【技术实现步骤摘要】
一种含浸机构
[0001]本技术涉及一种含浸机构，属于磁芯处理
技术介绍
[0002]磁芯在生产后需要使用真空含浸机进行含浸处理，以能提高产品质量，但现有的真空含浸机控制盛有磁芯的网槽升降的升降杆浸泡在含浸液中，升降杆上的轴套和密封圈一直浸泡在含浸液中，含浸液极易腐蚀密封圈，含浸液干后粘在升降杆上后又容易刮坏密封圈，密封圈的寿命大大降低，真空不能抽到最大影响真空效果，并且更换密封圈需要把所有含浸液全部清理干净后才能更换，更换极不方便；且盖板与含浸槽常采用铰接连接，其密封性能也较差，影响真空。
技术实现思路
[0003]为解决现有技术的不足，本技术提供一种含浸机构，能有效提高含浸槽与盖板之间的密封性，保证了真空度继而提高了含浸效果。
[0004]本技术所采用的技术方案为：
[0005]一种含浸机构，包括支撑板，支撑板的顶部设置有含浸槽，含浸槽的两侧上方对称设置有两个支板，在两个支板上对称设置有两个升降装置，在两个升降装置的顶部设置有盖板，盖板的顶部中心位置处设置有执行轴竖直延伸至盖板下...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种含浸机构，其特征在于：包括支撑板（1），所述支撑板（1）的顶部设置有含浸槽（2），所述含浸槽（2）的两侧上方对称设置有两个支板（3），在两个所述支板（3）上对称设置有两个升降装置（4），在两个所述升降装置（4）的顶部设置有盖板（5），所述盖板（5）的顶部中心位置处设置有执行轴竖直延伸至盖板（5）下方的伸缩装置（6），在所述伸缩装置（6）的执行轴末端设置有开口向下设置的卡框（7），所述卡框（7）的底部开口内侧对称设置有卡板（8），在卡板（8）上方的卡框（7）内放置有盛有磁芯的网孔槽（9），在位于含浸槽（2）正上方的盖板（5）上还设置有真空接口（10）和压力表（11），所述真空接口（10）与外部真空设备连通；在含浸槽（2）的顶部向内凹陷形成有环槽（12），在盖板（5）的底部设置有与含浸槽（2）的顶部对应的封板（13），所述封板（13）的底部环绕设置有与环槽（12）对应并插入环槽（12）内的封块（14），所述环槽（12）以及封块（14）均为倒凸字形结构，在封槽（12）内填充有密封液（15），所述封块（14）的上半部与环槽（12）的上半部侧壁贴合并相对滑动设置，封块（14）的下半部端部插入环槽（12）的下半部内腔中。2.根...
【专利技术属性】
技术研发人员：张鑫，
申请(专利权)人：江苏瑞德磁性材料有限公司，
类型：新型
国别省市：
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