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本发明公开了一种等离子清洗方法及等离子清洗机，等离子清洗机具有清洗腔和与清洗腔连通的气源装置，气源装置能够输出多路不同类型气源，等离子清洗方法包括以下步骤：接收清洗指令时，对清洗腔抽真空，并获取清洗腔内的气压值；在清洗腔内的气压值达到气源类...
该专利属于深圳泰德半导体装备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳泰德半导体装备有限公司授权不得商用。

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