一种匀光量子点复合膜制造技术

本实用新型专利技术公开了一种匀光量子点复合膜，包括量子点膜层，所述量子点膜层的顶端设置有至少一层匀光膜层，所述匀光膜层包括自上而下设置的基材层、匀光结构层，所述匀光结构层上设有呈阵列分布且向基材层方向凹陷的凹四棱锥结构或类凹四棱锥结构。本实用新型专利技术的匀光量子点复合膜能有效增加光线的准直效果，提升显示器对比度。示器对比度。示器对比度。

【技术实现步骤摘要】
一种匀光量子点复合膜


[0001]本技术涉及光学器件
，尤其涉及一种匀光量子点复合膜。

技术介绍

[0002]随着显示技术的不断发展，人们对显示器件的显示质量要求越来越高，量子点因粒子大小可控、分散均匀、激发转化效率高、稳定且光效较高等优点，逐渐被人们应用到液晶显示领域。但现有的量子点膜准直效果较差，达不到MINI LED显示器的对比度要求，进而降低了量子点膜在MINI LED产品的应用范围。

技术实现思路

[0003]为克服上述缺点，本技术的目的在于提供一种匀光量子点复合膜，能有效提高光线的准直效果，提升显示器对比度。
[0004]为了达到以上目的，本技术采用的技术方案是：一种匀光量子点复合膜，包括量子点膜层，所述量子点膜层的顶端设置有至少一层匀光膜层，所述匀光膜层包括自上而下设置的基材层、匀光结构层，所述匀光结构层上设有呈阵列分布且向基材层方向凹陷的凹四棱锥结构或类凹四棱锥结构。
[0005]进一步来说，所述凹四棱锥结构的边长为50
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200μm，高度为边长的1/5r/>‑
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种匀光量子点复合膜，包括量子点膜层(1)，其特征在于：所述量子点膜层(1)的顶端设置有至少一层匀光膜层(2)，所述匀光膜层(2)包括自上而下设置的基材层(21)、匀光结构层(22)，所述匀光结构层(22)上设有呈阵列分布且向基材层(21)方向凹陷的凹四棱锥结构(221)或类凹四棱锥结构(222)。2.根据权利要求1所述的匀光量子点复合膜，其特征在于：所述凹四棱锥结构(221)的边长为50
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200μm，高度为边长的1/5
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1/2。3.根据权利要求1所述的匀光量子点复合膜，其特征在于：所述类凹四棱锥结构(222)的边长为50
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200μm，四棱面为单凹曲面，单凹曲面半径为25
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100μm。4.根据权利要求2或3所述的匀光量子点复合膜，其特征在于：所述基材层(21)的厚度为25
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300μm。5.根据权利要求4所述的匀光量子点复合膜，其特征在于：当设置有多层匀光膜层(2)时，相邻两层匀光膜层(2)的凹四棱锥结构(221)或类凹...

【专利技术属性】
技术研发人员：宁召，楼鑫，何志兴，金小平，何海君，
申请(专利权)人：江苏弘德光电材料科技有限公司，
类型：新型
国别省市：