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本实用新型公开了一种含浸机构，包括支撑板，支撑板的顶部设置有含浸槽，含浸槽的两侧上方对称设置有两个支板，在两个支板上对称设置有两个升降装置，在两个升降装置的顶部设置有盖板，盖板的顶部中心位置处设置有执行轴竖直延伸至盖板下方的伸缩装置，在伸缩...
该专利属于江苏瑞德磁性材料有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过江苏瑞德磁性材料有限公司授权不得商用。

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