【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及用于支撑和移动光刻设备中的物体的支撑结构。
技术介绍
首先给出本文描述中所用的一些定义。本文所用术语“图案形成装置”应被广义理解为指的是这样的装置其能被用来根据将要在基底的目标部分中制成的图案结构，将组成图案的截面赋予入射的辐射束；术语“光阀”也能在本文中使用。通常，所述的图案结构将对应于正在目标部分中制造的装置(例如集成电路或其它装置)中某个特定的功能层(参看下文)。这样的图案形成装置的例子包括-掩模。掩模的概念在光刻法中已广为人知，它包括一些掩模类型，如二元的、交变相移、衰减相移和不同的混合掩模。将这样的一个掩模放置在辐射束中会引起照射到掩模上的辐射根据掩模上的图案发生选择透射(在使用透射掩模的情况下)或反射(在使用反射掩模的情况下)。在使用掩模的情况下，支撑结构通常是掩模台，其确保掩模被保持在入射辐射束中的所需位置，并且如果需要的话，可以相对于辐射束移动；-可编程的镜阵列。这样的装置的实例如矩阵可寻址表面，其具有黏弹性的控制层和反射表面。这种装置背后的基本原理就是如，反射表面被设定地址的区域将入射光反射为衍射光，然而未设定地址的区域将入射光...
【技术保护点】
用于在光刻设备中保持和移动物体的支撑结构，该支撑结构包括一个夹子，其用于夹紧所述物体并设置有适应部件。
【技术特征摘要】
EP 2003-3-31 03075929.4;EP 2003-7-23 03077320.41.用于在光刻设备中保持和移动物体的支撑结构，该支撑结构包括一个夹子，其用于夹紧所述物体并设置有适应部件。2.根据权利要求1所述的支撑结构，其中所述的支撑结构是与机器人一起使用的机械手，所述的机械手包括用于保持所述物体的支撑架(18)。3.根据权利要求2所述的支撑结构，其中所述的机械手包括与所述支撑架(18)相连的棒并且包括所述的适应部件(14)。4.根据权利要求2所述的支撑结构，其中所述支撑架(18)包括所述适应部件(26)。5.根据权利要求1或2所述的支撑结构，其中所述夹子(20、22、24)包括所述适应部件(28)。6.根据权利要求2至5中任一项所述的支撑结构，其中所述支撑架位于一平面内，该平面由x轴、y轴和与所述x轴和所述y轴垂直的z轴确定，在围绕所述x轴的第一旋转(Rx)、围绕所述y轴的第二旋转(Ry)和与所述z轴平行的z方向中的至少一个方向内，所述适应部件提供顺应性。7.根据权利要求3所述的支撑结构，其中所述适应部件这样进行布置即使得所述支撑架能够绕着预定的旋转中心(19)进行旋转。8.Jonhson-Raybeck效应型夹子，其具有用于夹紧光刻投影设备中的物体的上表面，该上表面设置有氧化层(30)。9.用于在光刻投影设备中保持和移动物体的支撑结构，包括至少一个Jonhson-Raybeck效应型夹子(20)和与所述Jonhson-Raybeck效应型夹子(20)相连的控制器(直流、交流)，其被用于为Jonhson-Raybeck效应型夹子(20)提供夹紧和松开电压，其中所述控制器被布置用于产生具有衰减交流曲线的所述松开电压。10.清洁光刻投影设备中的基底台的方法，该基底台(WT)包括用于夹紧基底(W)的夹子，该方法包括·在所述光刻投影设备中引入基底(W)；·将所述基底(W)夹在所述基底台(WT)上，使得所述基底(W)与所述基底台(WT)在第一位置接触；·将所述基底(W)从所述基底台(WT)上松开；·重复所述的夹紧和松开操作数次，使得所述基底在所述第一位置和/或第一位置之外的其它位置重复与基底台(WT)接触。11.根据权利要求1-7和9中任一项所述的支撑结构，被布置用于保持基底(W)。12.根据权利要求1-7、9和11中任一项所述的支撑结构，其中所述支撑结构包括设置有所述适应部件的棒(38)。13.根据权利要求1-7、9、11和12中任一项所述的支撑结构，其中所述适应部分包括金属弯曲。14.根据权利要求9所述的支撑结构，其中所述预定衰减交流曲线是射频交流曲线。15.光刻投影设备中所用的机器人，该机器人设置有根据权利要求1-7，9、11-14中任一项所述的支撑结构。16.一种光...
【专利技术属性】
技术研发人员：PAJ廷内曼斯，EJ布伊斯，SNL当德斯，J范埃普，JF胡格坎普，ALHJ范米尔，PJCH斯穆德斯，FACJ斯潘杰斯，JPMB维梅尤恩，R维斯塞，HG特根博斯，JCA范登伯格，HJA范德桑德，T维沃特，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：NL[荷兰]
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