【技术实现步骤摘要】
支撑单元和包括该支撑单元的基板处理装置
[0001]本文描述的本专利技术构思的实施方式涉及一种支撑单元和一种基板处理装置，更具体地，涉及一种用于在加热基板的同时执行基板处理工艺的支撑单元，以及一种包括该支撑单元的基板处理装置。
技术介绍
[0002]通常，在制造平板显示装置或半导体元件的过程中，执行各种工艺，例如光致抗蚀剂涂覆工艺、显影工艺、蚀刻工艺、灰化工艺等以处理玻璃基板或晶片。在每个工艺中，执行使用化学品或去离子水的湿法清洁工艺和用于干燥残留在基板表面上的化学品或去离子水的干燥工艺，以去除附着在基板上的各种污染物。
[0003]近年来，已经使用在高温下使用诸如硫酸或磷酸的化学品选择性地去除氮化硅膜和氧化硅膜的蚀刻工艺。在使用高温化学品的基板处理装置中，用于加热基板的基板处理装置用于提高蚀刻速率。美国专利公开No.2016
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0013079中公开了基板处理装置的一个示例。美国专利公开No.2016
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0013079中公开的基板处理装置在旋转头内部具有用于加热基板的灯和用于反射从...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种用于支撑基板的支撑单元，所述支撑单元包括：加热构件；和反射器，其中所述反射器包括曲面，所述曲面被配置为将所述加热构件产生的热能向所述基板的边缘区域反射。2.根据权利要求1所述的支撑单元，其中当从正面观察所述支撑单元时，所述曲面形成虚拟椭圆的一部分。3.根据权利要求2所述的支撑单元，其中所述虚拟椭圆具有第一焦点和第二焦点，并且其中当从正面观察时，所述加热构件位于与所述第一焦点和所述第二焦点中的一个交叠的位置。4.根据权利要求3所述的支撑单元，其中当从正面观察时，所述基板的所述边缘区域与所述第一焦点和所述第二焦点中的另一个交叠。5.根据权利要求2至4中任一项所述的支撑单元，其中所述加热构件包括一个或多个灯，所述一个或多个灯被配置为发射光以加热所述基板。6.根据权利要求5所述的支撑单元，其中所述灯中的至少一些具有半径不同的环形并且彼此同心。7.根据权利要求6所述的支撑单元，其中所述反射器包括：基部，所述基部设置在所述加热构件下方；和突起，所述突起从所述基部向上突出，并且其中所述基部和/或所述突起包括所述曲面。8.根据权利要求7所述的支撑单元，其中当俯视时，所述突起设置在所述灯当中的最外面的灯和与所述最外面的灯相邻的灯之间。9.根据权利要求7所述的支撑单元，其中所述突起包括：第一突起，所述第一突起包括第一曲面，所述第一曲面被配置为将所述热能向所述基板的所述边缘区域上的第一位置反射；和第二突起，所述第二突起包括第二曲面，所述第二曲面被配置为将所述热能向所述基板的所述边缘区域上的第二位置反射，所述第二位置不同于所述第一位置。10.根据权利要求9所述的支撑单元，其中当从正面观察时，所述第一曲面形成第一虚拟椭圆的一部分，并且其中当从正面观察时，所述第二曲面形成第二虚拟椭圆的一部分，所述第二虚拟椭圆与所述第一虚拟椭圆具有不同的焦点。11.根据权利要求10所述的支撑单元，其中所述支撑单元还包括：卡盘，所述卡盘被配置为支撑所述基板；和旋转致动器，所述旋转致动器被配置为旋转所述卡盘。12.根据权利要求11所述的支撑单元，其中所述反射器和所述加热构件独立于所述卡盘的旋转。13.一种用于处理基板的装置，所述装置包括：支撑单元，所述支撑单元被配置为支撑所述基板；和液体分配单元，所述液体分配单元被配置为将处理液分配到被支撑在所述支撑单元上
的所述基板上，其中所述支撑单元包括：卡盘...
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