【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及光学放大率调节系统和投影曝光设备。
技术介绍
光刻法广泛应用于各领域，在这种方法中，曝光设备利用照相术将规定的图形印制在喷涂了诸如光致抗蚀剂的感光材料的衬底表面上，此后利用蚀刻过程将该图形形成在衬底上。最近几年还利用曝光设备制造印刷电路板。由于对电子设备的高速操作、多功能性以及小型化的要求越来越高，所以对印刷电路板的多层、密集性以及显微性的要求越来越高。尤其是在制造多层印刷电路板过程中，在对图形曝光时，要求每层上的图形与另一层上的图形具有极高的对准精度。如上所述，随着印刷电路板进一步小型化和多层化趋势的发展，再也不能忽视因为构成印刷电路板的铜箔与环氧树脂的膨胀系数不同而导致印刷电路板本身产生的膨胀和收缩。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种可以根据印刷电路板的膨胀或收缩调节投影图像的放大率的光学放大率调节系统和投影曝光设备。根据本专利技术的光学放大率调节系统的优选实施例具有两个透镜第一透镜，是平凸透镜或平凹透镜，具有屈光力φ2，由如下等式定义；以及第二透镜，是凹平透镜或凸平透镜，具有屈光力φ3，由如下等式定义，它们均被安装在光学曝光系统的待投影...
【技术保护点】
一种光学放大率调节系统，该系统包括： 第一平凸透镜或平凹透镜，具有屈光力φ２，由如下等式定义；以及第二凹平透镜或凸平透镜，具有屈光力φ３，由如下等式定义，它们均被安装在光学曝光系统的物面侧或图像侧的远心位置，其中通过改变所述透镜之间的间距可以精细改变所述光学曝光系统的总系统放大率， φ３＝－Φ（Ｓ１＋ｅ１）／ｄ０ φ２＝－（Φ－φ３）／（１－ｄ０φ３） 其中Φ：所述光学放大率调节系统的总屈光力， Ｓ１：从所述第一透镜的第一面到所述物面，即光掩模面，的距离， ｄ０：满足放大率β＝１的所述两个透镜之间的中心间隔， ｅ１＝ｔ１／ｎ１，ｔ１...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】JP 2001-11-21 355425/2001;JP 2001-11-22 356784/2001.一种光学放大率调节系统，该系统包括第一平凸透镜或平凹透镜，具有屈光力φ2，由如下等式定义；以及第二凹平透镜或凸平透镜，具有屈光力φ3，由如下等式定义，它们均被安装在光学曝光系统的物面侧或图像侧的远心位置，其中通过改变所述透镜之间的间距可以精细改变所述光学曝光系统的总系统放大率，φ3＝-Ф(S1+e1)/d0φ2＝-(Ф-φ3)/(1-d0φ3)其中Ф所述光学放大率调节系统的总屈光力，S1从所述第一透镜的第一面到所述物面，即光掩模面，的距离，d0满足放大率β＝1的所述两个透镜之间的中心间隔，e1＝t1/n1，t1所述第一透镜1的中心厚度，n1所述第一透镜1的折射率。2.根据权利要求1所述的系统，其中在插入了其总厚度等于所述两个透镜的总中心厚度的平行面的情况下，所述光学曝光系统使其光学像差事先根据其目的被校正。3.根据权利要求1所述的系统，其中所述两个透镜是圆柱形透镜。4.根据权利要求1所述的系统，其中设置所述两个透镜的色散系数υ1和υ2以满足如下等式，υ1/υ2φ2/φ35.一种用于将电路图形等印制在印刷电路板上的光学投影曝光设备，该设备包括光掩模，具有规定图形，投影装置，用于将所述光掩模图形投影到所述印刷电路板上，光源，通过所述投影装置辐照曝光射线，从而将所述光掩模图形印制在所述印刷电路板上，以及光学放大率调节系统，安装在所述光掩模与所述印刷电路板之间，从而至少在一个任意方向校正所述图形的放大率。6.根据权利要求5所述的设备，其中...
【专利技术属性】
技术研发人员：松本德嘉，小渡望，平林洋一，
申请(专利权)人：株式会社阿迪泰克工程，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
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