光致聚合物薄膜及应用、光致聚合物承印物及制备方法技术

本发明专利技术公开了一种光致聚合物薄膜及应用、光致聚合物承印物及制备方法，包括基膜、保护膜和光致聚合物信息层；光致聚合物信息层铺设在基膜上，保护膜盖覆在光致聚合物信息层上；光致聚合物信息层的厚度为3～25μm。本发明专利技术光致聚合物信息层的厚度为3～25μm，反射亮度高，并且光线也不容易被光致聚合物信息层自身吸收，光致聚合物信息层的衍射效率很高，亮度高，3D立体图案非常明亮、清晰，3D立体效果非常明显。其可以广泛应用于各种承印物中，实现非常明显3D全息显示效果。常明显3D全息显示效果。常明显3D全息显示效果。

【技术实现步骤摘要】
光致聚合物薄膜及应用、光致聚合物承印物及制备方法


[0001]本专利技术涉及光致聚合物薄膜
，尤其涉及一种光致聚合物薄膜及应用、光致聚合物承印物及制备方法。

技术介绍

[0002]随着光刻机应用广泛、效果增多，镭射膜层图案也越来越丰富多彩。烫印膜是现阶段非常流行和成熟的一种镭射产品与纸、膜、玻璃等承印物的完美结合。烫印膜断面清晰，转印后的承印物表面几乎没有凹凸感，这与镭射膜层的性能和厚度有关。
[0003]镭射膜层是表面浮雕型结构，厚度约1～2μm，可以通过雕刻镍板来模压生产，材料本身易碎。镭射膜层是表面浮雕结构，表面凸凹沟槽线条在1000线/mm左右；出于模压生产需求，其沟槽近乎垂直向上且不能太深、太细。这就决定了镭射膜层可以在白光下将图案表达的徇烂多彩，但3D立体效果不明显。

技术实现思路

[0004]本专利技术的目的是提供一种种光致聚合物薄膜及应用、光致聚合物承印物及制备方法，3D立体效果明显，可以广泛应用于各种承印物中实现3D全息显示效果。
[0005]本专利技术公开了一种一种光致聚合物薄膜，包括基本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光致聚合物薄膜，其特征在于，包括基膜、保护膜和光致聚合物信息层；所述光致聚合物信息层铺设在所述基膜上，所述保护膜盖覆在所述光致聚合物信息层上；所述光致聚合物信息层的厚度为3～25μm。2.如权利要求1所述的光致聚合物薄膜，其特征在于，所述光致聚合物信息层的厚度为6～9μm。3.如权利要求2所述的光致聚合物薄膜，其特征在于，所述光致聚合物信息层的分辨率在6000线/mm或以上。4.一种光致聚合物承印物的制备方法，其特征在于，包括：步骤1：预模切光致聚合物薄膜，切断光致聚合物信息层，不切断保护膜；步骤2：将模切后的光致聚合物信息层的信息区固化到承印物，剥除保护膜以及光致聚合物信息层的非信息区。5.如权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述步骤1还包括：预模切光致聚合物薄膜，切断基膜，并剥除...

【专利技术属性】
技术研发人员：李兰芳，沈柏仲，杨丽，
申请(专利权)人：深圳市西卡德科技有限公司，
类型：发明
国别省市：