一种光伏硅片表面蚀刻设备制造技术

本实用新型专利技术公开了一种光伏硅片表面蚀刻设备，涉及光伏设备技术领域，包括蚀刻箱和支架，支架焊接在蚀刻箱的上方，蚀刻箱的内部开设有蚀刻间和对流间，蚀刻间位于对流间的正上方，蚀刻间内部的顶面均匀开设有若干个通孔，支架的左右两端均嵌接有电动推杆，左右两端的电动推杆之间的底部焊接有升降板，升降板的底部均匀插接有若干根空心杆，若干根空心杆的底部均熔接有吸附塞，吸附塞的底部开设有阶梯槽，支架的上表面安装有用于抽气的高压风机。通过将硅片吸在吸附塞的阶梯槽内，并使得硅片的下表面浸泡在蚀刻液中，以此可以对硅片的下表面进行蚀刻，而硅片的上表面位于阶梯槽内，所以硅片的上表面不易被蚀刻液侵蚀。所以硅片的上表面不易被蚀刻液侵蚀。所以硅片的上表面不易被蚀刻液侵蚀。

【技术实现步骤摘要】
一种光伏硅片表面蚀刻设备


[0001]本技术涉及光伏设备
，特别是涉及一种光伏硅片表面蚀刻设备。

技术介绍

[0002]在光伏太阳能行业，太阳能电池的制造要经过制绒，扩散，蚀刻，镀膜，丝网印刷和烧结六大工序，硅片是太阳能电池片的载体，硅片蚀刻目的是要去掉硅片背面的PN结，但不能刻蚀硅片正面的PN结。
[0003]现目前硅片的蚀刻设备大致分为浸泡式和喷淋式两种，浸泡式蚀刻设备就是将硅片需蚀刻面浸泡在蚀刻液中进行蚀刻，而在蚀刻时，由于蚀刻液处于静止状态，所以蚀刻液与硅片反应速度慢，蚀刻效率偏低；而喷淋式蚀刻设备，就是将蚀刻液喷淋在硅片表面进行蚀刻，喷淋时蚀刻液流动，所以蚀刻效率更高，但是喷淋时，蚀刻液飞溅，从而蚀刻液容易流入到硅片的正面并造成侵蚀，为此我们提出了一种光伏硅片表面蚀刻设备，以解决上述提出的技术问题。

技术实现思路

[0004]本技术提供了一种光伏硅片表面蚀刻设备以解决上述
技术介绍
提出的现有的蚀刻设备蚀刻效率低，以及蚀刻液会流到硅片正面的问题。
[0005]为了实现上述目的，本技术采用如下技术方案：...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光伏硅片表面蚀刻设备，包括蚀刻箱（1）和支架（2），所述支架（2）焊接在蚀刻箱（1）的上方，其特征在于：所述蚀刻箱（1）的内部开设有蚀刻间（101）和对流间（102），所述蚀刻间（101）位于对流间（102）的正上方，所述蚀刻间（101）内部的顶面均匀开设有若干个通孔（103）；所述支架（2）的左右两端均嵌接有电动推杆（5），左右两端的所述电动推杆（5）之间的底部焊接有升降板（6），所述升降板（6）的底部均匀插接有若干根空心杆（7），若干根所述空心杆（7）的底部均熔接有吸附塞（8），所述吸附塞（8）的底部开设有阶梯槽（801），所述支架（2）的上表面安装有用于抽气的高压风机（9），所述高压风机（9）的进气口处插接有抽气管（901）。2.根据权利要求1所述的一种光伏硅片表面蚀刻设备，其特征在于：所述升降板（6）位于支架（2）与蚀刻箱（1）之间，而若干个所述空心杆（7）分别位于若干个所述通孔（103）的正上方。3.根据权利要求2所述的一种光伏硅片表面蚀刻设备，其特征在于：所述空心杆（7）的下端延伸进同侧所述通孔（103）的内部，所述吸附塞（8...

【专利技术属性】
技术研发人员：付嘉伟，
申请(专利权)人：上海亘今精密机电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：