本实用新型专利技术公开了一种水性表面处理剂研磨分散装置，包括分散罐，分散罐上设置有盖板，盖板上设置有电机，分散罐内设置有过滤板，过滤板上设置有搅拌组件，搅拌组件与电机连接，搅拌组件上设置有研磨组件；分散罐上分别设置有回流组件与进料管，分散罐底端设置有排液管，排液管上设置有排液阀，通过过滤板的设置，对表面处理剂进行过滤处理，使得表面处理剂颗粒分撒在过滤板上，通过打开电机，通过搅拌组件的设置，对过滤板两端的溶液进行充分搅拌，使得表面处理剂颗粒充分溶解，避免沉淀至分散罐底端，在进行搅拌的同时带动研磨组件进行运动，实现对颗粒的研磨，加快表面处理剂颗粒的溶解。溶解。溶解。
【技术实现步骤摘要】
水性表面处理剂研磨分散装置
[0001]本技术涉及表面处理剂加工
，更具体地说，特别涉及一种水性表面处理剂研磨分散装置。
技术介绍
[0002]水性表面处理剂是指对材料的表面进行某种处理以达到特定的目的时所使用的试剂，水性表面处理剂的制备过程中，需要对原料进行搅拌混匀，搅拌过程中，物料是否能达到均质化以及颗粒的细化程度直接影响表面处理剂的产品质量，目前一般有两种方式对其进行搅拌加工：
[0003]1.通常由工作人员寻找一根棍棒，通过手工进行多次搅合，虽然达到了搅拌的目的，但浪费了大量的时间与人力，造成工作人员肌肉疲劳，易使得搅拌不够均匀，从而影响到水性表面处理剂施工的质量，进而给后续施工造成很大的影响；
[0004]2.通过常规的剪切分散装置处理，由高速旋转的转子与定子工作腔配合，依靠高的线速度，产生强劲的剪切力，对不同粘度的浆状物料进行离心挤压、高速切割及碰撞，使物料得到分散、均质、粉碎及混合，但由于定子和转子体积较小，搅拌时大颗粒的处理剂在搅拌的过程中容易沉底，导致研磨分散器内部处理剂颗粒不均，分散研磨效果差。
[0005]于是，有鉴于此，针对现有的结构及缺失予以研究改良，提供一种水性表面处理剂研磨分散装置，以期达到更具有更加实用价值性的目的。
技术实现思路
[0006]本技术的目的在于提供一种水性表面处理剂研磨分散装置，旨在解决上述技术问题。
[0007]本技术是这样实现的：
[0008]一种水性表面处理剂研磨分散装置，包括分散罐，所述分散罐上设置有盖板，所述盖板上设置有电机，所述分散罐内设置有过滤板，所述过滤板上设置有搅拌组件，所述搅拌组件与所述电机连接，所述搅拌组件上设置有研磨组件；所述分散罐上分别设置有回流组件与进料管，所述分散罐底端设置有排液管，所述排液管上设置有排液阀。
[0009]作为本技术的优选技术方案，所述搅拌组件包括转动杆与转轴，所述过滤板上设置有轴承，所述转动杆设置在所述轴承上，所述转轴卡设在所述转动杆一端，所述转轴与所述电机连接，所述转动杆上设置有多组搅拌块，所述转轴上对应设置有两组搅拌架。
[0010]作为本技术的优选技术方案，所述研磨组件包括研磨滚筒，所述研磨滚筒上设置有两组安装柱，所述转轴上设置有两组安装筒，所述安装柱穿设在所述安装筒内，所述安装筒与所述安装柱之间设置有压力弹簧，所述分散罐内设置有研磨层。
[0011]作为本技术的优选技术方案，所述研磨滚筒设置有两组，两组所述研磨滚筒对应设置在所述转轴上。
[0012]作为本技术的优选技术方案，所述回流组件包括连接管，所述连接管的两端
分别设置在所述分散罐的顶部与底部，所述连接管上设置有压力泵。
[0013]作为本技术的优选技术方案，所述分散罐底端设置有支架，所述支架上设置有防滑垫。
[0014]与现有技术相比，本技术的有益效果是：
[0015]在进行对表面处理剂进行分散时，先将其通过进料管输送至分散罐内，通过过滤板的设置，对表面处理剂进行过滤处理，使得表面处理剂颗粒分撒在过滤板上，通过打开电机，通过搅拌组件的设置，对过滤板两端的溶液进行充分搅拌，使得表面处理剂颗粒充分溶解，避免沉淀至分散罐底端，在进行搅拌的同时，带动研磨组件进行运动，实现对颗粒的研磨，加快表面处理剂颗粒的溶解，提高表面处理剂的施工质量；
[0016]当完成对表面处理剂颗粒的研磨以及表面处理剂溶液的搅拌时后，可再次通过回流组件的设置，再次进行研磨分散工序，提高了一定的研磨分散效率。
附图说明
[0017]为了更清楚地说明本技术实施方式的技术方案，下面将对实施方式中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本技术的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。
[0018]图1是本技术一种水性表面处理剂研磨分散装置的立体结构示意图；
