涡流式足浴器制造技术

一种涡流式足浴器。为提供一种能扩大刺激按摩范围、能对足部任何部位进行保健按摩、按摩效果好的足浴器，提出本实用新型专利技术，它包括座体、电机、涡轮及按摩介质。座体构成一个以上的浴腔，其底部设有通孔。电机固定安装在座体底部外侧，并令其上输出轴对应于座体的通孔。涡轮固定安装在电机输出轴上。按摩介质置于座体浴腔内，并随旋转的涡轮作涡流运动。（*该技术在2008年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】本技术属于保健按摩用具，特别是一种涡流式足浴器。足浴及足部反射保健疗法是我国传统医学的疗法。目前用于足部保健的足浴器通常为药液浸泡足浴、偏心震动式足浴器及电磁震动式足浴器等。使用这些足浴器虽能对足部进行不同程度的刺激按摩，但其刺激按摩范围较窄，通常为只能进行对足部低位保健按摩的低位足浴。本技术的目的是提供一种能扩大刺激按摩范围、能对足部任何部位进行保健按摩、按摩效果好的涡流式足浴器。本技术包括座体、电机、涡轮及按摩介质。座体构成一个以上的浴腔，其底部设有通孔。电机固定安装在座体底部外侧，并令其上输出轴对应于座体的通孔。涡轮固定安装在电机输出轴上。按摩介质置于座体浴腔内，并随旋转的涡轮作涡流运动。其中座体构成两个浴腔；在座体顶部周边设有对应于浴腔的两个腿托。按摩介质为水。按摩介质为复数个按摩球。按摩介质为水及置于水内的复数个按摩球。作为按摩介质的水内溶有药物。作为按摩介质的按摩球包括球体及均匀栽植在球体表面的纤维束。作为按摩介质的按摩球表面径向朝外均匀延设凸起。作为按摩介质的按摩球为由混合药物的高分子化合物制成的药物缓释体。作为按摩介质的按摩球包括构成中空腔的球状壳体及置于球状壳体中空腔内的药液；球状壳体周壁设有注药孔及释药孔；在注药孔处延设构成潜型通道的弹性管柱。由于本技术包括座体、电机、涡轮及按摩介质。座体构成一个以上的浴腔，其底部设有通孔。电机固定安装在座体底部外侧，并令其上输出轴对应于座体的通孔。涡轮固定安装在电机输出轴上。按摩介质置于座体浴腔内，并随旋转的涡轮作涡流运动。使用时，藉助由电机驱动的涡轮，置于座体浴腔内的按摩介质高速旋转，并形成涡流运动，使按摩介质对足底、足内、足外、脚背、小腿及足三里等反射区进行按摩，不仅能扩大刺激按摩范围、能对足部任何部位进行保健按摩，而且按摩效果好，从而达到本技术的目的。附图说明图1、为本技术结构示意剖面图。图2、为本技术结构示意俯视图。图3、为本技术中按摩球结构示意剖面图(实施例一)。图4、为本技术中按摩球结构示意剖面图(实施例二)。图5、为本技术中按摩球结构示意剖面图(实施例三)。以下结合附图对本技术进一步详细阐述。如图1、图2所示，本技术包括座体1、腿托2、电机3、涡轮4及按摩介质5。座体1构成两个浴腔11，在座体1顶部周边设有分别对应于两个浴腔11的两个腿托安装螺孔12。座体1的底部设有分别与两个浴腔11贯通的通孔13。腿托2具有呈圆弧形托板21，并自托板21两侧向上延设侧翼板22，自托板21底面向下延设支杆23，支杆23底端设有与座体1顶部周边安装螺孔12相螺合的外螺纹，以便将腿托2螺装在座体1安装螺孔12内时调整腿托2的高度。电机3固定安装在座体1底部外侧，并令其上输出轴31穿过座体1底部的通孔13延伸入浴腔11内，在电机3输出轴31与通孔13之间设有密封件14。涡轮4固定安装在电机3输出轴31上。按摩介质5可为水51、溶有药物的水52、复数个按摩球53(54、55)及水52与置于水52内的复数个按摩球53(54、55)。按摩球53(54、55)的比重等于或略大于水。如图3所示，按摩球53包括球体531及均匀栽植在球体531表面的纤维束532。球体531为由医用乳胶、天然橡胶等制成的无毒、无刺激柔软弹性体，其直径约为10mm左右。纤维束532可为3～5mm左右的动物鬃毛、合成纤维等。