印泥机构及应用有该印泥机构的印章设备制造技术

本实用新型专利技术涉及一种印泥机构及应用有该印泥机构的印章设备，印泥机构包括印泥保护层和密封结构，印泥保护层具有位于其上侧的印泥层，印泥保护层能配合安装在印章外壳内且设置在位于印章外壳内的印章体的下端，且印泥保护层可被从印章体的下方移离以露出印章外壳的出章口；密封结构设置在印泥保护层的上端且能够密封住印泥层，密封结构具有将与印章体的印章面配合接触的印泥露出的开口。通过在印泥机构中设置可以从印章体的下方移离的印章保护板以及能够密封住印泥层的密封结构，印章保护板的上方设置印泥层，从而可以在不需要印章设备加盖印章时，密封住印泥，避免因印泥层中印泥的水分蒸发而影响印泥的正常使用。泥的水分蒸发而影响印泥的正常使用。泥的水分蒸发而影响印泥的正常使用。

【技术实现步骤摘要】
印泥机构及应用有该印泥机构的印章设备


[0001]本技术涉及印章设备领域，尤其涉及一种印泥机构及应用有该印泥机构的印章设备。

技术介绍

[0002]印章作为一种较强的防伪措施，已经被广泛地应用于各种文件、协议、凭证、票据等书面材料上。只要在书面材料上加盖了合法备案的印章，就表示印章合法持有人对当前文件、协议等书面材料的内容从法理上表示认可和同意。随着从人工施压盖章的传统印章设备向智能化施压盖章的智能印章设备发展，印章设备的结构也随之不断发生着新的变化。
[0003]现有的智能印章设备通常包括印章体、印章外壳、驱动机构和印泥层，印章外壳具有出章口，印章体位于印章外壳的内侧。需要盖章时，驱动机构令印章体的盖章面(或者称印章面)先接触印泥层，以涂上印泥，然后再将印有印泥的印章体推送至印章外壳的出章口外侧，使得被推出的该印章体的盖章面(或者称印章面)顶压到待盖章物体表面，完成盖章操作。不需要盖章时，由驱动机构再将位于出章口外侧的印章体来回至印章外壳的内侧，避免印章体一直处于出章口外侧。
[0004]但是，现有的智能印章设备存在一些问题：在启动印章过程或者未启动印章时，印泥层始终是暴露在印章外壳的内侧，印泥中的水分因蒸发逐渐减少，甚至导致印泥最终变干，无法正常使用，这给该印章设备的印章操作带来极大不便，也造成印泥浪费。

