一种含浸机构制造技术

本实用新型专利技术公开了一种含浸机构，包括支撑板，支撑板的顶部设置有含浸槽，含浸槽的两侧上方对称设置有两个支板，在两个支板上对称设置有两个升降装置，在两个升降装置的顶部设置有盖板，盖板的顶部中心位置处设置有执行轴竖直延伸至盖板下方的伸缩装置，在伸缩装置的执行轴末端设置有开口向下设置的卡框，卡框的底部开口内侧对称设置有卡板，在卡板上方的卡框内放置有盛有磁芯的网孔槽，在位于含浸槽正上方的盖板上还设置有真空接口和压力表，真空接口与外部真空设备连通。本实用新型专利技术能有效提高含浸槽与盖板之间的密封性，保证了真空度继而提高了含浸效果。提高了含浸效果。提高了含浸效果。

【技术实现步骤摘要】
一种含浸机构


[0001]本技术涉及一种含浸机构，属于磁芯处理


技术介绍

[0002]磁芯在生产后需要使用真空含浸机进行含浸处理，以能提高产品质量，但现有的真空含浸机控制盛有磁芯的网槽升降的升降杆浸泡在含浸液中，升降杆上的轴套和密封圈一直浸泡在含浸液中，含浸液极易腐蚀密封圈，含浸液干后粘在升降杆上后又容易刮坏密封圈，密封圈的寿命大大降低，真空不能抽到最大影响真空效果，并且更换密封圈需要把所有含浸液全部清理干净后才能更换，更换极不方便；且盖板与含浸槽常采用铰接连接，其密封性能也较差，影响真空。

