投影到基底W的靶部C(例如包括一个或多个管芯)上。照明系统可以包括各种类型的光学部件，例如包括用于引导、整形或者控制辐射的折射光学部件、反射光学部件、磁性光学部件、电磁光学部件、静电光学部件或其它类型的光学部件，或者其任意组合。这里使用的术语“构图部件”或“对比器件”应广义地解释为可以用于调制辐射光束的截面从而在基底靶部中形成图案的任何装置。该部件可以是静态构图部件(例如掩模或中间掩模版)或动态构图部件(例如可编程元件阵列)。为了简便起见，大部分描述都是关于动态构图部件，但是应该理解在不脱离本专利技术的范围的条件下也可以使用静态构图部件。应该注意，赋予给辐射光束的图案可以不与基底靶部中的期望图案精确一致，例如如果该图案包括相移特征或所谓的辅助特征。类似地，最终在基底上形成的图案可以和在任何情况下在单独可控元件阵列上形成的图案不一致。这可以是在这种布置中的情况，其中在给定的时间间隔或给定的曝光次数中逐步形成在基底的每部分上形成的最终图案，在所述时间间隔中单独可控元件阵列和/或基底的相关位置会改变。一般地，在基底靶部上形成的图案与在靶部中形成的器件如集成电路或平板显示器的特殊功能层(例如平板显示器中的滤色器层或平板显示器中的薄膜晶体管层)相对应。这种构图部件的实例包括例如中间掩模版、可编程反射镜阵列、激光二极管阵列、发光二极管阵列、光栅光阀和LCD阵列。构图部件的图案在电子装置(例如计算机)的辅助下进行编程，构图部件例如包括多个可编程元件(除了中间掩模版外，例如在上文中提到的所有器件)，在此构图部件可以共同地称为“对比器件”。在一个实例中，构图部件包括至少10个可编程元件，例如至少100个、至少1000个、至少10000个、至少100000个、至本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光刻装置，包括：支撑基底的基底台；使基底相对基底台移动的基底搬运器，所述基底搬运器适合于在曝光之前和之后将基底装载到基底台上和从基底台上卸载基底，以及向布置有基底的至少一个位置提供清洁气体的清洁气体供给系统，其中 清洁气体供给系统可移动地安装。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：BAJ鲁蒂克休斯，PR巴特雷，WJ博西，MK斯塔芬加，T哈林克，
申请(专利权)人：BAJ鲁蒂克休斯，PR巴特雷，WJ博西，MK斯塔芬加，T哈林克，
类型：发明
国别省市：NL[荷兰]