发光装置及其制造方法制造方法及图纸

一种制作顶发射形发光装置的方法，能保持稳定发光效率且无漏电流。该发光装置（１０）包括置于衬底（１）上的下电极（４）、置于下电极（４）上的至少有一个发光层（６ｃ）的有机层（６）、和置于有机层（６）上的透光上电极（７）。在该发光装置（１０）中，下电极（４）有两层结构，包括金属材料层（２ｃ）和置于金属材料层上的缓冲薄膜层（３ｃ）。缓冲薄膜层（３ｃ）由构成金属材料层（２ｃ）的金属材料的氧化物中电导率比有机层（６）高的材料或铬的氧化物制成。因此，做成由缓冲薄膜层（３ｃ）而使金属材料层（２ｃ）的表面粗糙度得到缓和的二层结构，保证了下电极（４）和透光的上电极（７）之间间隔的均一性。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及，更具体说，涉及在电极间有发射层的发射装置及其制造方法。这种结构的发光装置是所谓的“顶发射形”显示元件，其以下述方式工作，即有机发射层105产生的光被金属材料的下电极102反射，而使得通过放置成与衬底101相对的上电极107发出。另外，这种结构的发光装置的制造是，首先采用适当选择的工艺，如溅射、电阻加热蒸汽淀积、电子束蒸气淀积在衬底101上形成金属材料层，再通过金属材料层作图案形来形成下电极102。此后的步骤是为有机层103-105、上电极107和透明导电膜108通过淀积掩膜，连续淀积材料，淀积后接着作图案形以形成有机层106、上电极107和透明导电层108。然而，以上所述的显示装置及其制造方法有如下问题。即，所有金属材料层都倾向于有多晶结构，不管是否是用溅射、电阻加热蒸气淀积、或电子束蒸气淀积。结果，金属材料层作图案形成的下电极102由于表面明显变糙而形成凸起，如图5所示(放大截面图)，虽然不像ITO(铟锡氧化物)形成的透明阳极那样严重。结果是，在下电极102上形成的有机层106在相应于凸起点局部变薄，结果，跨越下电极102和上电极107间的有机层106的距离d本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种发光装置，包括一置于衬底上的下电极、一包含有放置于下电极上的至少一个发光层的有机层及一置于所述有机层上而透光的上电极，其特征在于，所述下电极是包括有金属材料层和在该金属材料层上形成的缓冲薄膜层的成层结构，所述缓冲薄膜由构成金属材料层的金属材料的任何氧化物制成，所述氧化物的电导率高于所述有机层。

【技术特征摘要】
JP 2001-1-15 6383/011.一种发光装置，包括一置于衬底上的下电极、一包含有放置于下电极上的至少一个发光层的有机层及一置于所述有机层上而透光的上电极，其特征在于，所述下电极是包括有金属材料层和在该金属材料层上形成的缓冲薄膜层的成层结构，所述缓冲薄膜由构成金属材料层的金属材料的任何氧化物制成，所述氧化物的电导率高于所述有机层。2.一种发光装置，包括有一置于衬底上的下电极、一包含有放置于下电极上的至少一个发光层的有机层及一置于所述有机层上而透光的上电极组成，其特征在于，所述下电极是包括有金属材料层和在该金属材料层上形成的缓冲薄膜层的成层结构，所述缓冲薄膜由铬氧化物制成。3.一种制造发光装置的方法，包括下述步骤在衬底上形成下电极，在下电极上形成包括发射层的有机层，再在衬底之上形成透光...

【专利技术属性】
技术研发人员：平野贵之，
申请(专利权)人：索尼公司，
类型：发明
国别省市：JP[日本]