一种便于上料的半导体热板光刻设备制造技术

本实用新型专利技术涉及光刻设备技术领域，特别是涉及一种便于上料的半导体热板光刻设备，包括底座、机架及换料台，机架固定于底座的上端左侧，换料台设于底座上端中部，机架内顶端的左侧安装有激光刻头，机架内顶端的中后部固定有清洗箱，机架内顶端的右侧固定有烘干机，烘干机下端连通有烘干罩，换料台外围四周均焊接固定有换料凹盒；通过将半导体热板分别放入到四个换料凹盒内，当最左端换料凹盒内的半导体热板光刻完毕后，使换料台顺时针旋转九十度角，从而利于使最前端换料凹盒内的半导体热板切换至激光刻头的下端，以此循环，利于达到快速换料的效果，因此便于快速的对下一块半导体热板进行光刻，有效的提升了光刻效率。有效的提升了光刻效率。有效的提升了光刻效率。

【技术实现步骤摘要】
一种便于上料的半导体热板光刻设备


[0001]本技术涉及光刻设备
，特别是涉及一种便于上料的半导体热板光刻设备。

技术介绍

[0002]光刻机又名掩模对准曝光机，在半导体热板生产加工中，通常通过光刻机上的激光刻头对半导体热板进行光刻，但是目前的半导体热板光刻设备，在对前一块半导体热板光刻完毕后，由于半导体热板换料效率较低，难以快速切换至下一块半导体热板进行光刻，以致于设备的工作效率欠佳，而且半导体热板光刻完毕后难以快速的进行清洗及烘干，就会增加后续工作的麻烦性。

