一种掩膜版涂胶装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种掩膜版涂胶装置，包括连接有旋转装置的涂胶平台，所述涂胶平台上设置有用于放置待涂胶掩膜版且连接有升降装置的升降板，所述升降板上方设置有可升降的涂胶盖板；在涂胶时，所述涂胶盖板下降至所述涂胶平台上并覆盖在待涂胶掩膜版上方，随所述涂胶平台和待涂胶掩膜版同步旋转；本实用新型专利技术的掩膜版涂胶装置，通过真空吸附的方法实现对掩膜版进行固定，然后利用旋转的方式实现涂胶，保障待涂胶掩膜版的稳定性，提高涂布膜厚的均一性；在待涂胶掩膜版上设置涂胶盖板，缩小待涂胶掩膜版上部空间大小，改善气流，避免出现大面积、大速度的空气流动问题，实现确保膜厚的稳定性。的稳定性。的稳定性。

【技术实现步骤摘要】
一种掩膜版涂胶装置


[0001]本技术属于掩膜版生产设备领域，更具体的说涉及一种掩膜版涂胶装置。

技术介绍

[0002]光刻掩膜版(Photomask)也称光罩或MASK，是一种用于微电子制造过程中的图形转移工具或模版。通过曝光、显影以及蚀刻等工序，在玻璃铬版上制作需要的微观图形，主要应用于微电子平版印刷。制作掩膜版所使用的原材料为铬版，其是一种硬面掩膜版材料，即掩膜版基版。它是在平整的、高光洁度的玻璃基版上通过直流磁控溅射沉积上铬
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氧化铬薄膜而形成铬膜基版，再在其上涂敷一层光致抗蚀剂(又称光刻胶)制成铬版原料。
[0003]涂胶机是用来将光刻胶均匀地涂布在玻璃基板的一种工艺设备，涂布平台在涂布时用来放置玻璃基板，如果涂布平台的某个支撑点发生高度的变化，则涂布平台会发生倾斜，水平度变差，会引起涂布时涂布间隙不一致，导致涂布均一性变差。现有的涂胶机构造中，无法监控涂布平台的支撑点的高度变化，也难以对平台的水平度进行调整。目前结构中存在以下两点不足：A.无法实时监控涂布平台的水平度，即使涂布平台发生倾斜，也无法及时发现。本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种掩膜版涂胶装置，其特征在于，包括连接有旋转装置的涂胶平台，所述涂胶平台上设置有用于放置待涂胶掩膜版且连接有升降装置的升降板，所述升降板上方设置有可升降的涂胶盖板；在涂胶时，所述涂胶盖板下降至所述涂胶平台上并覆盖在待涂胶掩膜版上方，随所述涂胶平台和待涂胶掩膜版同步旋转。2.根据权利要求1所述的掩膜版涂胶装置，其特征在于，所述升降板的上表面上设置有若干支撑垫，待涂胶掩膜版置于升降板上并由所述支撑垫支撑。3.根据权利要求2所述的掩膜版涂胶装置，其特征在于，所述支撑垫由硅胶制成，支撑垫包括设置在升降板中心位置的大支撑块、均布设置在升降板整个上表面上的若干支撑点柱和绕设在升降板外边沿位置的密封支撑圈。4.根据权利要求1所述的掩膜版涂胶装置，其特征在于，所述升降板上还连接有真空装置，所述真空装置包括设置在升降板上的若干抽真空孔、穿过涂胶平台且与所述抽真空孔连通的抽真空管和连接在所述抽真空管末端的真空机。5.根据权利要求1所述的掩膜版涂胶装置，其特征在于，所述升降板尺寸不大于待涂胶掩膜版尺寸。6.根据权利要求1所述的掩膜版涂胶装置，其特征在于，所述涂胶平台的上表面上设置有第一容置槽，所述升降板置于所述第一容置槽内，所述升降装置包括第一升降气缸，所...

【专利技术属性】
技术研发人员：左立波，龚清华，魏辉，马小辉，蔡航，李伟，刘许霞，
申请(专利权)人：合肥清溢光电有限公司，
类型：新型
国别省市：