[0019]图2是本技术一种水性表面处理剂研磨分散装置的爆炸结构示意图；
[0020]图3是本技术一种水性表面处理剂研磨分散装置中部分组件的结构示意图；
[0021]图4是本技术一种水性表面处理剂研磨分散装置中部分组件的结构示意图；
[0022]图5是本技术一种水性表面处理剂研磨分散装置的剖面结构示意图；
[0023]图6是图2中A区域的放大结构示意图；
[0024]图中附件名称与附图编号的对应关系：
[0025]101、分散罐；102、电机；103、盖板；104、进料管；105、支架；106、排液阀；107、研磨层；108、压力泵；109、连接管；110、防滑垫；111、搅拌块；112、过滤板；113、转轴；114、研磨滚筒；115、轴承；116、转动杆；117、压力弹簧；118、安装筒；119、安装柱；120、排液管；121、搅拌架。
具体实施方式
[0026]为使本技术实施方式的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本技术实施方式中的附图，对本技术实施方式中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施方式是本技术一部分实施方式，而不是全部的实施方式。基于本技术中的实施方式，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施方式，都属于本技术保护的范围。
[0027]在本技术的描述中，需要理解的是，术语“开孔”、“上”、“下”、“厚度”、“顶”、“中”、“长度”、“内”、“四周”等指示方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的组件或元件必须具有特定的方位，以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”等仅用于描述
目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
[0028]实施例：
[0029]参照图1至图6所示：一种水性表面处理剂研磨分散装置，包括分散罐101，所述分散罐101上设置有盖板103，所述盖板103上设置有电机102，所述分散罐101内设置有过滤板112，在进行对表面处理剂进行分散时，先将其通过进料管104输送至分散罐101内，通过过滤板112的设置，对表面处理剂进行过滤处理，使得表面处理剂颗粒分撒在过滤板112上；
[0030]所述过滤板112上设置有搅拌组件，所述搅拌组件与所述电机102连接，通过打开电机102，通过搅拌组件的设置，对过滤板112两端的溶液进行充分搅拌，使得表面处理剂颗粒充分溶解，避免沉淀至分散罐101底端；
[0031]所述搅拌组件上设置有两组研磨组件，在进行搅拌的同时，带动研磨组件进行运动，实现对颗粒的研磨，加快表面处理剂颗粒的溶解，提高表面处理剂的施工质量；
[0032]所述分散罐101上分别设置有回流组件与进料管104，所述分散罐101底端设置有排液管本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种水性表面处理剂研磨分散装置，其特征在于：包括分散罐(101)，所述分散罐(101)上设置有盖板(103)，所述盖板(103)上设置有电机(102)，所述分散罐(101)内设置有过滤板(112)，所述过滤板(112)上设置有搅拌组件，所述搅拌组件与所述电机(102)连接，所述搅拌组件上设置有研磨组件；所述分散罐(101)上分别设置有回流组件与进料管(104)，所述分散罐(101)底端设置有排液管(120)，所述排液管(120)上设置有排液阀(106)。2.根据权利要求1所述的水性表面处理剂研磨分散装置，其特征在于：所述搅拌组件包括转动杆(116)与转轴(113)，所述过滤板(112)上设置有轴承(115)，所述转动杆(116)设置在所述轴承(115)上，所述转轴(113)卡设在所述转动杆(116)一端，所述转轴(113)与所述电机(102)连接，所述转动杆(116)上设置有多组搅拌块(111)，所述转轴(113)上对应设置有两组搅拌架(121)。3.根据权利要求2所...
【专利技术属性】
技术研发人员：章衍，
申请(专利权)人：上海朗逸化学品有限公司，
类型：新型
国别省市：
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