【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种工艺参数分析方法,特别涉及一种封装后测试参数的分析方法。
技术介绍
在半导体制造技术中,要完成一半导体产品通常要经过许多个工艺,例如光刻工艺、蚀刻工艺、离子注入工艺等;亦即在半导体制造过程中必须应用到庞大数量的机台,以及许多繁琐的程序。因此,本领域技术人员皆致力于确保机台运作正常、维持或提高产品合格率、侦测确认问题点以及机台维修等作业,以期使半导体产品的生产速度及品质能够合乎客户需求。一般而言,要探讨半导体工艺的问题可以从下列数项资料着手进行分析,包括工艺参数资料、线上品质测试(In-line QC)资料、缺陷检测(defect inspection)资料、样品测试(sample test)资料、晶片测试(wafer test)资料以及封装后测试(final test)资料。其中,封装后测试资料乃是当晶片切割并进行封装程序后,对所制得的半导体组件进行产品测试所得到的检测值。在现有技术中,请参照图1所示,首先进行步骤101,此时本领域技术人员会针对经过封装工艺之后的每一半导体组件进行各项封装后测试项目的测试,如半导体组件的接脚(pin)的电性测试。接着,在步骤102中,本领域技术人员会观察每一半导体组件的各项封装后测试项目的结果,以便找出封装后测试结果有偏差的产品。步骤103是由本领域技术人员根据经验,以及从步骤102中所选出的异常产品的封装后测试结果,来判断可能有问题的工艺站别,如封装工艺,或是其它测试资料的站别有问题,如线上品质检测站别、样品测试站别等。最后,在步骤104中,本领域技术人员检查步骤103所判断的工艺站别中的各机台,以 ...
【技术保护点】
一种封装后测试参数分析方法,其特征在于:用以分析多批分别具有一批号的产品,该多批产品经过多个机台所制得,而每批产品中的每一片晶片经过多道封装后测试项目的检测以产生多个封装后测试参数值,这些封装后测试项目、这些封装后测试参数值、及与这些封装后测试项目相关的一封装工艺站别储存于一数据库中,该封装后测试参数分析方法包含: 搜寻该数据库以取得该多批产品的封装后测试参数值; 比较这些封装后测试参数值以选出一具代表性的封装后测试参数值及相对应的一具代表性的封装后测试项目; 判断该具代表性的封装后测试项目是否与该封装工艺站别相关; 当判断该具代表性的封装后测试项目与该封装工艺站别相关时,依据该具代表性的封装后测试项目将该多批产品区分为至少二个第一产品组,这些第一产品组包含一个第一合格产品组及一个第一不合格产品组; 搜寻该第一合格产品组于该封装工艺站别所经过的机台; 搜寻该第一不合格产品组于该封装工艺站别所经过的机台;以及 判断该第一不合格产品组经过机率高于该第一合格产品组经过机率的机台。
【技术特征摘要】
1.一种封装后测试参数分析方法,其特征在于用以分析多批分别具有一批号的产品,该多批产品经过多个机台所制得,而每批产品中的每一片晶片经过多道封装后测试项目的检测以产生多个封装后测试参数值,这些封装后测试项目、这些封装后测试参数值、及与这些封装后测试项目相关的一封装工艺站别储存于一数据库中,该封装后测试参数分析方法包含搜寻该数据库以取得该多批产品的封装后测试参数值;比较这些封装后测试参数值以选出一具代表性的封装后测试参数值及相对应的一具代表性的封装后测试项目;判断该具代表性的封装后测试项目是否与该封装工艺站别相关;当判断该具代表性的封装后测试项目与该封装工艺站别相关时,依据该具代表性的封装后测试项目将该多批产品区分为至少二个第一产品组,这些第一产品组包含一个第一合格产品组及一个第一不合格产品组;搜寻该第一合格产品组于该封装工艺站别所经过的机台;搜寻该第一不合格产品组于该封装工艺站别所经过的机台;以及判断该第一不合格产品组经过机率高于该第一合格产品组经过机率的机台。2.如权利要求1所述的封装后测试参数分析方法,其特征在于该具代表性的封装后测试项目为一扼杀封装后测试项目。3.如权利要求1所述的封装后测试参数分析方法,其特征在于利用共通性分析手法来判断该第一不合格产品组经过机率高于该第一合格产品组经过机率的机台。4.如权利要求1所述的封装后测试参数分析方法,其特征在于每批产品中的每一片晶片经过与该封装后测试项目相关的一线上品质检测项目及一样品测试项目的检测以产生一线上品质检测参数值及一样品测试参数值,该数据库更储存有该线上品质检测项目、该样品测试项目、该线上品质检测参数值及该样品测试参数值,该封装后测试参数分析方法还包含当判断该具代表性的封装后测试项目与该封装工艺站别不相关时,依据该具代表性的封装后测试项目将该多批产品区分为至少二个第二产品组,这些第二产品组包含一个第二合格产品组及一个第二不合格产品组;自该数据库中分别搜寻该第二合格产品组及该第二不合格产品组中与该具代表性的封装后测试项目相关的该线上品质检测项目及该样品测试项目其中的至少一个、及相对应的该线上品质检测参数值及该样品测试参数值其中的至少一个;以统计方式分析该第二不合格产品组的搜寻结果与该第二合格产品组的搜寻结果是否有差异;当搜寻结果的分析结果为无差异时,停止分析动作;当搜寻结果的分析结果为有差异时,依据一预设规格以统计方式分析该第二不合格产品组的不合规格部分与该第二合格产品组的不合规格部分是否为明显差异;当依据该预设规格的分析结果为有明显差异时,判断造成该具代表性的封装后测试参数值过高的原因为所搜寻到的与该具代表性的封装后测试项目相关的该线上品质检测项目及该样品测试项目其中的至少一个的测试结果偏移;当依据该预设规格的分析结果为无明显差异时,依据一缩小规格以统计方式分析...
【专利技术属性】
技术研发人员:戴鸿恩,陈建中,
申请(专利权)人:力晶半导体股份有限公司,
类型:发明
国别省市:71[中国|台湾]
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