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高灵敏度的光电导膜及其制备方法技术

技术编号:3223312 阅读:173 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术公开了一种高灵敏度和快响应的光电导膜及其制备方法,特征是采用cds和cdse渐变混合膜。cds和cdse的重量比为3∶1,掺杂杂质Cl和Cu的克分子浓度比为3∶2。采用二源蒸发,基板温度为250~300℃,空气中老化温度为380~400℃。本发明专利技术的光电导膜具有暗电阻大,亮暗电导比高,响应速度快,白光灵敏度和分辨率高等优点。(*该技术在2012年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种光电导膜及其制备方法,尤其是涉及一种高灵敏度和快响应速度的cds和cdse混合光电导膜及其制备方法。某些半导体材料吸收光子激发的载流子,从而改变材料电导率的现象称为光电导效应。具有光电导效应的材料制成的薄膜叫光电导膜,它在太阳电池、薄膜三极管和液晶光阀等光电子器件中具有重要的应用价值。常用的可见光区的光电导膜有cds和cdse。cds光电导膜亮暗电导比大,空间分辨率高,但响应时间慢(50~100ms),且由于其光谱响应曲线呈尖峰状(波出约510nm),白光灵敏度不高。cdse与cds同属硫属化合物半导体,所以与cds有很多相似之处,但cdse的禁带宽度比cds小,光电响应峰值波长也比cds长,故白光灵敏度比cds高,响应速度可达10ms以下,但空间分辨率上略有欠缺。常用的杂质是Cu或Ag等,它对改善暗电阻、亮暗电导比、响应速度等都有很大的作用。从原理上讲,Cl,Br,I,Al,Ga,In等均可作施主杂质,而Cu,Ag,Cd等可作受主杂质。选择任何一种施主或受主杂质都可大大增加暗电阻和亮暗电导比。常用的制备方法包括a.采用高纯的cds或cdse半导体材料,并与上本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种高灵敏度的光电导膜,其特征在于采用cds和cdse渐变混合膜,同时掺入双重杂质Cl和Cu。

【技术特征摘要】
1.一种高灵敏度的光电导膜,其特征在于采用cds和cdse渐变混合膜,同时掺入双重杂质Cl和Cu。2.根据权利要求1所述的一种高灵敏度的光电导膜,其特征在于所说的cds和cdse渐变混合膜的重量比为cds∶cdse=3∶1,其杂质克分子浓度为Cl∶Cu=3∶2。3.一种高灵敏度的光电导膜的制备方法,它包括a.选择高纯cds或cdse材料,并与某种杂质均匀混合;b.采用热蒸发将cds和cdse淀积在基板上;c.淀积条件真空度1×10-3Pa...

【专利技术属性】
技术研发人员:顾培夫
申请(专利权)人:浙江大学
类型:发明
国别省市:33[中国|浙江]

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