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足部按摩温控浴盆制造技术

技术编号:323101 阅读:322 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本实用新型专利技术涉及到一种保健用品,足部按摩温控浴盆。它是浴盆卡套在加温盆内,浴盆底部装两排按摩棒,按摩棒安装在浴盆底部的凹槽内,浴盆还有一个灌水管,是往加温盆灌水用的,加温盆侧面凹部装温度调节旋钮和电加热器(7),按摩棒上有四排按摩齿,按摩齿顶装有磁性物,温控器采用双金属感应式温度继电器。(*该技术在2003年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】
本技术涉及到一种保健用品--足部按摩温控浴盆。目前市场上出售有足部按摩器,它只能是对足底部进行常温按摩,不能使足部在温控情况下进行按摩和药疗。本技术的目的在于提供一种足部在温控情况下进行按摩、磁疗或药疗的足部按摩温控浴盆。本技术的目的通过以下设计方案来完成,浴盆1卡套在加温盆2内,浴盆内底部装两排按摩棒3,足浴完毕,倒水时,将按摩棒取下再倒,浴盆1底部制成安装按摩棒的凹槽4和灌水管5,从灌水管向加温盆灌水,加温盆2底部侧面凹部装温度调节旋扭6、电加热器7,按摩棒3上有4排按摩齿8,相邻排的按摩齿互相错形,每排有按摩齿5个或6个,温控器采用双属感应式温度继电器9,或其他温控元件,将浴足液先控制在40℃~50℃,然后升至60℃~70℃,保持15~30分钟。如若对足部进行药疗,向盆中浴足液中加入所需药物。下面对附图进行说明附图说明图1恒温按摩足浴盆结构图图2图1的A向视图图3图2的俯视图图4图3的B-B剖视图图5按摩棒结构图图6图5的右视图图7电路图

【技术保护点】
一种足部按摩温控浴盆,其特征在于浴盆(1)卡套在加温盆(2)内,浴盆内底部装两排按摩棒(3),浴盆(1)底制成安装按摩棒的凹槽(4)和灌水管(5),加温盆(2)底部侧面凹部装温度调节旋扭(6)、电加热器(7)。

【技术特征摘要】
1.一种足部按摩温控浴盆,其特征在于浴盆(1)卡套在加温盆(2)内,浴盆内底部装两排按摩棒(3),浴盆(1)底制成安装按摩棒的凹槽(4)和灌水管(5),加温盆(2)底部侧面凹部装温度调节旋扭(6)、电加热器(7)。2.根据权利要求1所述的足部按摩温控浴盆,...

【专利技术属性】
技术研发人员:何凯云
申请(专利权)人:何凯云
类型:实用新型
国别省市:11[中国|北京]

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