一种用于纳米级二氧化硅生产的气流粉碎设备制造技术

本实用新型专利技术公开了一种用于纳米级二氧化硅生产的气流粉碎设备，包括用于盛放纳米级二氧化硅生产粉碎的箱筒装置，还包括用于输送纳米级二氧化硅气流的输气装置，所述箱筒装置上设置有用于喷射粉碎气流和形成气流涡流的管道装置；所述箱筒装置包括箱筒体，所述箱筒体底部圆周均匀焊接有若干支撑腿，所述箱筒体底部中间设置有出料管，所述箱筒体前后对称焊接有两个进料管。本实用新型专利技术所述的一种用于纳米级二氧化硅生产的气流粉碎设备，通过涡流汇集的设置，使大颗粒原料二次碰撞粉碎，提高了粉碎效率；通过涡流汇集的设置，使含有原料碎末的气流汇集排出，加快了排出速度；通过分层气流的设置，保证了气流粉碎和涡流汇集的同时进行。行。行。

【技术实现步骤摘要】
一种用于纳米级二氧化硅生产的气流粉碎设备


[0001]本技术属于纳米级二氧化硅生产领域，特别是涉及一种用于纳米级二氧化硅生产的气流粉碎设备。

技术介绍

[0002]纳米二氧化硅是一种无机化工材料，俗称白炭黑。由于是超细纳米级，尺寸范围在1～100nm，因此具有许多独特的性质，如具有对抗紫外线的光学性能，能提高其他材料抗老化、强度和耐化学性能。用途非常广泛。纳米级二氧化硅为无定形白色粉末，无毒、无味、无污染，微结构为球形，呈絮状和网状的准颗粒结构，分子式和结构式为SiO2，不溶于水。
[0003]但在现有技术中，用于纳米级二氧化硅生产的气流粉碎设备：1、没有涡流汇集的设置，不能使大颗粒原料二次碰撞粉碎，粉碎效率低；2、不方便使含有原料碎末的气流汇集排出，排出速度缓慢；3、没有分层气流的设置，无法保证气流粉碎和涡流汇集的同时进行。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供一种用于纳米级二氧化硅生产的气流粉碎设备，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
[0005]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：
[000本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于纳米级二氧化硅生产的气流粉碎设备，包括用于盛放纳米级二氧化硅生产粉碎的箱筒装置(1)，其特征在于：还包括用于输送纳米级二氧化硅气流的输气装置(2)，所述箱筒装置(1)上设置有用于喷射粉碎气流和形成气流涡流的管道装置(3)；所述箱筒装置(1)包括箱筒体(101)，所述箱筒体(101)底部圆周均匀焊接有若干支撑腿(102)，所述箱筒体(101)底部中间设置有出料管(104)，所述箱筒体(101)前后对称焊接有两个进料管(103)，所述箱筒体(101)内设置有粉碎腔(105)；所述输气装置(2)包括集气罩(201)，所述集气罩(201)顶部安装有横流风机(202)，所述横流风机(202)前面安装有电动机(203)，所述横流风机(202)一侧设置有排气管(204)；所述管道装置(3)包括均匀设置的六个喷气头(301)，每三个所述喷气头(301)外侧连接一个均气盒(302)，所述均气盒(302)外侧安装有管接头(303)，所述喷气...

【专利技术属性】
技术研发人员：周玲，
申请(专利权)人：周玲，
类型：新型
国别省市：