如图4所示，按摩球54为由混合药物的高分子化合物，如混合药物的淀粉与乙基纤维素制成的药物缓释体。按摩球54表面径向朝外均匀延设呈柱状、圆锥状、半球状凸起541。如图5所示，按摩球55包括构成中空腔5511的球状壳体551及置于球状壳体551中空腔5511内的药液552。球状壳体551周壁设有一个注药孔5512及复数个释药孔5513。在注药孔5512处自周壁向内延设构成潜型通道的弹性管柱5514。在释药孔5513处向外延设构成毛细孔的圆锥状凸起5515。作为按摩介质的水51；或溶有药物的水52；或复数个按摩球53(54、55)；或水51(52)与置于水51(52)内的复数个按摩球53(54、55)置于座体1的浴腔11内。使用时，使用者坐在椅子6上(椅子6底部亦可与座体1底部联成一体)，将双腿架于座体1顶部周边的两个腿托2上，以使对足置于按摩介质5内，但不与浴腔11底部及涡轮4接触。启动电机3，藉助由电机3驱动的涡轮4，推动置于座体1浴腔11内的按摩介质5随旋转的涡轮4高速旋转，并形成涡流运动，对足底、足内、足外、脚背、小腿及足三里等反射区进行按摩。在按摩介质5为水51(52)及置于水51(52)内的按摩球53(54、55)的浴腔11中，作涡流运动的水51(52)在对足底进行弱水按摩的同时，带动置于水51(52)中的复数个按摩球53(54、55)在浴腔11内作悬浮沉降的有序运动，对足的各个部位进行按摩。当使采用如图4所示的按摩球54时，按摩球54在浴腔11内水中作悬浮沉降对足部进行按摩的同时，作为缓释体的按摩球54中的药物徐徐溶解在水中而逐渐附着在足部被吸收。当采用如图5所示的按摩球55时，按摩球55在浴腔11内水中作悬浮沉降对足部进行按摩的同时，经注药孔5512注入球状壳体551中空腔5511内的药液552藉助毛细现象自复数个释药孔5513溢出，溶解在水51中而逐渐附着在足部被吸收。本技术亦可在一般能形成涡流的高波轮洗衣机的筒腔内置入作为按摩介质5的水51、溶有药物的水52、复数个按摩球53(54、55)及水51(52)与置于水51(52)内的复数个按摩球53(54、55)，对足的各个部位进行按摩。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种涡流式足浴器，其特征在于它包括座体、电机、涡轮及按摩介质；座体构成一个以上的浴腔，其底部设有通孔；电机固定安装在座体底部外侧，并令其上输出轴对应于座体的通孔；涡轮固定安装在电机输出轴上；按摩介质置于座体浴腔内，并随旋转的涡轮作涡流运动。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种涡流式足浴器，其特征在于它包括座体、电机、涡轮及按摩介质；座体构成一个以上的浴腔，其底部设有通孔；电机固定安装在座体底部外侧，并令其上输出轴对应于座体的通孔；涡轮固定安装在电机输出轴上；按摩介质置于座体浴腔内，并随旋转的涡轮作涡流运动。2.根据权利要求1所述的涡流式足浴器，其特征在于在所述的座体构成两个浴腔；在座体顶部周边设有对应于浴腔的两个腿托。3.根据权利要求1或2所述的涡流式足浴器，其特征在于所述的按摩介质为水。4.根据权利要求1或2所述的涡流式足浴器，其特征在于所述的按摩介质为复数个呈球体状按摩球。5.根据权利要求1或2所述的涡流式足浴器，其特征在于所述的按摩介质为水及置于水内的复数个呈球体状按摩球。6.根据权利要求3所述的涡流式足浴器，其特征在于所述的作为按摩介质的水内溶有药物。7.根据权利要求4所述的涡流式足浴器，其特征在于所述的作为按摩介质的按摩球包括球体及均匀栽植在球体表面的纤维束。8.根据权利要求4所述的涡流式足浴器，其特征在于所述的作为按摩介质的...

【专利技术属性】
技术研发人员：孙宝麒，
申请(专利权)人：华北石油管理局第十二综合服务处职工医院，
类型：实用新型
国别省市：13[中国|河北]