金属网格结构、触控显示设备和移动终端制造技术

本发明专利技术公开了一种用于电容式触摸屏的金属网格结构、触控显示设备和移动终端，金属网格结构包括：顺序布置的第一金属网格层、第一涂布层、第一光学胶层、第二金属网格层和第二涂布层，其中，该第一涂布层涂布于该第一金属网格层，该第一涂布层的厚度小于该第一金属网格层的厚度，该第二涂布层涂布于该第二金属网格层，该第二涂布层的厚度小于该第二金属网格层的厚度。该结构可以解决现有触摸屏存在的铜膜薄、基材厚、透过率低和反射率大的问题，有效提升产品的经济性及导电性。并且相比现有金属网格结构，本发明专利技术由于无任何聚合物基材，因此整体厚度明显变薄，提高了薄膜总透过率和实现了触摸屏的轻薄化。了触摸屏的轻薄化。了触摸屏的轻薄化。

【技术实现步骤摘要】
金属网格结构、触控显示设备和移动终端


[0001]本专利技术涉及光学薄膜领域，具体涉及用于电容式触摸屏的金属网 格结构、触控显示设备和移动终端。

技术介绍

[0002]随着触控技术的发展，传统的电阻式触摸屏逐步被更轻薄、触控 性能更佳的电容式触摸屏所取代。在诸多电容式触摸屏中，业界已经 广泛使用金属网格(metal mesh)。
[0003]目前，业界广泛采用的金属网格技术有两种：铜金属网格技术和 卤化银纳米颗粒金属网格技术。这两种技术均将金属网格电极做在涤 纶树脂(PET)基材上，然后使用OCA贴膜工艺将PET透明导电膜 贴合在玻璃盖板之上，形成GFF或GF2结构的电容式触摸屏。
[0004]如图1所示，GFF结构自上而下依次包括上线路ITO薄膜层、上 层OCA光学胶层、下线路ITO薄膜层。然而，这种技术存在以下缺 点：
[0005](1)铜膜薄、基材厚
[0006]该结构需要采用ITO薄膜层，即首先在塑料基材(如PET)上镀 制金属膜，接着再使用黄光制程将金属层图案化成金属电极，这样不 仅会导致生产的成本高、生产效率慢等问题，同时，这种结构涉及到 真空镀膜工艺，对ITO薄膜层中金属镀层与基材厚度及种类均有严格 限制，铜膜厚度很薄，保持在2um以下，相应地，为限制铜膜弯曲变 形，PET基材设置得很厚，保持在100um左右。
[0007](2)透光率低
[0008]由于PET基材本身的可见光区透过率低于92％，在这种PET透 明衬底上制备金属网格导电层之后，其复合透过率更低，很难获得高 透过率和低电阻的透明导电薄膜。
[0009](3)反射率大
[0010]PET基材本身在可见光区的反射率很大，制成触摸屏之后，会显 著降低触摸屏的图形真实度，因此通常还需要粘接具有降低反射率功 能的玻璃，这样不仅增加触摸屏成本，还增加触摸屏重量，并降低触 摸屏柔性，实际也并没有完全解决中高端屏幕的轻薄化应用问题。