技术实现思路

[0005]本技术所要解决的第一个技术问题是提供一种印泥机构。该印泥机构能够在印章设备的印章体不使用印泥时，密封印泥，避免因印泥中水分蒸发而影响印泥正常使用。
[0006]本技术所要解决的第二个技术问题是提供一种应用有上述印泥机构的印章设备。
[0007]本技术所要解决的第三个技术问题是提供另外一种应用有上述印泥机构的印章设备。
[0008]本技术解决第一个技术问题所采用的技术方案为：印泥机构，其特征在于，包括：
[0009]印泥保护层，具有位于其上侧的印泥层，该印泥保护层能配合安装在印章外壳内且设置在位于印章外壳内的印章体的下端，且印泥保护层可被从印章体的下方移离以露出印章外壳的出章口；
[0010]密封结构，设置在印泥保护层的上端且能够密封住印泥层；其中，该密封结构具有将与印章体的印章面配合接触的印泥露出的开口。
[0011]进一步地，在所述印泥机构中，所述密封结构为密封圈，该密封圈具有至少一个位于印泥保护层边沿内侧的第一边缘，该密封圈与印泥保护层之间设置有至少一个支撑杆，
支撑杆的第一端设置在印泥保护层上，支撑杆的第二端顶触密封圈的第一边缘。
[0012]改进地，在所述印泥机构中，所述密封圈具有至少一个位于印泥保护层边沿外侧的第二边缘；其中，在印泥层被密封结构密封时，该密封圈的第二边缘被一支撑部件顶触。
[0013]进一步地，在该技术中，所述印泥机构，还包括：
[0014]底盖，位于印泥保护层的下端，该底盖可拆卸地配合安装在印章外壳的出章口外侧；
[0015]支撑件，设置在印泥保护层与底盖之间；其中，该支撑件即为所述的支撑部件。
[0016]优选地，在所述印泥机构中，所述支撑件与所述底盖为两个独立的部件；或者，所述支撑件与所述底盖为一个集成件。
[0017]进一步地，在所述印泥机构中，所述支撑件包括：
[0018]支撑件主体，设置在底盖的上端面且能配合安装在印章外壳的出章口外侧；
[0019]支撑部，形成于支撑件主体且朝着印泥保护层的方向凸起于该支撑件主体；在印泥层被密封结构密封时，该支撑件顶触密封圈的第二边缘。
[0020]本技术解决第二个技术问题所采用的技术方案为：印章设备，包括印章外壳，印章外壳具有出章口，其特征在于，该印章设备应用有任一项所述的印泥机构。
[0021]本技术解决第三个技术问题所采用的技术方案为：印章设备，包括印章外壳，印章外壳具有出章口，其特征在于，该印章设备应用有所述的印泥机构，出章口形成于印章外壳的底板上，该底板上形成有位于出章口外侧且配合支撑件插入的插槽。
[0022]与现有技术相比，本技术的优点在于：通过在印泥机构中设置可以从印章体的下方移离的印章保护板以及能够密封住印泥层的密封结构，印章保护板的上方设置印泥层，从而可以在不需要印章设备加盖印章时，密封住印泥，避免因印泥层中印泥的水分蒸发而影响印泥的正常使用，也避免了印泥浪费，确保了印章设备的正常使用。
附图说明
[0023]图1为本技术实施例中的印泥机构在密封印泥前状态的剖视图；
[0024]图2为印泥机构在密封印泥过程中状态的剖视图；
[0025]图3为印泥机构在密封住印泥时所对应状态的剖视图；
[0026]图4为图3所示状态的印泥机构的俯视图；
[0027]图5为本技术实施例中印章设备处于封闭印泥状态时所对应结构的剖视图；
[0028]图6为本技术实施例中印章外壳的底部结构示意图。
具体实施方式
[0029]以下结合附图实施例对本技术作进一步详细描述。
[0030]本实施例提供一种应用到印章设备上的印泥机构。具体地，参见图1～3所示，该实施例的印泥机构包括印泥保护层21、密封结构22、至少一个支撑杆23、底盖24和支撑件25，密封结构22采用密封圈，密封圈为矩形状；印泥保护层21具有位于其上侧的印泥层210，例如，印泥保护层21的上端面形成有印泥存储槽(图中未示出)，印泥层210就位于该印泥存储槽内，该印泥保护层21能配合安装在印章外壳1内且设置在位于印章外壳1内的印章体3的下端，且印泥保护层21可被从印章体3的下方移离以露出印章外壳1的出章口10；密封结构
22设置在印泥保护层21的上端且能够密封住印泥层210，该密封结构22具有将与印章体3的印章面配合接触的印泥露出的开口。密封圈具有至少一个位于印泥保护层21边沿内侧的第一边缘221和至少一个位于印泥保护层21边沿外侧的第二边缘222，支撑杆23位于密封圈与印泥保护层21之间，支撑杆23的第一端设置在印泥保护层21上，比如说，支撑杆23的第一端固定连接到该印泥保护层21的上端面上，支撑杆23的第二端顶触密封圈的第一边缘221。在印泥层210被密封结构22密封时，该密封圈的第二边缘222被一支撑部件顶触。底盖24位于印泥保护层21的下端，该底盖24可拆卸地配合安装在印章外壳1的出章口10外侧。在该实施例中，支撑件25设置在印泥保护层21与底盖24之间，该支撑件25即为前述的支撑部件。支撑件25与底盖24为两个独立的部件，也可以把支撑件25与底盖24合并成一个整体部件，即支撑件25与底盖24为一个集成件。
[0031]参见图1～3所示，支撑件25包括支撑件主体251和支撑部252，支撑件25设置在底盖24的上端面；支撑部252形成于支撑件主体251且朝着印泥保护层21的方向凸起于该支撑件主体251；其中，在印泥层210被密封结构22密封时，即印泥层被密封圈密封后，支本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.印泥机构，其特征在于，包括：印泥保护层(21)，具有位于其上侧的印泥层(210)，该印泥保护层(21)能配合安装在印章外壳(1)内且设置在位于印章外壳(1)内的印章体(3)的下端，且印泥保护层(21)可被从印章体(3)的下方移离以露出印章外壳(1)的出章口(10)；密封结构(22)，设置在印泥保护层(21)的上端且能够密封住印泥层(210)；其中，该密封结构(22)具有将与印章体(3)的印章面配合接触的印泥露出的开口(220)。2.根据权利要求1所述的印泥机构，其特征在于，所述密封结构(22)为密封圈，该密封圈具有至少一个位于印泥保护层(21)边沿内侧的第一边缘(221)，该密封圈与印泥保护层(21)之间设置有至少一个支撑杆(23)，支撑杆(23)的第一端设置在印泥保护层(21)上，支撑杆(23)的第二端顶触密封圈的第一边缘(221)。3.根据权利要求2所述的印泥机构，其特征在于，所述密封圈具有至少一个位于印泥保护层(21)边沿外侧的第二边缘(222)；其中，在印泥层(210)被密封结构(22)密封时，该密封圈的第二边缘(222)被一支撑部件顶触。4.根据权利要求3所述的印泥机构，其特征在于，还包括：底盖(24)，位于印泥保护层(21)的下端，该底盖(24)可拆...

【专利技术属性】
技术研发人员：邓学胜，
申请(专利权)人：邓学胜，
类型：新型
国别省市：