【技术实现步骤摘要】
等离子清洗方法及等离子清洗机
[0001]本专利技术涉及等离子清洗领域,具体涉及一种等离子清洗方法及等离子清洗机。
技术介绍
[0002]等离子清洗机(plasma cleaner)也叫等离子清洁机,或者等离子表面处理仪,是一种全新的高科技技术,利用等离子体来达到常规清洗方法无法达到的效果。等离子体是物质的一种状态,也叫做物质的第四态,并不属于常见的固液气三态。对气体施加足够的能量使之离化便成为等离子状态。等离子体的“活性”组分包括:离子、电子、原子、活性基团、激发态的核素(亚稳态)、光子等。等离子清洁机就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面,从而实现清洁、涂覆等目的。
[0003]等离子清洗机通过向腔体内通入气体,再对气体进行电离使其成为等离子状态。现有的等离子清洗机通常只有一个通气孔来通入一种气体,清洗不同的产品时需要更换不同的等离子清洗机,增加了成本。
技术实现思路
[0004]本专利技术的主要目的是,提供一种等离子清洗方法及等离子清洗机,旨在在清洗不同的待清洗产品时,输出适用待清洗产品的
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种等离子清洗方法,应用于等离子清洗机,所述等离子清洗机具有清洗腔和与所述清洗腔连通的气源装置,所述气源装置能够输出多路不同类型气源,其特征在于,所述等离子清洗方法包括以下步骤:接收清洗指令时,对清洗腔抽真空,并获取清洗腔内的气压值;在清洗腔内的气压值达到气源类型对应的第一预设通气气压值时,控制气源装置向清洗腔内通入对应气源类型的气体;在清洗腔内的气压值达到气源类型对应的第二预设通气气压值时,对清洗腔内的气体进行电离,以清洗置于清洗腔内的待清洗产品。2.如权利要求1所述的等离子清洗方法,所述等离子清洗机包括围合形成所述清洗腔的上腔体和下腔体以及用于驱动所述上腔体和下腔体打开或者闭合的驱动组件,其特征在于,所述接收清洗指令时,对清洗腔抽真空,并获取清洗腔内的气压值具体地包括:接收清洗指令时,控制所述驱动组件驱动上腔体和下腔体闭合以形成密封的所述清洗腔,以及对清洗腔抽真空,并获取清洗腔内的气压值;所述对清洗腔内的气体进行电离,以清洗置于清洗腔内的待清洗产品之后还包括:向清洗腔通入破真空气体,并控制所述驱动组件驱动所述清洗腔分离为所述上腔体和所述下腔体。3.如权利要求2所述的等离子清洗方法,其特征在于,所述等离子清洗机还包括用于检测清洗腔内气压值的气压检测装置,所述向清洗腔通入破真空气体,以使所述清洗腔分离为所述上腔体和所述下腔体具体为:向清洗腔通入破真空气体,获取气压检测装置检测的清洗腔内的气压值;在清洗腔内的气压值达到预设破真空气压值时,控制所述驱动组件驱动所述上腔体和所述下腔体分离打开。4.如权利要求3所述的等离子清洗方法,其特征在于,所述多路不同类型气源包括氢气源、氩气源、氧气源、氩氢气源和氩氧气源。5.如权利要求3所述的等离子清洗方法,其特征在于,所述破真空气体为空气或者氮气。6.一种等离子清洗机,其特征在于,所述等离子清洗机包括:清洗装置,具有清洗腔和用于向所述清洗腔内的气体进行放电的电离组件;气源装置,与所述清洗腔连通,所述气源装置能够输出多路不同类型气源;抽真空装置,与所述清洗腔...
【专利技术属性】
技术研发人员:孙飞翔,贺岳,钟军勇,孔令民,朱霆,周学慧,张凯,
申请(专利权)人:深圳泰德半导体装备有限公司,
类型:发明
国别省市:
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