技术实现思路

[0011]本专利技术旨在提供一种电容式触摸屏，可以解决现有触摸屏存在的 铜膜薄、基材厚、透过率低和反射率大的问题，有效提升产品的经济 性及导电性，实现触摸屏轻薄化。
[0012]根据本专利技术的一个方面，提供了一种用于电容式触摸屏的金属网 格结构，包括：顺序布置的第一金属网格层、第一涂布层、第一光学 胶层、第二金属网格层和第二涂布层，其中，该第一涂布层涂布于该 第一金属网格层，该第一涂布层的厚度小于该第一金属网格层的厚 度，该第二涂布层涂布于该第二金属网格层，该第二涂布层的厚度小 于该第二金属网格层的厚度。
[0013]优选地，该第一金属网格层通过对涂布有该第一涂布层的第一铜 箔进行光刻制
程而得到；以及该第二金属网格层通过对涂布有该第二 涂布层的第二铜箔进行光刻制程而得到。
[0014]优选地，该第一金属网格层与该第二金属网格层的厚度均介于 0.5～100μm之间，优选介于2～100μm之间。
[0015]优选地，该第一涂布层与该第二涂布层的厚度均介于0.5～50μm 之间。
[0016]优选地，该第一涂布层与该第二涂布层的材料均包括但不限于丙 烯酸树脂、乙烯
‑
醋酸共聚物、聚乙烯醇缩丁醛。
[0017]优选地，还包括：包覆该第一金属网格层的第一黑化层；包覆该 第一黑化层的第三涂布层；包覆该第二金属网格层的第二黑化层；以 及包覆该第二黑化层的第四涂布层。
[0018]优选地，该第一涂布层、该第二涂布层、该第三涂布层和该第四 涂布层的材料相同。
[0019]优选地，该第三涂布层与该第四涂布层的厚度均介于0.1～50μm 之间，优选介于0.5～50μm之间。
[0020]根据本专利技术的另一个方面，提供了一种触控显示设备，其特征在 于，包括：顺序布置的玻璃盖板、第二光学胶层以及权利要求1至8 中任一项该的金属网格结构、第三光学胶层以及显示面板模组。
[0021]根据本专利技术的又一个方面，提供了一种移动终端，其特征在于， 包括权利要求9该的触控显示设备。
[0022]本专利技术提供了一种用于电容式触摸屏的金属网格结构，可以解决 现有触摸屏存在的铜膜薄、基材厚、透过率低和反射率大的问题，有 效提升产品的经济性及导电性。并且相比现有金属网格结构，本专利技术 结构由于无任何聚合物基材，因此整体厚度明显变薄，提高了薄膜总 透过率和实现了触摸屏的轻薄化。
附图说明
[0023]此处所说明的附图用来提供对本专利技术的进一步理解，构成本申请 的一部分，本专利技术的示意性实施例及其说明用于解释本专利技术，并不构 成对本专利技术的不当限定。在附图中:
[0024]图1是现有技术中电容式触摸屏GFF结构的示意图；
[0025]图2是根据本专利技术实施例的用于电容式触摸屏的金属网格结构示 意图；
[0026]图3是现有技术中真空镀层的形成过程示意图；以及
[0027]图4根据本专利技术实施例的用于电容式触摸屏的金属网格另一结构 示意图。图5是根据本专利技术实施例的一种金属电极结构制造方法的流程图。
具体实施方式
[0028]需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例 中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本 专利技术。
[0029]本专利技术实施例提供了一种用于电容式触摸屏的金属网格结构。图 一是根据本专利技术实施例的用于电容式触摸屏的金属网格结构示意图 的。如图1所示，该金属网格结构100包括：顺序布置的第一金属网 格层101、第一涂布层102、第一光学胶层103、第二金属网格层104 和第二涂布层105，其中，第一涂布层102涂布于第一金属网格层101， 第一涂布层
102的厚度小于第一金属网格层101的厚度，第二涂布层 105涂布于第二金属网格层104，第二涂布层105的厚度小于第二金 属网格层104的厚度。
[0030]需要说明是的，第一涂布层102和第二涂布层105材料包括但不 限于丙烯酸树脂、乙烯
‑
醋酸共聚物、聚乙烯醇缩丁醛。以丙烯酸树 脂涂料为例，其是以(甲基)丙烯酸酯、苯乙烯为主体，同其他丙烯 酸酯共聚所得丙烯酸树脂制得的热塑性或热固性树脂涂料或丙烯酸 辐射涂料。
[0031]通过涂布技术将涂布层涂布于第一金属网格层和第二金属网格 层，一方面，可以保护铜箔底部在光刻制程时不被药水侵蚀，避免侧 蚀或底蚀的现象发生；另一方面，也可以避免光刻制程时药水层影响 光学胶层。本专利技术金属网格结构自上而下依次包括第一金属网格层 101、第一涂布层102、第一光学胶层103、第二金属网格层104和第 二涂布层105，通过将第一涂布层涂布于厚度大于其的第一金属网格 层，将第二涂布层涂布于厚度大于其的第二金属网格层，可以保证制 备全过程中无需使用任何聚合物基材，极大地减少了资源的浪费，并 且金属网格层的厚度可以做到大于2um。
[0032]该结构有效提升了金属网格层的厚度，减小了触控屏的表面本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于电容式触摸屏的金属网格结构，其特征在于，包括：顺序布置的第一金属网格层、第一涂布层、第一光学胶层、第二金属网格层和第二涂布层，其中，所述第一涂布层涂布于所述第一金属网格层，所述第一涂布层的厚度小于所述第一金属网格层的厚度，所述第二涂布层涂布于所述第二金属网格层，所述第二涂布层的厚度小于所述第二金属网格层的厚度。2.根据权利要求1所述的金属网格结构，其特征在于，所述第一金属网格层通过对涂布有所述第一涂布层的第一铜箔进行光刻制程而得到；以及所述第二金属网格层通过对涂布有所述第二涂布层的第二铜箔进行光刻制程而得到。3.根据权利要求1所述的金属网格结构，其特征在于，所述第一金属网格层与所述第二金属网格层的厚度均介于0.5～100μm之间，优选介于2～100μm之间。4.根据权利要求1所述的金属网格结构，其特征在于，所述第一涂布层与所述第二涂布层的厚度均介于0.5～50μm之间。5.根据权利要求1所述的金属网格结构，其特征...

【专利技术属性】
技术研发人员：苏伟，叶宗和，
申请(专利权)人：深圳市志凌伟业光电有限公司，
类型：发明
国别省市：