技术实现思路

[0003]为解决现有技术的不足，本技术提供一种含浸机构，能有效提高含浸槽与盖板之间的密封性，保证了真空度继而提高了含浸效果。
[0004]本技术所采用的技术方案为：
[0005]一种含浸机构，包括支撑板，支撑板的顶部设置有含浸槽，含浸槽的两侧上方对称设置有两个支板，在两个支板上对称设置有两个升降装置，在两个升降装置的顶部设置有盖板，盖板的顶部中心位置处设置有执行轴竖直延伸至盖板下方的伸缩装置，在伸缩装置的执行轴末端设置有开口向下设置的卡框，卡框的底部开口内侧对称设置有卡板，在卡板上方的卡框内放置有盛有磁芯的网孔槽，在位于含浸槽正上方的盖板上还设置有真空接口和压力表，真空接口与外部真空设备连通；
[0006]在含浸槽的顶部向内凹陷形成有环槽，在盖板的底部设置有与含浸槽的顶部对应的封板，封板的底部环绕设置有与环槽对应并插入环槽内的封块，环槽以及封块均为倒凸字形结构，在封槽内填充有密封液，封块的上半部与环槽的上半部侧壁贴合并相对滑动设置，封块的下半部端部插入环槽的下半部内腔中。
[0007]优选的是，在含浸槽的顶部以及封板的底部均设置有密封垫。
[0008]进一步的优选，在含浸槽正上方的盖板上还设置有若干个照明设备，照明设备包括与照明灯、导光筒和漫射器，导光筒竖直穿插过盖板并与盖板密封连接，照明灯设置在导光筒的顶端且照明灯的灯罩与盖板固定连接，漫射器设置在导光筒内底端。
[0009]进一步的优选，含浸槽的前端设置有观测窗口。
[0010]进一步的优选，支撑板的底部设置有若干个支脚，在若干个支脚之间水平设置有横板，横板上设置有含浸液补充罐，在横板上还设置有与含浸液补充罐管道连接的机泵，机泵的出口端与含浸槽的底部管道连通。
[0011]进一步的优选，在机泵的出口端与含浸槽底部之间的管道上还设置有阀门。
[0012]本技术的有益效果在于：
[0013]盖板通过封板以及封板底部的封块与含浸槽进行密封，且封块与环槽之间通过密
封液形成水封，能有效保障密封效果，使得真空度得到保障继而提高了对磁芯的含浸处理效果。
附图说明
[0014]图1为本技术的结构示意图；
[0015]图2为封板与含浸槽密封处结构示意图；
[0016]图3为照明设备处结构示意图；
[0017]图中主要附图标记含义如下：
[0018]1、支撑板，2、含浸槽，3、支板，4、升降装置，5、盖板，6、伸缩装置，7、卡框，8、卡板，9、网孔槽，10、真空接口，11、压力表，12、环槽，13、封板，14、封块，15、密封液，16、密封垫，17、照明灯，18、导光筒，19、漫射器，20、观测窗口，21、支脚，22、横板，23、含浸液补充罐，24、机泵，25、阀门。
具体实施方式
[0019]下面结合附图和实施例对本技术做具体的介绍。
[0020]如图1
‑
3所示：本实施例是一种含浸机构，包括支撑板1，支撑板1的顶部设置有含浸槽2，含浸槽2的两侧上方对称设置有两个支板3，在两个支板3上对称设置有两个升降装置4，在两个升降装置4的顶部设置有盖板5，盖板5的顶部中心位置处设置有执行轴竖直延伸至盖板5下方的伸缩装置6，在伸缩装置6的执行轴末端设置有开口向下设置的卡框7，卡框7的底部开口内侧对称设置有卡板8，在卡板8上方的卡框7内放置有盛有磁芯的网孔槽9，在位于含浸槽2正上方的盖板5上还设置有真空接口10和压力表11，真空接口10与外部真空设备连通；
[0021]在含浸槽2的顶部向内凹陷形成有环槽12，在盖板5的底部设置有与含浸槽2的顶部对应的封板13，封板13的底部环绕设置有与环槽12对应并插入环槽12内的封块14，环槽12以及封块14均为倒凸字形结构，在封槽12内填充有密封液15，封块14的上半部与环槽12的上半部侧壁贴合并相对滑动设置，封块14的下半部端部插入环槽12的下半部内腔中。
[0022]参见图2所示，在含浸槽2的顶部以及封板13的底部均设置有密封垫16。
[0023]参见图1、图3所示，在含浸槽2正上方的盖板5上还设置有若干个照明设备，照明设备包括与照明灯17、导光筒18和漫射器19，导光筒18竖直穿插过盖板5并与盖板5密封连接，照明灯17设置在导光筒18的顶端且照明灯17的灯罩与盖板5固定连接，漫射器19设置在导光筒18内底端。
[0024]参见图1所示，含浸槽2的前端设置有观测窗口20。
[0025]参见图1所示，支撑板1的底部设置有若干个支脚21，在若干个支脚21之间水平设置有横板22，横板22上设置有含浸液补充罐23，在横板22上还设置有与含浸液补充罐23管道连接的机泵24，机泵24的出口端与含浸槽2的底部管道连通。
[0026]参见图1所示，在机泵24的出口端与含浸槽2底部之间的管道上还设置有阀门25。
[0027]在实际应用时，将盛有磁芯的网孔槽9放置到卡板8上方的网框7内，然后启动两个升降装置4带动盖板5下降与含浸槽2盖合，盖板5底部的封板13将于含浸槽2的顶部抵接贴合，封块14的上半部将与环槽12的上半部侧壁贴合，封块14的下半部端部插入环槽12的下
半部内腔中并在密封液15的作用下形成液封；通过真空设备对含浸槽2与盖板5形成的密闭空间进行抽真空，并通过压力表11检测真空度，达到要求的真空度后停止真空设备并关闭真空接口10上的阀门；然后启动伸缩装置6带动网孔槽9下移至含浸槽2内的含浸液面内使含浸液作用于磁芯，含浸处理一定时间后，再启动升降装置4将盖板5抬升，然后将含浸处理后的磁芯取出并更换新的磁芯即可。
[0028]以上所述仅是本技术专利的优选实施方式，应当指出，对于本
的普通技术人员来说，在不脱离本技术专利原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本技术专利的保护范围。
本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种含浸机构，其特征在于：包括支撑板（1），所述支撑板（1）的顶部设置有含浸槽（2），所述含浸槽（2）的两侧上方对称设置有两个支板（3），在两个所述支板（3）上对称设置有两个升降装置（4），在两个所述升降装置（4）的顶部设置有盖板（5），所述盖板（5）的顶部中心位置处设置有执行轴竖直延伸至盖板（5）下方的伸缩装置（6），在所述伸缩装置（6）的执行轴末端设置有开口向下设置的卡框（7），所述卡框（7）的底部开口内侧对称设置有卡板（8），在卡板（8）上方的卡框（7）内放置有盛有磁芯的网孔槽（9），在位于含浸槽（2）正上方的盖板（5）上还设置有真空接口（10）和压力表（11），所述真空接口（10）与外部真空设备连通；在含浸槽（2）的顶部向内凹陷形成有环槽（12），在盖板（5）的底部设置有与含浸槽（2）的顶部对应的封板（13），所述封板（13）的底部环绕设置有与环槽（12）对应并插入环槽（12）内的封块（14），所述环槽（12）以及封块（14）均为倒凸字形结构，在封槽（12）内填充有密封液（15），所述封块（14）的上半部与环槽（12）的上半部侧壁贴合并相对滑动设置，封块（14）的下半部端部插入环槽（12）的下半部内腔中。2.根...

【专利技术属性】
技术研发人员：张鑫，
申请(专利权)人：江苏瑞德磁性材料有限公司，
类型：新型
国别省市：