【技术实现步骤摘要】
本技术涉及化学机械研磨装置，尤其涉及一种研磨垫调节器的緩冲结构。
技术介绍
化学机械研磨的制程中，研磨台与晶圓载具分别沿一定的方向旋转，研磨 台上设有研磨垫，其表面凹凸不平，可用于传输研磨液。当研磨垫使用一段时 间后，表面会被磨的平坦，以致研磨速率降低，同时研磨垫上的一些空洞会被 一些研磨液堵塞，影响研磨效果。因此需要研磨垫调节器，通过其上的钻石颗 粒刮粗研磨垫表面，同时去除残留在研磨垫中的堵塞的研磨液。研磨垫调节器 内部设有一个緩沖结构，这个緩冲结构用于研磨垫调节器下压，使研磨垫调节 器的钻石颗粒来调节研磨垫表面。请参阅附图说明图1,为现有技术中的研磨垫调节器的緩沖结构的示意图。该研磨垫 调节器主要由支撑环，中心圆片以及连接中心圓片和支撑环的十子架构组成。 十子架构的中段分别设有一段弯折部分，用于增加十子架构的弹性性能，可以 緩冲研磨垫调节器在使用过程中的压力。然而，现有研磨垫调节器的十子架构 的弯折部分很薄，容易断裂， 一旦十子架构的一端断裂就会影响到研磨垫调节 器的调节精度，需要频繁检查并更换该緩冲结构，不仅降低了生产效率，而且 相应提高了生产成本。因此，...
【技术保护点】
一种研磨垫调节器的缓冲结构，其首先安装在研磨垫调节器上，然后再将研磨金刚石盘安装到研磨垫调节器上；其特征在于：该结构整体是一个圆形结构，该圆形结构从最外缘到圆心分别包括最外缘的一圈凸块结构，中部设置的弯折段，临近圆心的环形凸块以及中心凹陷部。
【技术特征摘要】
1. 一种研磨垫调节器的缓冲结构，其首先安装在研磨垫调节器上，然后再将研磨金刚石盘安装到研磨垫调节器上；其特征在于该结构整体是一个圆形结构，该圆形结构从最外缘到圆心分别包括最外缘的一圈凸块结构，中部设置的弯折段，临近圆心的环形凸块以及中心凹陷部。2、 如权利要求1所述的一种研磨垫调节器的緩沖结构，其特征在于凸块结构 与研磨垫调节...
【专利技术属性】
技术研发人员：陈肖科，
申请(专利权)人：中芯国际集成电路制造上海有限公司，
类型：实用新型
国别省市：31[中国|上海]
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