一种面式蒸发源及蒸镀设备制造技术

本发明专利技术公开了一种面式蒸发源及蒸镀设备，包括外壳体，所述外壳体内放置有蒸镀坩埚，所述蒸镀坩埚内从一端至另一端均匀开设有若干个蒸镀腔，所述蒸镀腔上端一体成型有窄口，所述窄口上端一体成型有开放喷口，两两所述开放喷口的喷射面相衔接，所述蒸镀坩埚内且围绕每个所述蒸镀腔缠绕有电磁线圈，所述蒸镀坩埚上方处安装有基板调节组件。本发明专利技术的优点：其可对基板进行一次性喷射且喷射均匀度较好，整体工作效率较高。工作效率较高。工作效率较高。

【技术实现步骤摘要】
一种面式蒸发源及蒸镀设备


[0001]本专利技术涉及蒸镀
，具体是指一种面式蒸发源及蒸镀设备。

技术介绍

[0002]蒸镀，该方法是将材料在真空环境中加热，使之气化并沉积到基片而获得薄膜材料的方法，又称为真空蒸镀或真空镀膜。蒸镀则需要蒸镀源对物料进行融化并喷射至基板上，完成蒸镀。
[0003]现有的蒸发源基本都是点喷射或线喷射式，其对基板整个面来讲，喷射的均匀度不够且效率较差，无法对基板进行一次性喷射到位。

技术实现思路

[0004]本专利技术为了解决上述的各种问题，提供了一种面式蒸发源及蒸镀设备，其可对基板进行一次性喷射且喷射均匀度较好，整体工作效率较高。
[0005]为解决上述技术问题，本专利技术提供的技术方案为：一种面式蒸发源及蒸镀设备，包括外壳体，所述外壳体内放置有蒸镀坩埚，所述蒸镀坩埚内从一端至另一端均匀开设有若干个蒸镀腔，所述蒸镀腔上端一体成型有窄口，所述窄口上端一体成型有开放喷口，两两所述开放喷口的喷射面相衔接，所述蒸镀坩埚内且围绕每个所述蒸镀腔缠绕有电磁线圈，所述蒸镀坩埚上方处安装有基板调节本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种面式蒸发源及蒸镀设备，包括外壳体(1)，其特征在于:所述外壳体(1)内放置有蒸镀坩埚(2)，所述蒸镀坩埚(2)内从一端至另一端均匀开设有若干个蒸镀腔(3)，所述蒸镀腔(3)上端一体成型有窄口(4)，所述窄口(4)上端一体成型有开放喷口(5)，两两所述开放喷口(5)的喷射面相衔接，所述蒸镀坩埚(2)内且围绕每个所述蒸镀腔(3)缠绕有电磁线圈(6)，所述蒸镀坩埚(2)上方处安装有基板调节组件(7)。2.根据权利要求1所述的一种面式蒸发源及蒸镀设备，其特征在于：所述基板调节组件(7)包括安装顶板(701)，所述安装顶板(701)下面两侧前后端处均通过螺钉固定有小型电推杆(702)，所述小型电推杆(702)另一端上通过螺钉固定有真空吸盘(703)，所述真空吸盘(703)下面吸附有基板(704)。3.根据权利要求2所述的一种面式蒸发源及蒸镀设备，其特征在于：所述安装顶板(701)下面通过螺钉固定有真空泵(705)，所述真空泵(705)上连通有连管(706)，所述连管(706)另一端...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈景升，
申请(专利权)人：江苏微迈思半导体科技有限公司，
类型：发明
国别省市：