一种石英管清洗干燥装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种石英管清洗干燥装置，包括：底部具敞口的清洗罩与清洗罩沿垂直方向活动插接装配的底座，设置于底座内并箍持石英管的承载台，以及第一驱动装置；清洗罩的顶部内置一清洗帽及驱动清洗帽作升降运动的第二驱动装置，清洗帽遮蔽石英管的弧形封闭端并与石英管的弧形封闭端分离，清洗帽的内壁面设置侧向连续间隔布置的若干第一喷嘴；底座嵌设回旋密封装置，承载台垂直设置内喷管，内喷管沿垂直方向连续贯穿承载台与回旋密封装置；第一驱动装置驱动承载台旋转，内喷管在承载台旋转过程中保持静止。本发明专利技术有效地解决了石英管在旋转清洗过程中可能发生的倾覆及旋转姿态不稳定的问题，满足了不同直径石英管的清洗与干燥需求。需求。需求。

【技术实现步骤摘要】
一种石英管清洗干燥装置


[0001]本专利技术涉及半导体设备耗材清洗设备
，尤其涉及一种石英管清洗干燥装置。

技术介绍

[0002]石英管是半导体器件制造设备(例如化学气相沉积(CVD)、物理气相沉积(PVD)、扩散设备(Diff)或者成膜设备(T/F)等)中普遍使用的半导体设备耗材。石英管在前述半导体设备中使用一段时间后其内壁面会残留大量脏污、金属杂质或者固体颗粒，然而石英管造价昂贵，因此需要在被彻底清洗后予以重复使用，以降低半导体器件的制造成本。
[0003]申请人经过检索后发现公开号为CN101181711A的中国专利技术专利公开了一种自动立式石英管清洗机及其清洗工艺。在该现有技术中，石英管(即工件)由工件支架支撑在转盘上，并通过转盘两边相对安装的喷淋管及顶部吊装的管式喷嘴对石英管进行清洗作业，石英管以开口朝上的姿态放置于转盘上。
[0004]首先，该现有技术无法实现大直径石英管的清洗作业，尤其是对于8英寸及12英寸晶圆制成所使用的石英管而言，石英管的体积及质量较大。该现有技术以石英管开口向上的姿态被固定在清洗机中。本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种石英管清洗干燥装置，其特征在于，包括：底部具敞口的清洗罩与清洗罩沿垂直方向活动插接装配的底座，设置于底座内并箍持石英管的承载台，以及第一驱动装置；所述清洗罩的顶部内置一清洗帽及驱动所述清洗帽作升降运动的第二驱动装置，所述清洗帽遮蔽所述石英管的弧形封闭端并与所述石英管的弧形封闭端分离，所述清洗帽的内壁面设置侧向连续间隔布置的若干第一喷嘴；所述底座嵌设回旋密封装置，所述承载台垂直设置内喷管，所述内喷管沿垂直方向连续贯穿承载台与回旋密封装置；所述第一驱动装置驱动承载台旋转，所述内喷管在承载台旋转过程中保持静止。2.根据权利要求1所述的石英管清洗干燥装置，其特征在于，所述清洗罩的侧壁竖直设置若干第二喷嘴，所述内喷管位于承载台上方的顶部和侧部设置若干第三喷嘴，以通过第三喷嘴喷射形成与石英管内部腔体适配的圆柱状喷射束流。3.根据权利要求1或者2所述的石英管清洗干燥装置，其特征在于，所述清洗帽包括：帽体，设置于帽体外壁的至少一个分流管，以及连通分流管并与帽体呈一体式结构的供应管；所述分流管连接设置于清洗帽的内壁面的第一喷嘴，所述第二驱动装置设置沿竖直方向连接所述供应管的吊臂，所述供应管与吊臂刚性连接。4.根据权利要求3所述的石英管清洗干燥装置，其特征在于，所述第二驱动装置包括：第二电机、吊座、轨道本体、被所述第二电机驱动的丝杆，以及套设于丝杆上的滑块，以通过所述滑块纵向连接所述吊臂并驱动所述吊臂作升降运动；所述石英管清洗干燥装置还包括：自上而下平行布置的盖板、顶部安装板、上安装板与下安装板；所述第一驱动装置设置于下安装板上，所述底座嵌入设置于所述上安装板，所述第二驱动装置垂直贯穿顶部安装板，并通过所述吊座固定安装于所述盖板的下方。5.根据权利要求4所述的石英管清洗干燥装置，其特征在于，所述底座包括：底板，自底板环形布置并向上设置的内环壁，所述内环壁径向向外且水平延伸形成底壁，所述底壁的外侧形成垂直环形围合所述底壁的外环壁，所述收容槽由内环壁、底壁及外环壁围合形成；所述承载台沿垂直方向向上形成至少两层直径渐缩且逐级升高布置的定位凸台，...

【专利技术属性】
技术研发人员：华斌，刘国强，宗君颖，
申请(专利权)人：智程半导体设备科技昆山有限公司，
类型：发明
国别省市：