一种半导体石英玻璃制品用真空脱羟炉制造技术

本实用新型专利技术涉及真空脱羟炉技术领域，且公开了一种半导体石英玻璃制品用真空脱羟炉，包括底座和炉体，所述炉体固定设置于底座的上表面，所述炉体的左侧壁两端均开设有滑槽，两个所述滑槽的内部均滑动设置有滑杆，两个所述滑杆的左端之间设置有盖板，所述盖板的两端均通过转杆与对应的滑杆转动连接，所述盖板的下端两侧均固定设置有支撑板，两个所述支撑板的表面均放置有放置架，所述炉体的上表面中部设置有固定所述盖板的限位机构。本实用新型专利技术能够同时进行卸料和加工，大大的减少了设备停机时间，提高了加工效率。提高了加工效率。提高了加工效率。

【技术实现步骤摘要】
一种半导体石英玻璃制品用真空脱羟炉


[0001]本技术涉及真空脱羟炉
，尤其涉及一种半导体石英玻璃制品用真空脱羟炉。

技术介绍

[0002]在石英材料制品生产完成后，需要对成品进行加热，除去材料中的羟基化合物，目前常用的脱羟基设备为真空脱羟炉，通过将石英制品置于脱羟炉内部，通过加热和其他化学手段，除去材料中的羟基化合物。
[0003]传统的半导体石英玻璃制品用真空脱羟炉，在脱羟结束后需要将装有产品的放置架卸下，由于刚加工完，放置架及产品具有较高的温度，卸料需要耗费较多的时间，即设备需要停机较长时间，大大的降低了加工效率。

技术实现思路

[0004]本技术的目的是为了解决现有技术中半导体石英玻璃制品用真空脱羟炉需要长时间的停机卸料，非常浪费时间，大大的降低了加工效率的问题，而提出的一种半导体石英玻璃制品用真空脱羟炉。
[0005]为了实现上述目的，本技术采用了如下技术方案：
[0006]一种半导体石英玻璃制品用真空脱羟炉，包括底座和炉体，所述炉体固定设置于底座的上表面，所述炉体的左侧壁两端均开设有滑槽，两本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种半导体石英玻璃制品用真空脱羟炉，包括底座(1)和炉体(2)，其特征在于，所述炉体(2)固定设置于底座(1)的上表面，所述炉体(2)的左侧壁两端均开设有滑槽，两个所述滑槽的内部均滑动设置有滑杆(3)，两个所述滑杆(3)的左端之间设置有盖板(4)，所述盖板(4)的两端均通过转杆(5)与对应的滑杆(3)转动连接，所述盖板(4)的下端两侧均固定设置有支撑板(6)，两个所述支撑板(6)的表面均放置有放置架(7)，所述炉体(2)的上表面中部设置有固定所述盖板(4)的限位机构。2.根据权利要求1所述的一种半导体石英玻璃制品用真空脱羟炉，其特征在于，所述限位机构包括螺纹杆(8)和电机(12)，所述螺纹杆(8)转动设置于上侧所述滑槽的内部，上侧所述滑杆(3)与螺纹杆(8)螺纹套接，上侧所述滑槽的右侧开设空腔，所述螺纹杆(8)的右端延伸至空腔的内部，所述炉体(2)的上表面中部固定设置有支撑架(10)，所述支撑架(10)的下表面转动设置有传动杆(11)，所述传动杆(11)的下端延伸至空腔的内部，所述螺纹杆(8)的右端和传动杆(11)的下端均固定套接有锥齿轮(13)，两个所述锥齿轮(13)啮合连接，所述电机(12)设...

【专利技术属性】
技术研发人员：夏雨，陈尚华，
申请(专利权)人：东海县安鸿石英科技有限公司，
类型：新型
国别省市：