【技术实现步骤摘要】
利用钇类颗粒粉末的钇类热喷涂皮膜及其制备方法
[0001]本专利技术涉及一种利用包含二氧化硅成分的热喷涂用钇类颗粒粉末制备高密度的热喷涂皮膜的方法。
技术介绍
[0002]在半导体制造工序中,为了硅晶片等基板电路的高集成化所需的微细加工,等离子体干式蚀刻工序的重要性越来越重要。
[0003]为了在这种环境下使用,提出了将等离子体抵抗性优秀的材料用作腔室构件或将构件的表面用耐等离子体性优秀的物质形成皮膜而提高构件寿命的方案。
[0004]其中,通过用各种材料被覆基材的表面而赋予新的功能性的技术,以往已在多个领域利用。作为这种表面被覆技术之一,例如已知有热喷涂法,将由陶瓷等材料构成的热喷涂粒子,借助于燃烧或电能,以软化或熔融状态喷射于基材表面,从而形成热喷涂皮膜。
[0005]一般而言,热喷涂涂布是通过使微细的粉末加热熔融,使熔融的粉末朝向母材的被涂布面喷射而执行。所述喷射的熔融粉末被急剧冷却,熔融粉末凝固,主要利用机械性结合力而层叠于所述涂布对象面。
[0006]在所述热喷涂涂布中,利用高温的等 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种制备钇类热喷涂皮膜的方法,其特征在于,将钇类颗粒粉末进行大气等离子体热喷涂,在基材上形成皮膜,制备100μm至250μm厚度的钇类热喷涂皮膜,其中,所述钇类颗粒粉末是在Y2O3、YOF、YF3、Y4Al2O9、Y3Al5O
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及YAlO3中选择的某一种以上钇化合物粉末和二氧化硅粉末的混合物,包含超过0重量%、不足10重量%的Y
‑
Si
‑
O中间相。2.根据权利要求1所述的制备钇类热喷涂皮膜的方法,其特征在于,所述大气等离子体热喷涂利用包含惰性气体的流量为40NLPM至60NLPM的等离子体气体。3.根据权利要求1所述的制备钇类热喷涂皮膜的方法,其特征在于,就所述大气等离子体热喷涂而言,等离子体发生电流为500A至700A范围。4.根据权利要求1所述的制备钇类热喷涂皮膜的方法,其特征在于,就所述大气等离子体热喷涂而言,将喷雾单元在基材上配置于相对120mm至230mm的距离,送料器的移送速度为10g/分钟至30g/分钟。5.根据权利要...
【专利技术属性】
技术研发人员:郑东勳,方晟植,郑在任,金大成,
申请(专利权)人:KOMICO有限公司,
类型:发明
国别省市:
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