光刻机像质检测技术中曝光剂量范围的确定方法技术

本发明专利技术提供了一种省时、有效的确定ＦＯＣＡＬ技术曝光剂量范围的方法。基于ＦＯＣＡＬ技术的基本原理，最佳曝光剂量下的精细结构线宽与离焦量之间需满足一定的变化规律。以最佳曝光剂量下的精细结构线宽与离焦量的变化规律，作为确定曝光剂量范围的限定条件，通过分析不同曝光剂量下的精细结构线宽与离焦量的关系曲线，可将不满足此限定条件的曲线所对应曝光剂量排除在ＦＯＣＡＬ曝光剂量范围之外，从而实现ＦＯＣＡＬ曝光剂量范围快速、有效的确定。该方法为一个模拟过程，在计算机上利用现有软件即可实现。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光刻机像质检测过程中一种确定曝光剂量范围的方法，特别涉及FOCAL技术中一种通过计算机模拟方式确定曝光剂量范围的方法。
技术介绍
光刻机的成像质量直接影响光刻机的CD均匀性、套刻精度、焦深、曝光宽容度等关键性能指标。因此光刻机成像质量的现场检测技术不可或缺。FOCAL(Focus calibration using alignment procedure)技术是一种用于高分辨力光刻机的像质检测技术，可以现场高精度检测最佳像面、像面倾斜、场曲、像散等像质参量(参见在先技术1，Peter Dirksen，Jan E.Van Der Werf.“Method ofrepetitively imaging a mask pattern on a substrate，and apparatus for performing themethod”，美国专利申请号5,674,650)。在先技术1中详细论述了FOCAL技术的基本原理。FOCAL技术是在最佳曝光剂量下，将一种特殊的标记图形——FOCAL标记图形依次成像在处于不同离焦面的硅片上。与普通光刻机对准标记不同，FOCAL标记本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种在光刻机ＦＯＣＡＬ像质检测过程中确定曝光剂量范围的方法（１００），其特征在于，采用如下步骤：　　　　（ａ）确定ＦＯＣＡＬ测试的照明条件与工艺条件阶段（１１）；　　　　（ｂ）确定需要用光刻仿真软件仿真的掩模图形与相应尺寸阶段（１２）；　　　　（ｃ）确定仿真过程的离焦量与离焦步进量阶段（１３）；　　　　（ｄ）确定仿真过程的最小曝光剂量与最大曝光剂量阶段（１４）；　　　　（ｅ）光刻仿真软件模拟阶段（１５）；输入步骤（ａ）至（ｄ）所确定的参数，得到经曝光、后烘、显影后不同曝光剂量、不同离焦量所对应的所述标记图形的线宽；　　　　（ｆ）确定ＦＯＣＡＬ曝光剂量范围的最小值阶段（１６）；分析仿真得到的不同...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：张冬青，王向朝，施伟杰，
申请(专利权)人：上海微电子装备有限公司，
类型：发明
国别省市：31[中国|上海]