技术实现思路

[0003]本技术提供了一种便于上料的半导体热板光刻设备，以解决上述
技术介绍
提出的难以快速切换至下一块半导体热板进行光刻，以致于设备的工作效率欠佳，而且半导体热板光刻完毕后难以快速的进行清洗及烘干的问题。
[0004]为了解决现有技术问题，本技术公开了一种便于上料的半导体热板光刻设备，包括底座、机架及换料台，所述机架固定于所述底座的上端左侧，所述换料台设于所述底座上端中部：
[0005]所述机架内顶端的左侧安装有激光刻头，所述机架内顶端的中后部固定有清洗箱，所述机架内顶端的右侧固定有烘干机，所述烘干机下端连通有烘干罩；
[0006]所述换料台外围四周均焊接固定有换料凹盒，每个所述换料凹盒的内底端均相接有网板。
[0007]进一步地，所述清洗箱下端连通有水泵，所述水泵下端连通有清洗喷头，所述清洗喷头位于最后端所述换料凹盒的正上端。
[0008]进一步地，所述底座上端且位于最后端所述换料凹盒的正下端放置有废料凹盒。
[0009]进一步地，所述激光刻头位于最左端所述换料凹盒的正上端，所述烘干罩位于最右端所述换料凹盒的正上端。
[0010]进一步地，所述底座上端中部且位于所述换料台的下端通过螺栓固定有旋转电机，所述旋转电机输出端的上端与所述换料台的下端中部相接。
[0011]进一步地，每个所述换料凹盒的外端均螺纹贯穿有锁紧杆，每根所述锁紧杆的内端均贯穿进与其相对应的所述换料凹盒的内端，每根所述锁紧杆的内端均固定有夹块。
[0012]与现有技术相比，本技术实现的有益效果：
[0013]通过将半导体热板分别放入到四个换料凹盒内，当最左端换料凹盒内的半导体热板光刻完毕后，使换料台顺时针旋转九十度角，从而利于使最前端换料凹盒内的半导体热板切换至激光刻头的下端，以此循环，利于达到快速换料的效果，因此便于快速的对下一块半导体热板进行光刻，有效的提升了光刻效率，并且光刻完毕的半导体热板移动至清洗喷
头下端时，再通过清洗喷头对光刻完毕的半导体热板进行冲刷并清洗，利于快速的清洗掉半导体热板上端的废屑，且半导体热板移动至烘干罩下端时，启动烘干器并通过烘干罩利于快速的对清洗后的半导体热板进行烘干，降低了对半导体热板进行清洗及烘干操作的麻烦性。
附图说明
[0014]图1为本技术的整体结构示意图；
[0015]图2为本技术的换料台俯视结构示意图；
[0016]图3为本技术的基座右视结构示意图。
[0017]图1
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3中：底座1、机架2、激光刻头3、换料台4、旋转电机5、换料凹盒6、废料凹盒7、清洗箱8、水泵9、清洗喷头10、烘干机11、烘干罩12、网板13、锁紧杆14、夹块15。
具体实施方式
[0018]请参阅图1至图3：
[0019]一种便于上料的半导体热板光刻设备，包括底座1、机架2及换料台4，所述机架2固定于所述底座1的上端左侧，所述换料台4设于所述底座1上端中部，所述换料台4外围四周均焊接固定有换料凹盒6，每个所述换料凹盒6的内底端均相接有网板13，所述激光刻头3位于最左端所述换料凹盒6的正上端，所述烘干罩12位于最右端所述换料凹盒6的正上端，所述底座1上端中部且位于所述换料台4的下端通过螺栓固定有旋转电机5，所述旋转电机5输出端的上端与所述换料台4的下端中部相接；
[0020]具体地，通过将半导体热板分别放入到四个换料凹盒6内，当最左端换料凹盒6内的半导体热板通过激光刻头3光刻完毕后，启动旋转电机5并带动换料台4顺时针旋转九十度角，从而利于使最前端换料凹盒6内的半导体热板切换至激光刻头3的下端，利于达到快速换料的效果，因此便于快速的对下一块半导体热板进行光刻，以此循环，有效的提升了光刻效率。
[0021]每个所述换料凹盒6的外端均螺纹贯穿有锁紧杆14，每根所述锁紧杆14的内端均贯穿进与其相对应的所述换料凹盒6的内端，每根所述锁紧杆14的内端均固定有夹块15；
[0022]进一步地，而且将半导体热板放入换料凹盒6内时，网板13则对半导体热板进行支撑，使半导体热板的内端与换料凹盒6的内壁贴合，就在拧紧锁紧杆14并带动夹块15夹紧半导体热板的外端，从而可以防止半导体热板在换料凹盒6内滑动，保证了半导体热板在光刻时的牢固性。
[0023]所述机架2内顶端的左侧安装有激光刻头3，所述机架2内顶端的中后部固定有清洗箱8，所述机架2内顶端的右侧固定有烘干机11，所述烘干机11下端连通有烘干罩12，所述底座1上端且位于最后端所述换料凹盒6的正下端放置有废料凹盒7；
[0024]进一步地，当换料台4带动换料凹盒6顺时针旋转九十度时，会使光刻完毕的半导体热板移动至清洗喷头10下端，在清洗箱8上端连通一根进水管，通过进水管利于往清洗箱8内加入清洁剂，此时启动水泵9并将清洗箱8内的清洁剂抽送至清洗喷头10内，再通过清洗喷头10对其下方光刻完毕的半导体热板进行冲刷并清洗，利于快速的清洗掉半导体热板上端的废屑，保证了对半导体热板清洗的便捷性，而清洗后的污水及废屑则会透过网板13下
落至废料凹盒7内，再通过废料凹盒7将污水及废屑集中倒掉，从而便于对污水及废屑进行集中收集处理。
[0025]所述清洗箱8下端连通有水泵9，所述水泵9下端连通有清洗喷头10，所述清洗喷头10位于最后端所述换料凹盒6的正上端；
[0026]进一步地，当需要对半导体热板进行烘干时，再次启动旋转电机5并带动最后端的换料凹盒6移动至烘干罩12下端，然后启动烘干器并通过烘干罩12利于快速的对清洗后的半导体热板进行烘干，保证了对半导体热板进行烘干操作的便捷性。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种便于上料的半导体热板光刻设备，包括底座(1)、机架(2)及换料台(4)，所述机架(2)固定于所述底座(1)的上端左侧，所述换料台(4)设于所述底座(1)上端中部，其特征在于：所述机架(2)内顶端的左侧安装有激光刻头(3)，所述机架(2)内顶端的中后部固定有清洗箱(8)，所述机架(2)内顶端的右侧固定有烘干机(11)，所述烘干机(11)下端连通有烘干罩(12)；所述换料台(4)外围四周均焊接固定有换料凹盒(6)，每个所述换料凹盒(6)的内底端均相接有网板(13)。2.根据权利要求1所述的一种便于上料的半导体热板光刻设备，其特征在于：所述清洗箱(8)下端连通有水泵(9)，所述水泵(9)下端连通有清洗喷头(10)，所述清洗喷头(10)位于最后端所述换料凹盒(6)的正上端。3.根据权利要求1所述的一种便于上料的半导体热板光刻设备，其特...

【专利技术属性】
技术研发人员：谢红，
申请(专利权)人：上海亚曼光电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：