定盘、载物台装置及曝光装置以及曝光方法制造方法及图纸

本发明专利技术是关于一种定盘、载物台装置及曝光装置以及曝光方法，能够抑制因曝光用的液体的泄漏和浸入所带来的影响，并可进行良好的曝光处理。定盘４１具有用于支持物体的支持表面４１Ａ。使定盘４１具有拨液性，且设有用于从定盘４１回收液体的回收装置７１。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种，特别是涉及一种对载物台上的基板，通过投影光学系统和液体进行曝光时所适合使用的。
技术介绍
半导体元件和液晶显示元件，利用将掩膜(mask)上所形成的图案转印到感光性的基板上的所谓的光蚀刻方法(photolithography)进行制造。在该光蚀刻工程中所使用的曝光装置，具有用于支持掩膜的掩膜载物台和用于支持基板的基板载物台，并依次移动掩膜载物台及基板载物台，且将掩膜的图案通过投影光学系统转印到基板上。近年来，为了对应元件图案的进一步的高集成化，要求投影光学系统具有更高的图像分辨率。使用的曝光波长越短，或投影光学系统的数值孔径越大，则投影光学系统的图像分辨率越高。因此，曝光装置所使用的曝光波长逐年缩短，投影光学系统的数值孔径也正在增大。而且，虽然现在主流的曝光波长为KrF激态复合物激光器的248nm，但更短波长的ArF激态复合物激光器的193nm也正在被实用化。而且，在进行曝光时，聚焦深度(DOF)与图像分辨率同样重要。图像分辨率R及聚焦深度δ分别利用以下的式子进行表示。R＝k1·λ/NA····(1)δ＝±k2·λ/NA2····(2)这里，λ为曝光波长，NA本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种定盘，为具有用于支持物体的支持表面的定盘，其特征在于：使前述定盘具有拨液性，且设有从前述定盘回收液体的回收装置。

【技术特征摘要】
JP 2003-10-31 2003-3730841.一种定盘，为具有用于支持物体的支持表面的定盘，其特征在于使前述定盘具有拨液性，且设有从前述定盘回收液体的回收装置。2.根据权利要求1所述的定盘，其特征在于其中所述的回收装置具有使前述液体向前述支持表面的下方流出的倾斜部。3.一种载物台装置，为具有用于保持在表面被供给液体的基板的可动体、移动自如地支持该可动体的定盘的载物台装置，其特征在于其中设有当前述液体流出到前述定盘上时，能够将该流出的前述液体进行回收的回收装置。4.根据权利要求3所述的载物台装置，其特征在于其中所述的回收装置具有沿前述定盘的外周设置的回收部。5.根据权利要求4所述的载物台装置，其特征在于其中所述的回收部具有使前述液体向前述基板表面的下方流出的倾斜部。6.根据权利要求4或5所述的载物台装置，其特征在于其中所述的回收部具有拨液性。7.根据权利要求3所述的载物台装置，其特征在于其中所述的定盘具有拨液性。8.根据权利要求3所述的载物台装置，其特征在于其中所述的定盘的上方所设置的载物台构成体，具有使前述液体向前述基板表面的下方流出的第2倾斜部。9.根据权利要求8所述的载物台装置，其特征在于在其中所述的第2倾斜部的下末端形成有贯通前述载物台构成体的贯通孔。10.根据权利要求8或9所述的载物台装置，其特征在于其中所述的载物台构成体具有拨液性。11.根据权利要求3所述的载物台装置，其特征在于具有使前述定盘倾斜，排除在前述定盘的表面所残留的前述液体的排除装置。12.根据权利要求3所述的载物台装置，其特征在于具有向前述定盘的表面喷射流体，排除所残留的前述液体的第2排除装置。13.一种曝光装置，为将掩膜的图案通过投影光学系统进行曝光在基板载物台所保持的感光基板上的曝光装置，其特征在于作为前述基板载物台，使用权利要求3至12中的任一项所述的载物台装置，...

【专利技术属性】
技术研发人员：荒井大，
申请(专利权)人：株式会社尼康，
类型：发明
国别省市：JP[日本]