一种涂层结构及其制备方法、包括该涂层结构的材料制品和电子产品技术

本发明专利技术实施例公开了一种涂层结构及其制备方法、包括该涂层结构的材料制品和电子产品。该涂层结构包括依次层叠在基材表面上的光学镀膜底漆层、光学增亮膜层和透明保护层，其中，光学镀膜底漆层为低分子量涂层。通过设置上述涂层结构，本发明专利技术实施例能够呈现出陶瓷质感，并降低生产成本。并降低生产成本。并降低生产成本。

【技术实现步骤摘要】
一种涂层结构及其制备方法、包括该涂层结构的材料制品和电子产品


[0001]本专利技术实施例涉及材料加工
，特别是涉及一种涂层结构及其制备方法、包括该涂层结构的材料制品和电子设备。

技术介绍

[0002]手机是人们日常生活中常见的通讯工具，随着手机产业的不断进步和创新，手机的体型逐渐越来越薄，同时手机上使用的壳体也越来越精美，还可兼具耐磨、防摔、抗腐蚀等优点。
[0003]手机外壳通常由三部分组成：手机盖板、手机中框和后盖，目前，手机中框较多采用金属材质，为满足5G毫米波天线的要求，金属中框被很多塑胶的隔断槽分割，经阳极氧化或物理气相沉积(Physical Vapor Deposition，PVD)处理后，塑胶天线区域不能上色，导致整体装饰效果不好；而采用塑胶的中框，虽然可以满足天线性能的要求，但应用不导电电镀技术(Non Conductive Vacuum Metalization，NCVM)、涂装工艺后缺少高级感，难以满足高端手机的装饰要求。此外，市面上也有手机中框采用陶瓷材质，但其成本较玻璃、金属和塑胶的成本高，对手机或其他电本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种涂层结构，其特征在于，包括依次层叠在基材表面上的光学镀膜底漆层、光学增亮膜层和透明保护层，其中，所述光学镀膜底漆层为低分子量涂层。2.根据权利要求1所述的涂层结构，其特征在于，所述光学镀膜底漆层为紫外线固化的硬化涂层，其表面硬度≥4H，透明度≥85％；所述光学镀膜底漆层的厚度为15-25μm。3.根据权利要求1所述的涂层结构，其特征在于，所述光学增亮膜层包括金属氧化物层，所述金属氧化物层中的金属氧化物选自Ti2O5,ZrO2,SiO2中的至少一种；所述金属氧化物层的厚度为30-200nm。4.根据权利要求1所述的涂层结构，其特征在于，所述透明保护层为改性有机硅涂层，所述改性有机硅涂层包括分子式为下述化学结构式所示的化合物：式中-SiOR表示硅烷氧基；所述改性有机硅涂层的厚度为3-15μm。5.根据权利要求1-4任一项所述的涂层结构，其特征在于，还包括依次层叠在所述基材表面上的底漆层和色漆层，所述光学镀膜底漆层层叠于所述色漆层之上；其...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈志斌，杨伟，吴献明，邹凌云，
申请(专利权)人：深圳市万普拉斯科技有限公司，
类型：发明
国别省市：